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이중블록공중합체를 기반으로 한 마이셀 템플릿으로 합성된 금속 나노크리스탈이 삽입된 3차원 구조의 비휘발성 메모리의 제조방법
- 기술번호 : KST2015113382
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명에 따른 금속 나노크리스탈이 삽입된 3차원 구조 비휘발성 메모리의 제조방법은 기판상에 적층된 매몰절연층상에 상기 매몰절연층 평면과 평행한 일 방향으로 연장된 실리콘 기둥을 형성하는 단계; 상기 실리콘 기둥의 중앙부의 측벽상에 터널링 절연층을 형성하는 단계; 상기 터널링 절연층 상에 금속 나노크리스탈을 균일하게 산포하도록 형성하는 단계; 상기 터널링 절연층 상에 제어절연층을 형성하되, 상기 금속 나노크리스탈이 파묻히도록 상기 제어절연층을 형성하는 단계; 상기 실리콘 기둥의 양 측단 각각에 소스 및 드레인을 형성하는 단계; 및 상기 제어절연층을 감싸도록 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 금속 나노크리스탈을 형성하는 단계는, 마이셀 용액을 제조하는 단계; 상기 마이셀 용액에 금속 선구물질을 로딩(loading)하는 단계; 상기 금속 선구물질이 로딩된 마이셀 용액에 적어도 상기 터널링 절연층을 침수시킨 뒤 일정 속도로 빼 내어 상기 터널링 절연층상에 마이셀 템플릿을 형성하는 단계; 상기 마이셀 템플릿을 산소 플라즈마처리하여 나노크리스탈을 합성하는 단계; 및 상기 나노크리스탈을 수소 분위기에서 열처리하는 단계를 포함한다. 비휘발성 메모리(Non-Volatile Memory), 금속 나노크리스탈(Metal Nanocrystal), 3차원 구조의 다중게이트(3-dimensional Multiple Gate), 이중블록공중합체(Diblock Copolymer), 마이셀 템플릿(Micellar Template) |
|---|---|
| Int. CL | H01L 27/115 (2006.01) B82Y 10/00 (2011.01) |
| CPC | H01L 21/28273(2013.01) H01L 21/28273(2013.01) H01L 21/28273(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020090010374 (2009.02.09) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-1026346-0000 (2011.03.25) |
| 공개번호/일자 | 10-2010-0091071 (2010.08.18) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20110404) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | 심판사항 |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2009.02.09) |
| 심사청구항수 | 3 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 최양규 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 2 | 김청진 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 3 | 류승완 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김성호 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 도곡로 *** (역삼동,미진빌딩 *층)(KNP 특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.02.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0079736-27 |
| 2 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2009.02.11 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0082929-14 |
| 3 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2010.10.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0459813-18 |
| 4 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2010.12.14 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0822338-12 |
| 5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2010.12.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0822286-25 |
| 6 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2010.12.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0604463-00 |
| 7 | 명세서 등 보정서(심사전치) Amendment to Description, etc(Reexamination) |
2011.03.02 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 7-1-2011-0008140-27 |
| 8 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.03.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0163760-12 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 삭제 |
| 2 |
2 삭제 |
| 3 |
3 삭제 |
| 4 |
4 삭제 |
| 5 |
5 삭제 |
| 6 |
6 기판상에 적층된 매몰절연층상에 상기 매몰절연층 평면과 평행한 일 방향으로 연장된 실리콘 기둥을 형성하는 단계; 상기 실리콘 기둥의 중앙부의 측벽상에 터널링 절연층을 형성하는 단계; 상기 터널링 절연층 상에 금속 나노크리스탈을 균일하게 산포하도록 형성하는 단계; 상기 터널링 절연층 상에 제어절연층을 형성하되, 상기 금속 나노크리스탈이 파묻히도록 상기 제어절연층을 형성하는 단계; 상기 실리콘 기둥의 양 측단 각각에 소스 및 드레인을 형성하는 단계; 및 상기 제어절연층을 감싸도록 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 금속 나노크리스탈을 형성하는 단계는, 마이셀 용액을 제조하는 단계; 상기 마이셀 용액에 금속 선구물질을 로딩(loading)하는 단계; 상기 금속 선구물질이 로딩된 마이셀 용액에 적어도 상기 터널링 절연층을 침수시킨 뒤 일정 속도로 빼 내어 상기 터널링 절연층상에 마이셀 템플릿을 형성하는 단계; 상기 마이셀 템플릿을 산소 플라즈마처리하여 나노크리스탈을 합성하는 단계; 및 상기 나노크리스탈을 수소 분위기에서 열처리하는 단계를 포함하는, 3차원 구조 비휘발성 메모리의 제조방법 |
| 7 |
7 제6항에 있어서, 상기 마이셀 용액을 제조하는 단계는 PS-PVP 공중합체를 75°C의 톨루엔에 용해시키는 단계; 및 상기 PS-PVP 공중합체가 용해된 용액을 상온으로 식히는 단계를 포함하는, 3차원 구조 비휘발성 메모리의 제조방법 |
| 8 |
8 제6항에 있어서, 상기 수소 분위기에서 열처리하는 온도는 400-500°C인, 3차원 구조 비휘발성 메모리의 제조방법 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1026346-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20090209 출원 번호 : 1020090010374 공고 연월일 : 20110404 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110324 청구범위의 항수 : 3 유별 : H01L 27/115 발명의 명칭 : 이중블록공중합체를 기반으로 한 마이셀 템플릿으로 합성된 금속 나노크리스탈이 삽입된 3차원 구조의 비휘발성 메모리의 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20150326 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 81,000 원 | 2011년 03월 28일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 106,000 원 | 2014년 03월 03일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.02.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0079736-27 |
| 2 | [출원서등 보정]보정서 | 2009.02.11 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0082929-14 |
| 3 | 의견제출통지서 | 2010.10.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0459813-18 |
| 4 | [명세서등 보정]보정서 | 2010.12.14 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0822338-12 |
| 5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2010.12.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0822286-25 |
| 6 | 거절결정서 | 2010.12.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0604463-00 |
| 7 | 명세서 등 보정서(심사전치) | 2011.03.02 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 7-1-2011-0008140-27 |
| 8 | 등록결정서 | 2011.03.24 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0163760-12 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1345151486 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2007-0056950 |
| 연구과제명 | 나노소자를 위한 trans-scale 융합 기술 개발 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200707~201206 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1415115198 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1080-1101-0001 |
| 연구과제명 | KAIST-ICU 통합지원(ICC 교육여건 개선) |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200903~201112 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | 기타 |
| 과제고유번호 | 1345097648 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 과C6A1611 |
| 연구과제명 | 전자통신기술사업단 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2009 |
| 연구기간 | 200603~201302 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
특허성과
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| 번호 | 심판번호(숫자) | 심판번호(문자) | 사건의표시 | 청구일 | 심결일자 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 2011101000757 | 2011원757 | 2009년 특허출원 제0010374호 거절결정불복 | 2011.01.31 | 2011.03.24 |