| 1 |
1
영상에 포함되는 에지 변위를 검출하기 위한 기준선을 결정하기 위한 패턴 이미지가 형성된 시트로서, 일정 폭을 갖는 선분 형상으로서 중앙의 공간을 두고 서로 이격형성되는 한 쌍의 수직 영역과 2개의 수평 영역으로 이루어지는 기준 패턴과, 상기 중앙 공간에 형성되는 4개의 정사각형으로 이루어지는 그리드 패턴의 2가지 패턴영역을 갖는 것을 특징으로 하는 타겟 시트
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 그리드 패턴은 상부 2개의 정사각형과 하부 2개의 정사각형으로 이루어지며, 하나의 정사각형과 그 대각선 방향의 정사각형은 배경으로 사용되고, 나머지 사각형들은 전경으로 사용되는 것을 특징으로 하는 타겟 시트
|
| 3 |
3
제 2 항에 있어서,상기 배경은 밝기값이 0으로 고정되고, 전경은 가변적인 밝기값을 갖도록 복수 개의 타겟 시트가 제작되는 것을 특징으로 하는 타겟 시트
|
| 4 |
4
밝기값에 따라 영상에 포함되는 에지의 변위를 추정하기 위한 방법으로서,기준선 검출을 위한 기준 패턴과 에지 위치 검출을 위한 그리드 패턴이 형성되고, 그리드 패턴에 포함되는 에지의 밝기값 변화가 서로 다른 복수 개의 타겟 시트를 준비하는 단계;상기 각 타겟 시트의 영상을 획득하는 단계;상기 각 타겟 시트의 기준패턴을 분석하여 기준선을 추정하는 단계;상기 각 타겟 시트의 그리드 패턴을 분석하여 그리드 패턴에 형성되는 에지의 위치를 추정하는 단계;각 타겟 시트의 기준선과 에지 위치 간의 변위값에 기초하여 밝기값 변화에 따른 에지 변위를 추정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
| 5 |
5
제 4 항에 있어서,상기 타겟 시트는 일정 폭을 갖는 선분 형상으로서 중앙의 공간을 두고 서로 이격형성되는 한 쌍의 수직 영역과 2개의 수평 영역으로 이루어지는 기준 패턴과, 상기 중앙 공간에 형성되는 4개의 정사각형으로 이루어지는 그리드패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
| 6 |
6
제 5 항에 있어서,상기 그리드 패턴은 상부 2개의 정사각형과 하부 2개의 정사각형으로 이루어지며, 하나의 정사각형과 그 대각선 방향의 정사각형은 배경으로 사용되고, 나머지 사각형들은 전경으로 사용되는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
| 7 |
7
제 6 항에 있어서,상기 배경은 밝기값이 0으로 고정되고, 전경은 가변적인 밝기값을 갖도록 복수 개의 타겟 시트가 제작되는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
| 8 |
8
제 4 항에 있어서,상기 각 타겟 시트의 영상을 획득하는 단계는 각 타겟 시트에 대하여 카메라 대 물체 간 거리를 가변시키면서 복수 개의 영상을 획득하는 단계를 포함하고,상기 각 타겟 시트의 기준선과 에지 위치 간의 변위값에 기초하여 밝기값 변화에 따른 에지 변위를 추정하는 단계는 밝기값 변화와 함께 카메라 대 물체 간 거리를 고려하여 에지 변위를 추정하는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
| 9 |
9
제 4 항에 있어서,상기 각 타겟 시트의 기준패턴을 분석하여 기준선을 추정하는 단계는미리 설정된 문턱값을 이용하여 상기 기준패턴에 대한 이진 이미지를 생성하는 단계;생성된 상기 이진 이미지를 연결성분 레이블링을 이용하여 레이블링하는 단계;레이블링된 영역 중에서 시작영역과 종료영역을 결정하는 단계;상기 시작영역과 종료영역 간에 속하는 영역의 밝기 프로파일을 획득하는 단계;밝기 기울기가 미리 설정된 기울기 문턱값 이하인 인덱스를 탐색하고, 인덱스 중에서 최소값을 갖는 지점을 해당 영역의 경계로 설정하며, 경계 지점의 밝기값과 그 사이의 밝기값에 의해 둘러싸인 영역을 생성하는 단계; 및로우 또는 컬럼 방향의 각 프로파일의 기하중심을 계산하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
| 10 |
10
제 7 항에 있어서,상기 각 타겟 시트의 그리드 패턴을 분석하여 그리드 패턴에 형성되는 에지의 위치를 추정하는 단계는추정된 기준선의 교차 위치에 기초하여 상기 그리드패턴 내에서 전경 영역과 배경 영역을 결정하는 단계;배경 영역에서 전경 영역 방향으로의 밝기 경사 프로파일을 획득하는 단계;상기 경사 프로파일에 기초한 최소 자승법을 사용하여 에지 위치를 추정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
| 11 |
11
제 10 항에 있어서,상기 경사 프로파일에 기초한 최소 자승법을 사용하여 에지 위치를 추정하는 단계는밝기 경사가 특정 문턱값보다 큰 값을 갖는 경계 위치들을 검색하고, 이들의 위치를 관측 벡터로 설정하는 단계;경사값과 상기 문턱값 간의 차의 제곱을 이용하여 관측 벡터의 가중치 행렬을 모델링하는 단계;상기 관측 벡터로부터 에지 위치를 표현하는 파라미터와 이에 대응하는 에러를 추정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
| 12 |
12
제 11 항에 있어서,상기 관측 벡터는 하기 수학식으로 표현되는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
| 13 |
13
제 11 항에 있어서,상기 파라미터는 하기 수학식으로 표현되는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
| 14 |
14
제 11 항에 있어서,상기 추정된 에러를 이용하여 추정 위치의 분산값을 산출하는 단계; 및상기 추정 위치의 분산값에 기초하여 에지 변위 추정값의 적절성을 평가하는 단계가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 밝기값에 대한 에지 변위 추정방법
|
