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자기조립박막용 용액이 묻어있는 패턴화된 마이크로몰드를 사용하여 기판을 스탬핑하여 상기 기판을 마이크로패턴화하는 단계(I);
상기 마이크로패턴화된 기판 위에 블록공중합체 용액을 스핀코팅하는 단계(II); 및
상기 스핀코팅된 기판을 용매 어닐링과 디웨팅하는 단계(III)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(I)에서 기판이 Si 또는 Au인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(I)에서 상기 자기조립박막이 알칸산계의 자기조립박막, 유기황계의 자기조립박막 또는 유기규소계의 자기조립박막 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(I)에서 자기조립박막이 HDT(Hexadecanethiol)인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(I)에서 마이크로몰드는 PDMS(poly(dimethylsiloxane))인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(I)에서 마이크로몰드의 패턴이 육각형인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(II)의 블록공중합체 용액의 스핀코팅시 회전속도가 1000 내지 3000 rpm인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(II)의 블록공중합체가 PS-b-PEO(poly[styrene-block-(ethylene oxide)])인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(I)의 저기조립박막은 친수성인 경우, 상기 단계(II)의 블록공중합체가 소수성인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(I)의 자기조립박막은 소수성인 경우, 상기 단계(II)의 블록공중합체가 친수성인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(III)에서 용매 어닐링에 사용되는 용매로서 휘발성 유기 용매를 사용하는 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 11 항에서, 상기 휘발성 유기 용매로서 벤젠을 사용하는 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 용매 어닐링용 용매로서, 휘발성 유기 용매와 물과의 혼합 용매를 사용하는 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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14
제 13 항에서, 상기 혼합 용매가 벤젠과 물의 혼합 용매인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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제 1 항에서, 상기 단계(III)에서 용매 어닐링 시간이 2 ~ 12시간인 것을 특징으로 하는 용매 어닐링과 디웨팅을 이용한 블록공중합체의 나노구조의 패턴화방법
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