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(a) 기판을 냉각된 용액-상기 용액은 복수의 나노구조물들이 분산된 용액임-에 침지시키는 단계; 및
(b) 상기 기판을 상기 용액으로부터 인출함으로써, 상기 복수의 나노구조물들로 상기 기판 위를 코팅하는 단계
를 포함하는 기판을 나노구조물로 코팅하는 방법
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제1항에 있어서,
(c) 상기 (b) 단계 이후에 수행되며, 상기 기판의 온도를 상승시키는 단계를 더 포함하는 기판을 나노구조물로 코팅하는 방법
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제1항에 있어서,
상기 기판은 상기 복수의 나노구조물들의 열팽창계수보다 큰 열팽창계수를 가지는 기판을 나노구조물로 코팅하는 방법
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제1항에 있어서,
상기 용액은 냉각장치에 의하여 냉각되는 기판을 나노구조물로 코팅하는 방법
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제1항에 있어서,
상기 용액의 온도는 상기 용액의 어는점 초과이고 0oC이하인 기판을 나노구조물로 코팅하는 방법
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제1항에 있어서,
상기 복수의 나노구조물들은 탄소 나노튜브들을 구비하는 기판을 나노구조물로 코팅하는 방법
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제1항에 있어서,
상기 (b) 단계에 있어서, 상기 복수의 나노구조물들 중 적어도 어느 하나의 나노구조물은 상기 복수의 나노구조물들 중 다른 적어도 어느 하나의 나노구조물 위에 서로 접촉되어 코팅되는 기판을 나노구조물로 코팅하는 방법
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기판; 및
상기 기판 위에 배치되는 접촉이 강화된 복수의 나노구조물들을 포함하되,
상기 기판과 상기 복수의 나노구조물들 사이의 열팽창계수의 차이에 의하여 상기 복수의 나노구조물들의 상기 접촉이 강화된 회로 기판
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제8항에 있어서,
상기 복수의 나노구조물들의 코팅 후의 온도 변화에 의하여 상기 복수의 나노구조물들이 상기 기판에 비하여 상대적으로 적게 팽창함으로써 상기 나노구조물들의 상기 접촉이 강화된 회로 기판
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제8항에 있어서,
상기 복수의 나노구조물들은 전극으로서 이용되는 회로 기판
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제10 항에 있어서,
상기 전극은 광투과성인 회로 기판
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제8항에 있어서,
상기 복수의 나노구조물들은 탄소 나노튜브들을 구비하는 회로 기판
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기판을 고정하기 위한 기판 고정부;
복수의 나노구조물들이 분산된 용액;
상기 용액의 온도를 냉각시키기 위한 냉각기; 및
상기 기판 고정부 및 상기 용액 사이의 상대적인 위치를 조절함으로써, 상기 기판을 상기 용액에 침지 및 인출하는 위치조절기
를 포함하는 나노구조물 코팅 장치
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제13항에 있어서,
상기 용액의 온도는 상기 용액의 어는점 초과이고 0oC이하인 나노구조물 코팅 장치
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