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휘발성 및 비휘발성 동작변환 가능한 피드백 전계효과 배열소자 및 이를 이용한 배열 회로

  • 기술번호 : KST2020002194
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 휘발성 및 비휘발성 동작변환 가능한 피드백 전계효과 배열소자 및 이를 이용한 배열 회로를 개시한다. 본 발명의 일실시예에 따르면 배열 회로는 피드백 전계효과 전자소자의 소오스 영역과 접근 전자소자의 드레인 영역이 직렬 연결된 복수의 피드백 전계효과 배열소자를 포함하고, 상기 피드백 전계효과 전자소자는 비트 라인 및 제1 워드 라인과 연결되고, 상기 접근 전자소자는 소오스 라인 및 제2 워드 라인과 연결되며, 상기 제1 워드 라인에 제1 게이트 전압 또는 제2 게이트 전압 중 어느 하나를 인가하여 제1 논리 상태의 데이터 또는 제2 논리 상태의 데이터를 저장할 수 있다.
Int. CL H01L 27/07 (2006.01.01) H01L 27/06 (2006.01.01) H01L 29/10 (2006.01.01) H01L 27/115 (2017.01.01)
CPC H01L 27/0727(2013.01) H01L 27/0727(2013.01) H01L 27/0727(2013.01) H01L 27/0727(2013.01)
출원번호/일자 1020180106118 (2018.09.05)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0027823 (2020.03.13) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.09.05)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상식 서울특별시 강남구
2 조경아 서울특별시 광진구
3 강현구 서울특별시 강남구
4 조진선 서울특별시 노원구
5 임두혁 서울특별시 송파구
6 김윤중 서울특별시 강남구
7 우솔아 경기도 과천시 별양로 **,

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김연권 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, ****/****호(문정동, 문정대명벨리온)(시안특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.09.05 수리 (Accepted) 1-1-2018-0884394-87
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2018-0916315-86
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.07.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2019-0036994-47
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0861289-99
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.01.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0020145-53
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2020-0020124-05
9 등록결정서
Decision to grant
2020.05.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0349572-53
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번호 청구항
1 1
피드백 전계효과 전자소자의 소오스 영역과 접근 전자소자의 드레인 영역이 직렬 연결된 복수의 피드백 전계효과 배열소자를 포함하고,상기 피드백 전계효과 전자소자는 비트 라인 및 제1 워드 라인과 연결되고,상기 접근 전자소자는 소오스 라인 및 제2 워드 라인과 연결되며,상기 제1 워드 라인에 제1 게이트 전압 또는 제2 게이트 전압 중 어느 하나를 인가하여 제1 논리 상태의 데이터 또는 제2 논리 상태의 데이터를 저장하고,상기 피드백 전계효과 전자소자는제1 도전형 영역, 제2 도전형 영역, 상기 제1 도전형 영역과 상기 제2 도전형 영역 사이에 배치된 진성 영역 및 상기 진성 영역과 상기 제2 도전형 영역 사이에 배치된 장벽 영역을 포함하는 다이오드 구조체; 상기 장벽 영역과 상기 진성 영역을 둘러싸도록 배치되는 터널 산화물층;상기 터널 산화물층 상에 배치되고, 상기 다이오드 구조체로부터의 유입되는 전류의 전하를 저장하는 전하 저장층;상기 터널 산화물층과 상기 전하 저장층을 둘러싸도록 배치되는 블록 산화물층; 및상기 블록 산화물층 상에 상기 진성 영역을 둘러싸도록 배치되는 게이트 전극을 포함하고,상기 전하 저장층은, 상기 게이트 전극을 통하여 상기 제1 게이트 전압이 인가되고, 상기 제1 도전형 영역 및 상기 제2 도전형 영역을 통하여 그라운드 전압이 인가된 경우, 상기 진성 영역으로부터 유입되는 전자를 트랩(trap)하며, 상기 게이트 전극을 통해 제2 게이트 전압이 인가되고, 상기 제1 도전형 영역 및 상기 제2 도전형 영역을 통해 상기 그라운드 전압이 인가되는 경우, 상기 트랩된 전자를 상기 진성 영역으로 방출하는배열 회로
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
제1항에 있어서,상기 피드백 전계효과 배열소자는 상기 제1 도전형 영역 및 상기 게이트 전극을 통해 상기 그라운드 전압이 인가되고, 상기 제2 도전형 영역을 통해 제1 드레인 전압이 인가될 경우, 상기 트랩된 전자 또는 상기 방출된 전자와 관련된 전류를 상기 제1 도전형 영역을 통하여 출력하는배열 회로
6 6
제5항에 있어서,상기 제1 게이트 전압의 크기는 상기 그라운드 전압보다 크고,상기 제2 게이트 전압의 크기는 상기 그라운드 전압보다 작은배열회로
7 7
제1항에 있어서,상기 전하 저장층은 상기 비트 라인의 전압이 플로팅되고, 상기 제1 워드 라인을 통해 제1 게이트 전압이 인가되고, 상기 제2 워드 라인을 통해 상기 제1 게이트 전압의 하프 전압이 인가될 경우, 상기 제1 논리 상태의 데이터가 저장되는배열 회로
8 8
제7항에 있어서,상기 전하 저장층은 상기 비트 라인을 통해 상기 제1 게이트 전압에 상응하는 전압이 인가되고, 상기 제1 워드 라인 및 상기 제2 워드 라인을 그라운드 전압이 인가된 경우, 상기 제2 논리 상태의 데이터가 저장되는배열 회로
9 9
제1항에 있어서,상기 전하 저장층은 질화 규소를 이용하여 형성되고,상기 터널 산화물층은 이산화 규소를 이용하여 형성되며,상기 블록 산화물층은 산화 알류미늄을 이용하여 형성되는배열 회로
10 10
제1항에 있어서,상기 다이오드 구조체는 상기 제1 도전형 영역을 소오스 영역으로 이용하고, 상기 제2 도전형 영역을 드레인 영역으로 이용하며, 상기 진성 영역과 상기 장벽 영역을 채널 영역으로 이용하되, 상기 소오스 영역, 상기 드레인 영역 및 상기 채널 영역의 길이는 동일한배열 회로
11 11
제10항에 있어서,상기 다이오드 구조체는 상기 제1 도전형 영역 및 상기 장벽 영역에 n형 불순물이 도핑되고, 상기 제2 도전형 영역에 p형 불순물이 도핑되는배열 회로
12 12
제1항에 있어서,상기 다이오드 구조체는 상기 진성 영역과 상기 장벽 영역이 전하가 이동하는 채널 영역으로서 동작하고,상기 제1 도전형 영역, 상기 제2 도전형 영역 및 상기 채널 영역이 동일한 길이로 형성되는배열 회로
13 13
제1항에 있어서,상기 블록 산화물층의 두께 길이는 상기 전하 저장층의 두께 길고,상기 터널 산화물층의 두께 길이는 상기 전하 저장층의 두께 길이보다 짧은배열 회로
14 14
제1항에 있어서,상기 피드백 전계효과 전자소자는 상기 게이트 전극을 통해 제4 게이트 전압이 인가되고, 상기 제2 도전형 영역을 통해 제1 드레인 전압이 인가되는 경우, 제1 논리 상태의 데이터를 저장하는배열 회로
15 15
피드백 전계효과 전자소자의 소오스 영역과 접근 전자소자의 드레인 영역이 직렬 연결된 복수의 피드백 전계효과 배열소자를 포함하고,상기 피드백 전계효과 전자소자는 비트 라인 및 제1 워드 라인과 연결되고,상기 접근 전자소자는 소오스 라인 및 제2 워드 라인과 연결되며,상기 제1 워드 라인에 제1 게이트 전압 또는 제2 게이트 전압 중 어느 하나를 인가하여 제1 논리 상태의 데이터 또는 제2 논리 상태의 데이터를 저장하고,상기 피드백 전계효과 전자소자는제1 도전형 영역, 제2 도전형 영역, 상기 제1 도전형 영역과 상기 제2 도전형 영역 사이에 배치된 진성 영역 및 상기 진성 영역과 상기 제2 도전형 영역 사이에 배치된 장벽 영역을 포함하는 다이오드 구조체; 상기 장벽 영역과 상기 진성 영역을 둘러싸도록 배치되는 터널 산화물층;상기 터널 산화물층 상에 배치되고, 상기 다이오드 구조체로부터의 유입되는 전류의 전하를 저장하는 전하 저장층;상기 터널 산화물층과 상기 전하 저장층을 둘러싸도록 배치되는 블록 산화물층; 및상기 블록 산화물층 상에 상기 진성 영역을 둘러싸도록 배치되는 게이트 전극을 포함하고,상기 피드백 전계효과 전자소자는 상기 게이트 전극을 통해 제4 게이트 전압이 인가되고, 상기 제2 도전형 영역을 통해 제1 드레인 전압이 인가되는 경우, 제1 논리 상태의 데이터를 저장하며, 상기 게이트 전극을 통해 상기 제4 게이트 전압이 인가되고, 상기 제2 도전형 영역을 통해 제2 드레인 전압이 인가되는 경우, 제2 논리 상태의 데이터를 저장하는배열 회로
16 16
제15항에 있어서,상기 피드백 전계효과 전자소자는 상기 게이트 전극을 통해 제5 게이트 전압이 인가되고, 상기 제2 도전형 영역을 통해 제3 드레인 전압이 인가되는 경우, 상기 제1 논리 상태의 데이터 또는 상기 제2 논리 상태의 데이터 중 어느 하나를 유지하는배열 회로
17 17
제16항에 있어서,상기 피드백 전계효과 전자소자는 상기 게이트 전극을 통해 제6 게이트 전압이 인가되고, 상기 제2 도전형 영역을 통해 상기 제1 드레인 전압이 인가되는 경우, 상기 유지된 데이터와 관련된 전류를 상기 제1 도전형 영역을 통하여 출력하는배열 회로
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1 CN110880537 CN 중국 FAMILY
2 US10643699 US 미국 FAMILY
3 US20200075098 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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3 US2020075098 US 미국 DOCDBFAMILY
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1 과학기술정보통신부 고려대학교 산학협력단 전자정보디바이스산업원천기술개발사업 인공지능용 feedback Si channel 1T-SRAM의 공정 및 구조 최적화 기술 개발