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패턴이 형성된 기판을 준비하는 단계(단계 1);흐름성이 있는 광 경화성 고분자를 도포하고, 상기 단계 1에서 준비된 기판의 패턴이 형성된 부분으로 상기 도포된 광 경화성 고분자에 접촉시킨 후, 공기 분위기에서 광을 조사하여 표면에 패턴이 형성되고, 표면이 부분 경화된 고분자 기판을 제조하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 형성된 고분자 기판에 코로나 방전을 수행하는 단계(단계 3);를 포함하는 계층 구조 패턴의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1의 패턴을 형성하는 방법은 포토리소그래피(photolithography), 소프트 리소그래피(soft lithography), 임프린트 리소그래피(imprint lithography) 및 전자빔 리소그래피(E-beam lithography)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종의 방법인 것을 특징으로 하는 계층 구조 패턴의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1에서 패턴이 형성된 기판의 재질은 폴리디메틸실록세인(PDMS), 폴리우레탄 계열 고분자 및 에폭시 기반 고분자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종인 것을 특징으로 하는 계층 구조 패턴의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2의 광 경화성 고분자는 사슬의 양 말단 또는 사슬의 측쇄에 광 중합이 가능한 비닐기, 알릴기, 아크릴기, 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기, 에폭시기 및 광경화가 가능한 유기 관능기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 관능기를 포함하는 유기 고분자인 것을 특징으로 하는 계층 구조 패턴의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2의 광 경화성 고분자는 폴리우레탄 계열 고분자, 폴리우레탄 계열 고분자 및 에폭시 기반 고분자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 계층 구조 패턴의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2에서 광이 자외선인 경우, 광의 세기는 0
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제1항에 있어서,상기 단계 2에서 광이 자외선인 경우, 광을 조사하는 시간은 10 초 내지 500 초인 것을 특징으로 하는 계층 구조 패턴의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 3에서 코로나 방전을 수행하는 시간은 0
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