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노광 장치, 노광 방법 및 그에 따른 패턴 형성방법

  • 기술번호 : KST2015112982
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 노광 장치, 노광 방법 및 그에 따른 패턴 형성방법 등에 관한 것이다. 더욱 구체적으로는, 본 발명은 기판상에 도포된 포토레지스트로 광을 조사하여 구조물 패턴을 형성하는 노광 장치, 노광 방법 등에 관한 것이다. 본 발명에 따른 노광 장치는 마스크와 정렬된 기판을 스테이지로 이송하는 이송부, 마스크와 기판이 이송되어 있는 스테이지의 경사각을 조절하는 경사조절부, 경사각이 조절된 스테이지를 회전시키는 회전부 및 회전하는 스테이지 상의 마스크와 기판에 광을 조사하는 광조사부를 포함한다. 본 발명에 따른 노광 장치는 기설정된 경사각으로 기울어진 상태에서 회전하는 스테이지를 이용하여 보다 다양하고 입체적이며, 균일한 패턴의 폴리머 몰드를 형성할 수 있다. 노광 장치, 노광(Exposing), 포토리소그래피(Photolithography), 포토레지스트(Photoresist, PR), 포토마스크, 얼라이너(Aligner)
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/70091(2013.01) G03F 7/70091(2013.01)
출원번호/일자 1020080017645 (2008.02.27)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0930604-0000 (2009.12.01)
공개번호/일자 10-2009-0092412 (2009.09.01) 문서열기
공고번호/일자 (20091209) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.02.27)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김병일 대한민국 충남 공주시
2 배남호 대한민국 대전 유성구
3 이성호 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김성호 대한민국 서울특별시 강남구 도곡로 *** (역삼동,미진빌딩 *층)(KNP 특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2008-0142795-33
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.03.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.04.14 수리 (Accepted) 9-1-2009-0022882-14
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.06.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0260070-77
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2009-0512386-31
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.08.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0512366-28
7 등록결정서
Decision to grant		 2009.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0492075-24
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
마스크와 정렬된 기판을 스테이지로 이송하는 이송부; 상기 마스크와 상기 기판이 이송되어 있는 상기 스테이지의 경사각을 조절하는 경사조절부; 상기 경사각이 조절된 상기 스테이지를 회전시키는 회전부; 및 상기 회전부를 통해 회전하는 상기 스테이지상의 상기 마스크와 상기 기판에 광을 조사하는 광조사부를 포함하는, 노광 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 경사각은, 상기 광조사부를 통해 조사되는 광과 수직인 면이 상기 스테이지와 이루는 각인, 노광 장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 경사각은 -45 이상 45 이하인, 노광 장치
4 4
마스크와 정렬된 기판을 스테이지로 이송하는 이송 단계; 상기 마스크와 상기 기판이 이송되어 있는 상기 스테이지의 경사각을 조절하는 경사조절단계; 상기 경사각이 조절된 상기 스테이지를 회전시키는 회전단계; 및 상기 회전단계를 통해 회전하는 상기 스테이지상의 상기 마스크와 상기 기판에 광을 조사하는 광조사단계를 포함하는, 노광 방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 경사각은, 상기 광조사단계를 통해 조사되는 광과 수직인 면이 상기 스테이지와 이루는 각인, 노광 방법
6 6
제4항에 있어서, 상기 경사각은 -45 이상 45 이하인, 노광 방법
7 7
마스크와 정렬된 기판을 스테이지로 이송하는 이송 단계, 상기 마스크와 상기 기판이 이송되어 있는 상기 스테이지의 경사각을 조절하는 경사조절단계, 상기 경사각이 조절된 상기 스테이지를 회전시키는 회전단계, 상기 회전단계를 통해 회전하는 상기 스테이지상의 상기 마스크와 상기 기판에 광을 조사하는 광 조사단계를 포함하는 경사 노광 단계; 및 상기 경사 노광된 기판을 현상하는 단계를 포함하는, 패턴 형성 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 경사각은, 상기 광조사단계를 통해 조사되는 광과 수직인 면이 상기 스테이지와 이루는 각인, 패턴 형성 방법
9 9
제7항에 있어서, 상기 경사각은 -45 이상 45 이하인, 패턴 형성 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.