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수직자화를 이용한 스핀 트랜지스터

  • 기술번호 : KST2014051242
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 내부에 채널층이 형성된 반도체 기판부; 상기 반도체 기판부 상에 서로 이격되어 배치되고, 상기 채널층 상면에 수직인 방향으로 자화된 강자성체 소스 및 드레인; 및 상기 소스와 드레인 사이에서 상기 반도체 기판부 상에 형성되어, 상기 채널층을 통과하는 전자의 스핀 방향을 조절하는 게이트;를 포함하는, 스핀 트랜지스터를 제공한다. 스핀 분극된 전자가 상기 소스로부터 상기 채널층으로 주입되고, 상기 채널층으로 주입된 전자는 채널층 통과 후 상기 드레인으로 주입된다. 상기 채널층 통과시 상기 전자의 스핀은 상기 게이트의 전압에 따라 스핀궤도 결합 유도 자장에 의해 세차운동을 한다. 상기 소스 및 드레인의 자화방향은 온 및 오프 동작 동안에 일정하게 고정되어 있다.스핀 트랜지스터, 스핀, 자화
Int. CL H01L 27/105 (2006.01) H01L 29/82 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020070058532 (2007.06.14)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0855105-0000 (2008.08.22)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080829) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.06.14)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 구현철 대한민국 서울 성북구
2 한석희 대한민국 서울 노원구
3 장준연 대한민국 서울 성북구
4 김형준 대한민국 대구 남구
5 마진석 대한민국 대구 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 (주) 컴파스 시스템 서울특별시 구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.06.14 수리 (Accepted) 1-1-2007-0432202-26
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.02.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.03.11 수리 (Accepted) 9-1-2008-0011953-76
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.03.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0158550-20
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.05.26 수리 (Accepted) 1-1-2008-0373895-52
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.05.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0373896-08
7 등록결정서
Decision to grant
2008.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0433621-03
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
내부에 채널층이 형성된 반도체 기판부; 상기 반도체 기판부 상에 서로 이격되어 배치되고, 상기 채널층 상면에 수직인 방향으로 자화된 강자성체 소스 및 드레인; 및 상기 소스와 드레인 사이에서 상기 반도체 기판부 상에 형성되어, 상기 채널층을 통과하는 전자의 스핀 방향을 조절하는 게이트;를 포함하고, 스핀 분극된 전자가 상기 소스로부터 상기 채널층으로 주입되고, 상기 채널층으로 주입된 전자는 채널층 통과 후 상기 드레인으로 주입되며, 상기 전자의 스핀은 상기 채널층 통과시 상기 게이트의 전압에 따라 스핀궤도 결합 유도 자장에 의해 세차운동을 하고,상기 소스 및 드레인의 자화방향은 온 및 오프 동작 동안에 일정하게 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
2 2
제1항에 있어서,상기 강자성체 소스 및 드레인은 동일한 방향으로 자화된 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
3 3
제1항에 있어서,상기 소스 및 드레인은, 강자성 박막과 비자성 박막을 상기 채널층 상면에 수직인 방향으로 교대로 반복 적층한 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
4 4
제3항에 있어서,상기 강자성 박막은 CoFe, Co, Ni, NiFe 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
5 5
제3항에 있어서,상기 비자성 박막은 Pd, Au, Pt 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
6 6
제1항에 있어서,상기 소스 및 드레인은, 결정 자기 이방성에 따른 결정 용이축이 상기 채널층 상면에 수직인 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
7 7
제1항에 있어서,상기 소스 및 드레인은, 높이가 폭 및 길이보다 더 큰 형상을 가짐으로써 형상 이방성에 의해 상기 채널층 상면에 수직인 자화 방향을 갖는 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
8 8
제1항에 있어서,상기 소스 및 드레인 중 적어도 하나는 Fe, Co, Ni, CoFe, NiFe 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 자성 금속인 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
9 9
제1항에 있어서,상기 소스 및 드레인 중 적어도 하나는 (Ga, Mn)As, (In,Mn)As 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 자성 반도체인 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
10 10
제1항에 있어서,상기 채널층은 2차원 전자가스층인 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
11 11
제10항에 있어서,상기 2차원 전자가스층은 GaAs, InAs, InGaAs, InSb 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료로 형성된 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
12 12
제1항에 있어서,상기 반도체 기판부는, 상기 2차원 전자가스층을 이루는 채널층을 샌드위칭하는 하부 클래딩층 및 상부 클래딩층을 포함하고, 상기 하부 클래딩층은 제1 하부 클래딩층과, 상기 제1 하부 클래딩층 아래에 형성되어 상기 제1 하부 클래딩층보다 큰 밴드갭을 갖는 제2 하부 클래딩층을 포함하고, 상기 상부 클래딩층은 제1 상부 클래딩층과, 상기 제1 상부 클래딩층 위에 형성되어 상기 제1 상부 클래딩층보다 큰 밴드갭을 갖는 제2 상부 클래딩층을 포함하는 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
13 13
제12항에 있어서,상기 소스 및 드레인은 상기 반도체 기판부 상면 아래로 매립되어, 상기 제1 상부 클래딩층 또는 그 아래로 연장된 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
14 14
제13항에 있어서,상기 소스 및 드레인의 하면은 상기 채널층까지 연장된 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
15 15
제13항에 있어서,상기 소스 및 드레인의 하면은 상기 하부 클래딩층까지 연장된 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
16 16
제12항에 있어서,상기 채널층은 InAs로 형성되고, 상기 제1 하부 클래딩층과 제1 상부 클래딩층은 언도프 InGaAs로 형성되고, 상기 제2 하부 클래딩층과 제2 상부 클래딩층은 언도프 InAlAs로 형성된 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
17 17
제1항에 있어서,상기 반도체 기판부는 상기 채널층의 길이 방향에 따라 양측부가 제거된 리지 구조를 갖고, 상기 리지 구조에 의해 채널의 폭이 한정되고, 상기 리지 구조의 제거된 양측부에는 평탄화를 위한 절연막이 형성된 것을 특징으로 하는 스핀 트랜지스터
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US07994555 US 미국 FAMILY
2 US20080308844 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2008308844 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US7994555 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.