| 1 |
1
기판을 지지하는 지지수단, 상기 지지수단이 설치된 진공 챔버, 상기 진공 쳄버의 내부를 코팅에 적합한 진공 상태로 유지시키는 진공수단, 가스공급수단을 구비한 다이아몬드상 카본 필름을 코팅하는 장치에 있어서, 상기 진공 챔버 내의 지그에 접속되어 진공 챔버 내부에 플라즈마를 발생시키기 위한 전원 및 진공 챔버와 전원 간에 삽입되어 이들 간의 임피던스를 조정하여 플라즈마 생성을 조절하기 위한 정합회로로 구성되어 양측의 내부 전자석에 각각 다른 수치의 전류를 인가하여 불균일하게 플라즈마 자장을 형성하도록 하여 비대칭 마그네트론 필드를 형성하도록 하는 전원 공급수단, 및상기 기판 위에 소정의 원소로 된 다이아몬드상 카본 필름을 비대칭 마그네트론(Close Field Unbalanced Magnetron, CFUBM) 스퍼터링법을 이용하여 코팅하는 코팅수단을 포함하고, 상기 기판은 플렉시블 기판인 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서,상기 지지 수단은 상기기판을 지지하는 지지대를 포함하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 3 |
3
제 2항에 있어서,상기 지지대는 지그에 의해 상기 진공 챔버내의 공간에 고정되는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
제 1항에 있어서,상기 스퍼터링 시에 사용하는 스퍼터 가스는 아르곤 가스(Ar)와 아세틸렌 가스(C2H2)의 혼합 가스를 사용하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 6 |
6
제 5항에 있어서,상기 아세틸렌 가스(C2H2)의 함량은 10~30%인 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 7 |
7
제 1항에 있어서,상기 코팅수단은 수소를 포함하는 가스를 첨가하지 않는 비정질 탄소(a-C) 형태로 코팅하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 8 |
8
제 1항에 있어서,상기 코팅수단은 수소를 포함하는 가스를 첨가하여 수소화된 비정질 탄소(a-C:H) 형태로 코팅하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 9 |
9
제 8항에 있어서,상기 수소를 포함하는 가스가 아세틸렌(C2H2)인 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 10 |
10
삭제
|
| 11 |
11
제 1항에 있어서,상기 코팅수단은 플렉시블 기판상의 다이아몬드상 카본 필름이 중간층이 없는 단일층으로 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 12 |
12
제 1항에 있어서,상기 소정의 원소는 주기율표 4B족에 포함되어 있는 원소인 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 13 |
13
제 12항에 있어서,상기 주기율표 4B족에 포함되어 있는 원소는 탄소가 함유량 대비 90% 이상이 되는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 14 |
14
제 1항에 있어서,상기 플렉시블 기판은 Polyimide (Kapton), Polyethersulfone (PES), Polyetherimide (PEI), Polycarbonate (PC), Polyethylenenapthalate (PEN), Polyester (PET) 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 장치
|
| 15 |
15
기판을 지지하는 지지수단, 상기 지지수단이 설치된 진공 챔버, 상기 진공 챔버의 내부를 코팅에 적합한 진공 상태로 유지시키는 진공수단, 가스공급수단, 전원공급수단을 사용하여 상기 기판 상에 다이아몬드상 카본 필름을 코팅하는 방법에 있어서, 상기 기판을 준비하는 단계, 상기 지지수단에 상기 기판을 지지하는 지지단계, 상기 진공 챔버 내부에 각각 다른 수치의 전류를 인가하여 불균일하게 플라즈마 자장을 형성하도록 하여 비대칭 마그네트론(Close Field Unbalanced Magnetron, CFUBM) 필드를 형성하도록 하는 단계 및 상기 단계에서 형성된 비대칭 마그네트론 필드를 이용하여 상기 기판 상에 소정의 원소로 소정 두께를 갖는 층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 기판은 플렉시블 기판인 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
| 16 |
16
제 15항에 있어서,상기 지지단계는 지그에 의해 상기 진공 챔버 내의 공간에 고정하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
| 17 |
17
삭제
|
| 18 |
18
제 15항에 있어서,상기 스퍼터링 시에 사용하는 스퍼터 가스는 아르곤 가스(Ar)와 아세틸렌 가스(C2H2)의 혼합 가스를 사용하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
| 19 |
19
제 18항에 있어서,상기 아세틸렌 가스(C2H2)의 함량은 10~30%인 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
| 20 |
20
제 15항에 있어서,상기 코팅단계는 수소를 포함하는 가스를 첨가하지 않는 비정질 탄소(a-C)의 형태로 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
| 21 |
21
제 15항에 있어서,상기 코팅단계는 수소를 포함하는 가스를 첨가하는 수소화된 비정질 탄소(a-C:H) 형태로 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
| 22 |
22
제 21항에 있어서,상기 수소를 포함하는 가스는 아세틸렌(C2H2)인 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
| 23 |
23
삭제
|
| 24 |
24
제 15항에 있어서,상기 코팅단계는 플렉시블 기판 상의 다이아몬드상 카본 필름이 중간층이 없는 단일층으로 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
| 25 |
25
제 15항에 있어서,상기 소정의 원소는 주기율표 4B족에 포함되어 있는 원소인 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
| 26 |
26
제 25항에 있어서,상기 주기율표 4B족에 포함되어 있는 원소는 탄소가 함유량 대비 90% 이상이 되는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
| 27 |
27
제 15항에 있어서,상기 플렉시블 기판은 Polyimide (Kapton), Polyethersulfone (PES), Polyetherimide (PEI), Polycarbonate (PC), Polyethylenenapthalate (PEN), Polyester (PET) 등을 사용하는 것을 특징으로 하는 다이아몬드상 카본 코팅 방법
|
