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그래핀 기판 상에 나노물질이 적층되어 있는 3차원 나노구조체 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015113871
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 그래핀 기판 상에 탄소나노튜브, 탄소나노선, 탄소나노로드 및 탄소나노입자 중 어느 하나 이상의 탄소나노물질이 적층되어 있는 3차원 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 1차원의 나노물질과 2차원의 그래핀을 혼성시킨 3차원 나노구조체를 제조하여 이들의 시너지 효과를 얻을 수 있게 한다. 본 발명에 따른 나노구조체는 유연성과 신축성이 우수하며, 비평면적인 표면을 포함하는 어느 기판에도 쉽게 옮겨낼 수 있고, 나노물질, 금속촉매, 그래핀 필름 시스템 내의 모든 접합이 오믹 전기 접합(ohmic electrical contact)을 이루어져 전계 방출 디바이스(Field-emitting device)에 쉽게 통합될 수 있어 유용하다.
Int. CL H01L 21/02 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020100021935 (2010.03.11)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1400686-0000 (2014.05.22)
공개번호/일자 10-2011-0032999 (2011.03.30) 문서열기
공고번호/일자 (20140529) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020090090634   |   2009.09.24
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020120109124;
심사청구여부/일자 Y (2010.03.11)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상욱 대한민국 대전광역시 유성구
2 이원종 대한민국 대전광역시 유성구
3 이덕현 대한민국 대전광역시 유성구
4 한태희 대한민국 대전광역시 유성구
5 김지은 대한민국 대전광역시 유성구
6 이진아 대한민국 대전광역시 유성구
7 이건재 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 다해 대한민국 서울시 서초구 서운로**, ***호(서초동, 중앙로얄오피스텔)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.03.11 수리 (Accepted) 1-1-2010-0155806-11
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.03.12 수리 (Accepted) 1-1-2010-0159231-51
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.08.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.09.19 수리 (Accepted) 9-1-2011-0075287-47
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.12.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0762198-01
6 [복대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2012.02.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0126419-44
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2012.02.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0134413-14
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.03.21 수리 (Accepted) 1-1-2012-0230179-43
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.03.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0230178-08
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0518174-38
11 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2012.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-0796630-53
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2012.09.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0796449-95
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.11.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0675738-72
14 협의요구서
Request for Consultation		 2012.11.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0675736-81
15 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner		 2013.01.23 수리 (Accepted) 7-8-2013-0002251-34
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
17 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2013.09.06 수리 (Accepted) 1-1-2013-0816427-95
18 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0799078-55
19 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.01.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0018323-84
20 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2014-0018321-93
21 등록결정서
Decision to grant		 2014.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0346971-45
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
25 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
26 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
27 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
그래핀 필름 상에 탄소나노튜브, 탄소나노선, 탄소나노로드 및 탄소나노입자 중 어느 하나 이상의 탄소나노물질이 적층되어 있는 3차원 나노구조체
2 2
제1항에 있어서, 상기 그래핀 필름은 단층 또는 중첩된 그래핀 판이거나 단층 또는 중첩된 산화 그래핀 판을 환원시킨 것임을 특징으로 하는 3차원 나노구조체
3 3
제1항에 있어서, 상기 탄소나노물질은 그래핀 필름에 대하여 수평 또는 수직으로 배향되는 것을 특징으로 하는 3차원 나노구조체
4 4
제1항에 있어서, 상기 탄소나노물질과 그래핀 필름 사이에 금속촉매가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 3차원 나노구조체
5 5
제4항에 있어서, 상기 금속은 철, 니켈, 구리, 금, 백금, 팔라듐, 코발트 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 3차원 나노구조체
6 6
제1항에 있어서, 상기 3차원 나노구조체에 PDMS 엘라스토머(elastomer)가 추가로 주입되어 있는 것을 특징으로 하는 3차원 나노구조체
7 7
제1항에 있어서, 오믹 전기접합(ohmic electrical contact)에 의하여 접합되어 있는 것을 특징으로 하는 3차원 나노구조체
8 8
다음 단계를 포함하는, 그래핀 필름 상에 탄소나노튜브, 탄소나노선, 탄소나노로드 및 탄소나노입자 중 어느 하나 이상의 탄소나노물질이 적층되어 있는 3차원 나노구조체의 제조방법:(a) 기판 상에 그래핀 필름을 형성하는 단계;(b) 상기 그래핀 필름 상에 블록공중합체 나노템플릿을 이용하여 패터닝된 금속촉매 어레이를 수득하는 단계; 및(c) 상기 그래핀 필름은 환원시키고, 상기 금속촉매 상에 탄소나노물질을 성장시켜 3차원 나노구조체를 수득하는 단계
9 9
제8항에 있어서, 상기 (a)단계의 기판은 실리콘, 세라믹 및 금속으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
10 10
제8항에 있어서, 상기 (a)단계는 스핀 코팅을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
11 11
제8항에 있어서, 상기 (a)단계의 상기 그래핀 필름은 단층 또는 중첩된 그래핀 판이거나 단층 또는 중첩된 산화 그래핀 판을 환원시킨 것임을 특징으로 하는 방법
12 12
제8항에 있어서, 상기 (b)단계는 다음의 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 방법:(ⅰ) 그래핀 필름 상에 블록공중합체 나노템플릿을 형성하는 단계;(ⅱ) 상기 블록공중합체 나노템플릿 상에 금속촉매를 증착시키는 단계; 및(ⅲ) 상기 블록공중합체 나노템플릿을 제거하여 그래핀 필름 상에 패터닝 되어 있는 금속촉매 어레이를 수득하는 단계
13 13
제8항에 있어서, 상기 (b)단계의 블록공중합체는 PS-b-PMMA [polystyrene-block-poly(methylmethacrylate)], PS-b-PEO [polystyrene-block-poly(ethylene oxide)], PS-b-PVP [polystyrene-block-poly(vinyl pyridine)], PS-b-PEP [Polystyreneblock-poly(ethylene-alt-propylene)] 및 PS-b-PI[polystyrene-blockpolyisoprene]로 구성된 군에서 선택되는 이성분계 블록공중합체인 것을 특징으로 하는 방법
14 14
제8항에 있어서, 상기 (b)단계의 금속촉매는 철, 니켈, 구리, 금, 백금, 팔라듐, 코발트 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
15 15
제8항에 있어서, 상기 (c)단계는 플라즈마 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
16 16
제8항에 있어서, 상기 3차원 나노구조체에 PDMS 엘라스토머(elastomer)를 주입하는 단계를 추가로 수행하는 것을 특징으로 하는 방법
17 17
제8항에 있어서, 상기 그래핀 필름, 금속촉매 및 탄소나노물질 사이에 오믹 전기 접합(ohmic electrical contact)이 이루어진 것을 특징으로 하는 방법
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2 US08808860 US 미국 FAMILY
3 US20120121891 US 미국 FAMILY
4 WO2011037388 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
5 WO2011037388 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 US2012121891 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US8808860 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2011037388 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
4 WO2011037388 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국연구재단 원천기술개발사업 '그래핀 기판상 3차원 나노아키텍처링 적용 BT/IT/ET 통합형 소자기술' 기획연구