1 |
1
기판 상에 형성된 절연층;상기 절연층 상에 강자성체로 형성된 소스 전극;상기 소스 전극 상에 형성되는 게이트 절연막;상기 게이트 절연막 상에 강자성체로 형성되어, 상기 소스 전극의 자화 방향을 조절하는 게이트 전극;상기 소스 전극의 제1 측면과 제2 측면에 각각 형성되어 상기 소스 전극으로부터 스핀 분극된 전자를 전달하는 채널층;상기 채널층을 사이에 두고 상기 소스 전극의 제1 측면에 강자성체로 형성된 제1 드레인 전극; 및상기 채널층을 사이에 두고 상기 소스 전극의 제2 측면에 강자성체로 형성된 제2 드레인 전극을 포함하고, 상기 제1 드레인 전극의 자화 방향과 상기 제2 드레인 전극의 자화 방향은 반평행인 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
2 |
2
제1항에 있어서, 상기 제1 드레인 전극의 자화 방향이 상기 소스 전극의 자화 방향과 평행한 경우, 상기 제2 드레인 전극의 자화 방향은 상기 소스 전극의 자화 방향과 반평행하고,상기 제1 드레인 전극의 자화 방향이 상기 소스 전극의 자화 방향과 반평행한 경우, 상기 제2 드레인 전극의 자화 방향은 상기 소스 전극의 자화 방향과 평행한 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
3 |
3
삭제
|
4 |
4
제1항에 있어서, 상기 게이트 전극에서 상기 소스 전극으로 흐르는 전류의 방향에 따라 상기 소스 전극의 자화 방향이 변하는 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
5 |
5
제1항에 있어서, 상기 게이트 절연막은 산화막 또는 비강자성체로 형성되는 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
6 |
6
제1항에 있어서, 상기 게이트 전극, 상기 소스 전극, 상기 제1 드레인 전극 및 상기 제2 드레인 전극의 자성 패턴은 코발트철(CoFe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 니켈철(NiFe), 철(Fe) 중 하나 또는 이들의 조합을 포함하는 강자성체로 이루어진 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
7 |
7
제1항에 있어서, 상기 게이트 전극, 상기 소스 전극, 상기 제1 드레인 전극 및 상기 제2 드레인 전극의 자성 패턴은 갈륨비소(GaAs), 망간비소(MnAs), 비화인듐(InAs) 중 하나 또는 이들의 조합을 포함하는 자성 반도체로 이루어진 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
8 |
8
제1항에 있어서, 상기 채널층은 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 안티몬(Sb) 중 하나 또는 이들의 조합을 포함하는 금속, 반금속(semi-metal), 또는 반도체로 이루어진 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
9 |
9
제1항에 있어서, 상기 채널층은 그래핀(graphene) 또는 나노선(nano-wire)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
10 |
10
제1항에 있어서, 상기 채널층은 2차원 전기가스층인 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
11 |
11
제10항에 있어서, 상기 2차원 전기가스층은 갈륨비소(GaAs), 비화인듐(InAs), 인듐갈륨비소(InGaAs), 인듐안티몬(InSb) 중 하나 또는 이들의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
12 |
12
제1항에 있어서, 상기 채널층은 n형 반도체를 도핑한 갈륨비소(GaAs), 비화인듐(InAs), 인듐갈륨비소(InGaAs), 인듐안티몬(InSb) 중 하나 또는 이들의 조합을 포함하며, 상기 강자성체와 오믹(Ohmic) 접합 또는 쇼트키(Schottky) 접합한 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
13 |
13
제1항에 있어서, 상기 절연층은 이산화규소(SiO2), 산화알루미늄(Al2O3), 산화탄탈(TaOx), 산화마그네슘(MgO) 중 하나 또는 이들의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|
14 |
14
제1항에 있어서, 인버터(Inverter), 논리합(OR), 논리곱(AND), 논리부정(NOT), 부정논리합(NOR), 부정논리곱(NAND) 중 하나의 논리 기능을 수행하거나 두 개 이상의 논리 기능이 합쳐진 연산을 수행하는 것을 특징으로 하는 상보성 논리소자
|