맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

3차원 미세패턴 형성장치

  • 기술번호 : KST2015112994
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 3차원 미세패턴 형성장치에 관한 것이다. 본 발명의 장치는 컴퓨터 재생을 통한 홀로그래픽 리소그래피를 이용하는 공간광변조기와 이광자 흡수 폴리머화를 이용한 미세패턴 형성시 이광자 흡수를 일으킬수 있는 펨토초레이저를 발생하여 2차원의 미세패턴을 적층하여 3차원의 미세패턴을 형성한다. 따라서, 본 발명의 장치는 리소그래피를 이용한 미세패턴을 형성함에 있어 마스크제작 비용을 절감하고 마스크 오차에 따른 패턴형성 조정 피드백에 대한 공정 시간을 감소시켜 빠른 시간내에 정확한 3차원의 미세 패턴을 형성할 수 있는 효과를 제공한다. 펨토초레이저, 이광자, 홀로그램
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC G03F 7/70283(2013.01)
출원번호/일자 1020080042989 (2008.05.08)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1020149-0000 (2011.02.28)
공개번호/일자 10-2009-0117092 (2009.11.12) 문서열기
공고번호/일자 (20110307) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.05.08)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 공홍진 대한민국 대전 유성구
2 이신욱 대한민국 서울 서초구
3 정병제 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 공인복 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로**길*-**, 대송빌딩 *층(특허법인 대한(서초분사무소))

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.05.08 수리 (Accepted) 1-1-2008-0329591-12
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.10.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.11.11 수리 (Accepted) 9-1-2008-0071051-04
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.06.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0250935-90
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2010.08.16 수리 (Accepted) 1-1-2010-0526205-83
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2010.08.16 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2010-0526221-14
7 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2010.08.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0075993-68
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2010-0596800-14
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.09.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0596804-96
10 서류반려통지서
Notice for Return of Document		 2010.09.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0086563-07
11 등록결정서
Decision to grant		 2010.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0545807-95
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
3차원의 미세패턴을 형성하기 위한 장치에 있어서, 이광자 흡수를 일으킬 수 있는 펨토초레이저를 발생하는 광원; 상기 펨토초레이저를 제어하는 레이저광선제어모듈; 상기 레이저광선제어모듈에 의해 출력된 레이저광을 확장하기 위한 레이저광선확장기; 상기 레이저광선확장기를 통해 확장된 레이저광에 홀로그램위상을 적용해 광변조하여 투과하는 공간광변조기; 투과된 변조광을 반사하여 출력하는 반사거울; 상기 반사거울로부터 반사된 반사광의 초점을 형성하기 위한 고개구현미경렌즈; 상기 초점에 의해 재생이미지가 맺히는 유리기판; 상기 재생이미지로부터 이광자흡수포리머화를 일으켜 상기 유리기판에 미세패턴을 형성하기 위한 이광자 흡수폴리머화 레진; 상기 유리기판을 Z축이동시키는 이동스테이지; 및 상기 레이저광선제어모듈의 레이저광출력 및 노출시간을 제어하고 상기 공간광변조기가 홀로그램 위상이 적용되어 광변조되도록 제어하기 위한 제어컴퓨터를 포함하고, 상기 제어컴퓨터는 퓨리에 변환을 반복적으로 수행하여 홀로그램 위상을 산출하여 상기 펨토초레이저가 홀로그램 위상만큼 광변조되도록 상기 공간광변조기를 제어하는 것을 특징으로 하는 3차원 미세패턴 형성장치
2 2
제 1항에 있어서, 상기 이광자 흡수폴리머화 레진은 상기 재생이미지의 광세기가 이광자 흡수 폴리머화 문턱세기보다 높게 되면 이광자 흡수 폴리머화가 진행되어 2차원 미세패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 3차원 미세패턴 형성장치
3 3
제 2항에 있어서, 상기 이동스테이지는 상기 유리기판을 Z축으로 이동하여 상기 생성된 2차원 미세패턴을 적층하여 3차원 미세패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 3차원 미세패턴 형성장치
4 4
삭제
5 5
3차원의 미세패턴을 형성하기 위한 장치에 있어서, 이광자 흡수를 일으킬 수 있는 펨토초레이저를 발생하는 광원; 상기 펨토초레이저를 제어하는 레이저광선제어모듈; 상기 레이저광선제어모듈에 의해 출력된 레이저광을 확장하기 위한 레이저광선확장기; 상기 레이저광선확장기를 통해 확장된 레이저광에 홀로그램위상을 적용해 광변조하여 반사하는 공간광변조기; 상기 공간광변조기로부터 반사된 반사광의 초점을 형성하기 위한 고개구현미경렌즈; 상기 초점에 의해 재생이미지가 맺히는 유리기판; 상기 재생이미지로부터 이광자흡수포리머화를 일으켜 상기 유리기판에 미세패턴을 형성하기 위한 이광자 흡수폴리머화 레진; 상기 유리기판을 Z축이동시키는 이동스테이지; 및 상기 레이저광선제어모듈의 레이저광출력 및 노출시간을 제어하고 상기 공간광변조기가 홀로그램 위상이 적용되어 광변조되도록 제어하기 위한 제어컴퓨터를 포함하고, 상기 제어컴퓨터는 퓨리에 변환을 반복적으로 수행하여 홀로그램 위상을 산출하여 상기 펨토초레이저가 홀로그램 위상만큼 광변조되도록 상기 공간광변조기를 제어하는 것을 특징으로 하는 3차원 미세패턴 형성장치
6 6
제 5항에 있어서, 상기 이광자 흡수폴리머화 레진은 상기 재생이미지의 광세기가 이광자 흡수 폴리머화 문턱세기보다 높게 되면 이광자 흡수 폴리머화가 진행되어 2차원 미세패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 3차원 미세패턴 형성장치
7 7
제 6항에 있어서, 상기 이동스테이지는 상기 유리기판을 Z축으로 이동하여 상기 생성된 2차원 미세패턴을 적층하여 3차원 미세패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 3차원 미세패턴 형성장치
8 8
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.