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간섭 리소그래피 장치에 있어서, 동시에 2 이상의 서로 다른 파장을 갖는 레이저를 발진시키는 멀티 레이져 광원부;발진된 상기 레이저의 조사면적을 확장시키는 빔확장기; 및상기 빔확장기에 의해 확장된 상기 레이저에 의해 노광시킬 시편이 설치되는 베이스부와 확장된 상기 레이저가 입사되어 상기 베이스부로 반사시키는 반사부 및 상기 베이스부와 상기 반사부를 소정방향으로 회전시키는 회전부를 구비하는 회전 스테이지;를 포함하고, 상기 시편에 서로 다른 방향으로 입사되는 파장에 의해 발생되는 복수의 제1차간섭무늬 및 복수의 상기 제1차간섭무늬가 서로 간섭되면서 발생되는 제2차 간섭무늬에 의해 상기 시편에 미세패턴이 형성되며, 상기 미세패턴은 나노크기의 나노패턴과 마이크로 크기의 마이크로패턴을 포함하며, 상기 파장의 길이는 상기 나노패턴의 크기를 결정하고, 서로 다른 파장 각각의 파장차이는 상기 마이크로패턴의 크기를 결정하고, 상기 파장의 중첩 개수는 상기 마이크로패턴의 밀도와 크기를 결정하고, 각각의 상기 파장의 강도차이는 상기 나노패턴의 크기와 상기 마이크로패턴의 크기를 결정하고, 상기 회전부에 의한 상기 시편의 회전정도는 상기 마이크로패턴의 모양을 결정하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 멀티 레이져 광원부는 멀티 아르곤 이온 레이저 주사장치인 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 4 항에 있어서, 상기 멀티 아르곤 이온 레이저 주사장치는 각각이 300~700nm 사이에 서로 다른 복수의 파장을 갖는 레이저가 발진되는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 멀티레이저 광원부와 상기 빔 확장기 사이에 설치되어 서로 다른 파장 각각의 경로를 분리하는 경로분리수단과 상기 경로분리수단에 의해 분리된 상기 파장 각각의 강도를 조절하는 강도 조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 빔확장기와 상기 회전스테이지 사이에 설치되어 상기 레이저의 광량을 조절하는 광량조절기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 7 항에 있어서, 상기 광량조절기와 상기 회전 스테이지 사이에 설치되는 줄맞춤 렌즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 멀티 레이저 광원부에서 발진되는 상기 레이저의 노광시간을 조절하는 전기셔터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항의 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치를 이용한 미세패턴 형성방법에 있어서, 멀티 레이져 광원부에서 서로 다른 파장을 갖는 레이저가 발진되는 단계;빔 확장기에 의해 상기 레이저의 조사면적을 확장시키는 단계; 및확장된 상기 레이저가 회전 스테이지에 조사되어 간섭에 의해 회전 스테이지에 설치된 시편에 미세패턴을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 미세패턴 형성단계에서,상기 시편에 직접 조사되는 레이저와 상기 회전스테이지의 반사부에서 반사되어 시편에 조사되는 레이저 사이에서 발생되는 간섭무늬에 따라 상기 시편에 미세패턴이 형성되고, 상기 간섭무늬는 각각의 파장에 의해 발생되는 제1차 간섭무늬와 상기 제1차 간섭무늬가 서로 간섭되면서 발생되는 제2차 간섭무늬가 존재하고,상기 미세패턴은 나노 크기의 나노패턴과 마이크로미터 크기의 마이크로패턴이 동시에 형성되며, 상기 미세패턴 형성단계는상기 회전스테이지의 회전부에 의해 상기 시편이 장착되는 베이스부와 상기 반사부의 각도를 변화시키는 단계를 더 포함하고, 상기 파장의 길이는 상기 나노패턴의 크기를 결정하고, 서로 다른 파장 각각의 차이는 상기 마이크로패턴의 크기를 결정하고, 상기 파장의 중첩 개수는 상기 마이크로패턴의 밀도와 크기를 결정하고, 각각의 상기 파장의 강도차이는 상기 나노패턴의 크기와 상기 마이크로패턴의 크기를 결정하고, 상기 회전부에 의한 상기 시편의 회전정도는 상기 마이크로패턴의 모양을 결정하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치를 이용한 미세패턴 형성방법
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제 10 항에 있어서, 상기 발진단계 후에, 경로분리수단에 의해 상기 레이저를 파장별로 경로를 분리하는 단계 및 분리된 상기 파장 각각의 강도를 강도 조절부에 의해 조절하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치를 이용한 미세패턴 형성방법
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제 10 항에 있어서, 상기 확장단계 후에,광량조절기에 의해 상기 레이저의 광량을 조절하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치를 이용한 미세패턴 형성방법
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