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밝기값에 따른 에지 블러를 예측하기 위한 방법으로서,기준선 검출을 위한 기준 패턴과 에지 위치 검출을 위한 그리드 패턴이 형성되고, 그리드 패턴에 포함되는 밝기값 변화가 서로 다른 복수 개의 타겟 시트를 준비하는 제1 단계와,타겟 시트를 촬영하여 타겟 시트 영상을 획득하는 제2 단계,각 타겟 시트 영상별 해당 타겟 시트의 기준 패턴을 분석하여 기준선을 추정함과 더불어, 그리드 패턴을 분석하여 그리드 패턴에 형성된 에지 프로파일을 추출하는 제3 단계, 에지 프로파일을 근거로 인접 픽셀간 밝기차에 의한 기울기를 산출함과 더불어, 이 기울기에 기초하여 영상 내에 존재하는 밝기 대조에 따른 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터를 각각 획득하는 제4 단계 및,상기 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터 분포를 근거로 밝기값에 대응되는 화소 수치별 배경 에지 블러 예측 정보와 전경 에지 블러 예측정보를 각각 생성하는 제5 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제1항에 있어서,상기 타겟 시트는 일정 폭을 갖는 선분 형상으로서 중앙의 공간을 두고 서로 이격형성되는 한 쌍의 수직 영역과 2개의 수평 영역으로 이루어지는 기준 패턴과, 상기 중앙 공간에 형성되는 4개의 정사각형으로 이루어지는 그리드패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제2항에 있어서,상기 그리드 패턴은 상부 2개의 정사각형과 하부 2개의 정사각형으로 이루어지며, 하나의 정사각형과 그 대각선 방향의 정사각형은 배경으로 사용되고, 나머지 사각형들은 전경으로 사용되며, 전경 및 배경 밝기값은 가변적인 밝기값을 갖도록 구성되는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제3항에 있어서,상기 전경 밝기값은 배경 밝기값 보다 밝게 되도록 설정되되, 검은색이 0
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제1항에 있어서,상기 제2 단계는 각 타겟 시트에 대하여 카메라 대 물체 간 거리를 가변시키면서 복수개의 영상을 획득하는 단계를 포함하고,상기 제3 단계는 카메라 대 물체간 거리별 밝기값 변화에 따른 에지 프로파일을 추정하며,상기 제4 단계는 카메라 대 물체간 거리별 밝기 대조에 따른 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터를 각각 획득하고,상기 제5 단계는 밝기값 변화 및 카메라 대 물체간 거리를 고려하여 일정 간격의 밝기값에 대한 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터 분포에 따른 배경 에지 블러 예측 정보와 전경 에지 블러 예측정보를 각각 생성하는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제1항에 있어서,상기 제4 단계에서 에지 블러 파라미터 획득단계는 상기 제3 단계에서 수집된 에지 프로파일을 기 설정된 간격으로 리샘플링하는 단계와,리샘플링된 간격에 대해 모든 에지 프로파일에 대한 평균 프로파일을 생성하는 단계,연속되는 평균 프로파일의 차이 값을 이용하여 연속 구간의 중심값으로 산출되는 기울기 프로파일을 획득하는 단계,상기 기울기 프로파일에 대응되는 하기 수학식과 같은 기울기 모델링 함수를 생성하고, 이를 만족하는 최소의 제곱 오차합을 만들어내는 한 쌍의 값을 선택함으로써, 밝기 대조에 따른 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터를 각각 산출하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제6항에 있어서,상기 기울기 모델링 함수에서 배경 에지 블러 파라미터(σb ), 전경 에지 블러 파라미터(σf ) 는 타겟 시트의 그리드 패턴에 대한 평균 밝기값으로 설정되는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제6항에 있어서,상기 밝기 대조에 따른 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터를 산출하는 단계는,브루트-포스(brute-force) 방법을 이용하여 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터를 산출하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제1항에 있어서,상기 제5 단계는 상기 제4 단계에서 획득된 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터를 기 설정된 화소 수치값(DN)에 대한 데이터 포인트로서 수집하는 단계와,상기 데이터 포인트를 이용하여 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터에 대한 각각의 평면 표면 특성을 산출하는 단계,상기 평면 표면 특성으로부터 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터에 대한 잔차성분을 획득하고, 이 잔차성분을 이용하여 크리깅 기법에 따른 크리깅 표면 특성을 각각 산출하는 단계 및,상기 평면 표면 특성과 상기 크리깅 표면 특성 간의 차를 근거로 배경 에지 블러 파라미터 및 전경 에지 블러 파라미터에 대한 화소 수치별 표면 특성을 각각 생성함으로써, 배경 및 전경 에지 블러 예측 정보를 확정하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제9항에 있어서,상기 배경 에지 블러 파라미터와 전경 에지 블러 파라미터에 대한 평면은 하기 수학식과 같이 모델링 하는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제9항에 있어서,상기 크리깅 표면 특성을 산출하는 단계는, 에지 블러 파라미터로부터 하기 수학식과 같은 잔차성분을 획득하는 단계와, 상기 잔차성분들에 대한 베리오그램을 획득하고, 베리오그램의 포인트를 관측값으로 하여 이차 함수 형태의 공분산 함수를 생성하는 단계 및,최소자승기법을 이용하여 공분산 함수에 대한 파라미터를 추정함으로써, 일정 간격을 갖는 화소 수치값에 대한 크리깅 표면 특성을 획득하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제11항에 있어서,상기 이차함수 형태의 공분산 함수는 하기 수학식과 같이 생성되는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제9항에 있어서, 상기 화소 수치별 표면 특성에 따른 에지 블러 예측값은 하기 수학식에 의해 산출되는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제9항에 있어서,상기 표면 특성에 따른 배경 에지 블러 예측값은 배경 화소 수치값이 증가할수록 또는 전경 화소 수치값이 증가할수록 감소하도록 설정되고,상기 표면 특성에 따른 전경 에지 블러 예측값은 배경 화소 수치값이 증가할수록 또는 전경 화소 수치값이 감소할수록 증가하도록 설정되는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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제9항에 있어서,상기 배경 및 전경 에지 블러 예측 정보를 확정하는 단계는,상기 배경 에지 블러 파라미터의 평면 표면 특성과 전경 에지 블러 파라미터의 평면 표면 특성 간의 차이값이 "0"인 에지 블러 예측 정보를 생성하는 것을 특징으로 하는 에지 모델링을 위한 에지 블러 예측 방법
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