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모세관 현상 기반 나노갭을 갖는 금속 나노 패턴 구조 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015115221
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예에 따른 나노갭(Nano gap)을 가지는 금속 나노 패턴 구조 형성 방법은 a) 기판 상에 나노 레벨의 금속 박막을 형성하는 단계; b) 상기 금속 박막 상에 고분자 박막을 형성하는 단계; c) 상기 고분자 박막 상에 미세 나노 패턴이 형성된 고분자 주형의 패턴 면을 접촉하는 단계; d) 상기 a) 내지 c) 단계를 통해 형성된 구조를 열처리하는 단계; e) 상기 d)단계를 통한 모세관 현상에 의하여 상기 금속 박막 상에, 상기 고분자 주형의 패턴 간격보다 좁은 간격에 해당하는 나노갭을 가지는 상기 고분자 박막의 미세 나노 패턴을 형성하는 단계; 및 f) 상기 고분자 박막의 미세 나노 패턴의 형상을 식각 마스크로 하여 식각을 통해 상기 금속 박막에 나노갭을 가지는 미세 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
Int. CL B82B 3/00 (2006.01) G01N 21/65 (2006.01)
CPC G01N 21/658(2013.01) G01N 21/658(2013.01) G01N 21/658(2013.01) G01N 21/658(2013.01)
출원번호/일자 1020110123109 (2011.11.23)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1339967-0000 (2013.12.04)
공개번호/일자 10-2013-0057276 (2013.05.31) 문서열기
공고번호/일자 (20131210) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.11.23)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정기훈 대한민국 대전광역시 유성구
2 강민희 대한민국 부산광역시 영도구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-0929514-17
2 [출원서등 보정] 보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.01.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0060549-45
3 [출원서등 보정] 보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.01.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0060757-35
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.05.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0045150-23
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.06.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0428475-77
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2013-0764059-32
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.09.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0858911-55
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2013-0953889-99
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.10.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0953891-81
12 등록결정서
Decision to grant		 2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0803144-11
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
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나노갭(Nano gap)을 가지는 금속 나노 패턴 구조 형성 방법에 있어서,a) 기판 상에 나노 레벨의 금속 박막을 형성하는 단계;b) 상기 금속 박막 상에 고분자 박막의 두께를 조절하여 형성하는 단계;c) 상기 고분자 박막 상에 미세 나노 패턴의 치수가 조절된 고분자 주형의 패턴 면을 접촉하는 단계;d) 상기 a) 내지 c) 단계를 통해 형성된 구조를 열처리하는 단계;e) 상기 d)단계를 통한 모세관 현상에 의하여 상기 금속 박막 상에, 상기 고분자 주형의 패턴 간격보다 좁은 간격에 해당하는 나노갭을 가지는 상기 고분자 박막의 미세 나노 패턴을 형성하는 단계; 및f) 상기 고분자 박막의 미세 나노 패턴의 형상을 식각 마스크로 하여 식각을 통해 상기 금속 박막에 나노갭을 가지는 미세 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함하고,상기 고분자 박막은 상기 고분자 주형이 녹지 않고 견딜 수 있는 온도 이하에서 유리 전이 온도(Glass transition temperature)를 갖고,상기 나노갭은 열처리 공정의 조건, 상기 고분자 주형에 형성된 상기 미세 나노 패턴 높이 및 상기 d) 단계의 조건에 기초하여 결정되며,상기 열처리 공정 조건은 고분자 박막의 유리 전이 온도 이상 및 고분자 주형의 녹는점(melting temperature) 이하로 열처리하는 조건에 해당하는 금속 나노 패턴 구조 형성 방법
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나노갭(Nano gap)을 가지는 금속 나노 패턴 구조 형성 방법에 있어서,a) 광 리소그래피, 전자빔 리소그래피, 나노 임프린트 리소그래피, 양극 산화 공정 또는 금속의 비젖음성을 이용한 금속 나노섬 제작 공정 중 어느 하나의 공정을 통해 고분자 주형에 미세 나노 패턴의 치수를 조절하여 형성하는 단계;b) 기판 상에 나노 레벨의 금속 박막의 두께를 조절하여 형성하는 단계;c) 상기 금속 박막 상에 스핀코팅을 이용하여 고분자 박막을 형성하는 단계;d) 상기 고분자 박막 상에 상기 미세 나노 패턴이 형성된 상기 고분자 주형의 패턴 면을 접촉하는 단계;e) 상기 b) 내지 d) 단계를 통해 형성된 구조를 열처리하는 단계;f) 상기 e)단계를 통한 모세관 현상에 의하여 상기 금속 박막 상에, 상기 고분자 주형의 패턴 간격보다 좁은 간격에 해당하는 나노갭을 가지는 상기 고분자 박막의 미세 나노 패턴을 형성하는 단계; 및g) 상기 고분자 박막의 미세 나노 패턴의 형상을 식각 마스크로 하여 식각을 통해 상기 금속 박막에 나노갭을 가지는 미세 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함하고,상기 고분자 박막은 상기 고분자 주형이 녹지 않고 견딜 수 있는 온도 이하에서 유리 전이 온도(Glass transition temperature)를 갖고,상기 나노갭은 열처리 공정의 조건, 상기 고분자 주형에 형성된 상기 미세 나노 패턴 높이 및 상기 e) 단계의 조건에 기초하여 결정되며,상기 열처리 공정 조건은 고분자 박막의 유리 전이 온도 이상 및 고분자 주형의 녹는점(melting temperature) 이하로 열처리하는 조건에 해당하는 금속 나노 패턴 구조 형성 방법
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1 교육과학기술부 한국과학기술원 나노소재기술개발사업 메타렌즈어레이기반 대면적 고속 나노리소그래피 플렛폼 개발
2 교육과학기술부 한국과학기술원 중견연구자지원사업 자연 포토닉구조의 나노공학기반 영감기술
3 교육과학기술부 한국과학기술원 21C프론티어연구개발사업 나노 임프린트 기반 고효율 LED용 렌즈 기술개발