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마찰대전 에너지하베스터 구조체 및 그 제조방법(Triboelectric energy harvester structure and method of fabricating the same)

  • 기술번호 : KST2018003155
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반구 형상의 양각 패턴의 돔형 어레이를 갖는 유연기판; 및 상기 유연기판의 일면 상에 형성된 금속박막; 을 포함하는 마찰대전 에너지하베스터 구조체를 제공한다.
Int. CL H02N 1/04 (2006.01.01) B82Y 10/00 (2017.01.01)
CPC H02N 1/04(2013.01) H02N 1/04(2013.01) H02N 1/04(2013.01)
출원번호/일자 1020160120093 (2016.09.20)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0031451 (2018.03.28) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.09.20)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이병주 대한민국 대전광역시 서구
2 배희경 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
3 김한 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.09.20 수리 (Accepted) 1-1-2016-0910335-80
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.07.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0528784-31
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2017.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-0948716-30
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.10.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-1074207-25
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.10.30 수리 (Accepted) 1-1-2017-1074208-71
6 등록결정서
Decision to grant
2018.04.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0275381-12
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반구 형상의 양각 패턴의 돔형 어레이를 갖는 유연기판; 및 상기 유연기판의 일면 상에 형성된 금속박막;을 포함하되,상기 유연기판은 실리콘 기판의 일부에 대하여 습식 산화 공정으로서 열산화를 수행하여 실리콘산화돔을 형성한 후에 상기 실리콘산화돔을 제거함으로써 형성된 상기 실리콘산화돔에 대응되는 음각 패턴을 갖는 실리콘 마스터 몰드 상에 코팅전사하여 구현된 것이며, 상기 유연기판의 상기 양각 패턴은 상기 실리콘 마스터 몰드의 상기 음각 패턴에 대응되되, 상기 실리콘 마스터 몰드의 상부 표면에서 상기 음각 패턴으로 연결되는 부분이 각진 부분이 없이 부드러운 곡면으로 이루어짐으로써, 상기 유연기판의 상부 표면에서 상기 양각 패턴으로 연결되는 부분이 부드러운 곡면으로 이루어지며, 상기 양각 패턴의 종단면은 각진 부분이 없이 제 1 곡선 및 제 2 곡선이 부드럽게 연결되어 이루어지되, 상기 제 1 곡선은 상기 유연기판의 상부 표면과 부드럽게 연결되며, 상기 제 1 곡선과 상기 제 2 곡선이 만나는 지점은 변곡점을 형성하는, 마찰대전 에너지하베스터 구조체
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서,상기 유연기판은 PDMS 기판을 포함하며, 상기 금속박막은 티타늄과 알루미늄의 적층박막, 탄탈륨과 구리의 적층박막, 티타늄과 은의 적층박막 또는 크롬과 금의 적층박막을 포함하는, 마찰대전 에너지하베스터 구조체
4 4
제 1 항 및 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 유연기판은 제 1 유연기판 및 제 2 유연기판을 포함하되, 상기 제 1 유연기판의 양각패턴과 상기 제 2 유연기판의 양각패턴은 서로 마주보도록 배치되며,상기 금속박막은 상기 제 1 유연기판의 양각패턴이 구현되는 면 상에 형성된 제 1 금속박막 및 상기 제 2 유연기판의 양각패턴이 구현되는 면의 반대면 상에 형성된 제 2 금속박막을 포함하며,상기 제 1 금속박막과 상기 제 2 금속박막을 전기적으로 연결하는 연결부;를 더 포함하는, 마찰대전 에너지하베스터 구조체
5 5
실리콘 기판의 일부에 대하여 습식 산화 공정을 수행하여 실리콘산화돔을 형성한 후에 상기 실리콘산화돔을 제거함으로써 구현된, 음각 패턴의 돔형 어레이를 갖는 실리콘 마스터 몰드이며, 상기 실리콘 마스터 몰드의 상부 표면에서 상기 음각 패턴으로 연결되는 부분이 부드러운 곡면으로 이루어지는, 실리콘 마스터 몰드를 준비하는 제 1 단계;상기 실리콘 마스터 몰드 상에 폴리머, 유기물질 또는 유전체 물질 중 적어도 어느 하나를 코팅전사하여 양각 패턴의 돔형 어레이를 갖는 유연기판을 형성하는 제 2 단계;상기 유연기판의 일면 상에 금속박막을 형성하는 제 3 단계;를 포함하는, 마찰대전 에너지하베스터 구조체의 제조방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 제 1 단계는 실리콘 기판을 준비하는 단계; 상기 실리콘 기판 상에 블로킹패드 패턴을 형성하는 단계; 상기 블로킹패드 패턴에 의하여 노출되는 상기 실리콘 기판에 대하여 습식 산화 공정을 수행함으로써 상기 실리콘 기판의 일부로부터 실리콘산화돔(silicon oxide dome)을 형성하는 단계; 및 상기 실리콘산화돔을 제거함으로써 음각 패턴의 돔형 어레이를 갖는 실리콘 마스터 몰드를 형성하는 단계;를 포함하는, 마찰대전 에너지하베스터 구조체의 제조방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 실리콘산화돔을 형성하는 단계는 상기 실리콘산화돔의 측부가 상기 블로킹패드 패턴의 하부로 성장하는 단계를 포함하는, 마찰대전 에너지하베스터 구조체의 제조방법
8 8
삭제
9 9
제 6 항에 있어서,상기 실리콘 마스터 몰드를 형성하는 단계에서, 상기 음각 패턴의 종단면은 각진 부분이 없이 제 1 곡선 및 제 2 곡선이 부드럽게 연결되어 이루어지되, 상기 제 1 곡선은 상기 실리콘 마스터 몰드의 상부 표면과 부드럽게 연결되며, 상기 제 1 곡선과 상기 제 2 곡선이 만나는 지점은 변곡점을 형성하는, 마찰대전 에너지하베스터 구조체의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 나노종합기술원 나노 Open Innovation Lab 협력사업 에너지 소자 용 실리콘 기반 공정기술 개발