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서로 다른 파장을 갖는 레이저 빔을 발생시키는 멀티 레이저 광원부(100);상기 레이저 빔을 투과시키거나 반사시키는 편광식빔분리기(200);투과된 서로 다른 파장의 상기 레이저 빔의 광경로를 분리하는 공간식빔분리기(300);반전된 레이저 빔을 확장시키는 빔 확장기(400); 및확장된 레이저 빔과 상기 확장된 레이저 빔의 반사에 의해 서로 간섭을 일으킴으로써 제1패턴을 형성하고, 상기 서로 다른 파장에 의한 파동의 간섭에 의해 새로운 합성파를 생성함으로써 제2패턴을 형성하는 패턴 생성부(500);를 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제1패턴은 간섭무늬에 의한 나노 크기의 패턴인 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서,상기 합성파는 고주파 성분과 저주파 성분을 포함하며,상기 제2패턴은 상기 저주파 성분에 의해 형성되는 마이크로 패턴인 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서,상기 서로 다른 파장은 복간섭 주파수가 생성되도록 하는 파장인 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서,상기 편광식빔분리기(200)는,P편광의 빔은 투과시키고, S편광의 빔은 반사시키는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서,상기 편광식빔분리기(200)는,상기 반전된 레이저 빔을 반사시키는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서,상기 공간식빔분리기(300)는,상기 서로 다른 파장을 갖는 레이저 빔의 강도를 조절함으로써, 상기 조절된 강도에 따라 다양한 간섭무늬가 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치
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제 1 항에 있어서,상기 공간식빔분리기(300)는,투과된 상기 레이저 빔의 편광성분을 반전시키는 것을 특징으로 하는 헤테로 다인 간섭 리소그래피 장치
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멀티 레이저 광원부(100)가 서로 다른 파장을 갖는 레이저 빔을 발생시키는 단계(S610);편광식빔분리기(200)가 상기 레이저 빔을 투과시키는 단계(S620);공간식빔분리기(300)가 투과된 레이저 빔의 편광성분을 반전시키는 단계(S630);상기 편광식빔분리기(200)가 반전된 레이저 빔을 반사시키는 단계(S640); 및빔 확장기(400)가 반사된 레이저 빔을 확장시키는 단계(S650);를 포함함으로써확장된 레이저 빔과 상기 확장된 레이저 빔의 반사에 의해 서로 간섭을 일으킴으로써 제1패턴을 형성하고, 상기 서로 다른 파장에 의한 파동의 간섭에 의해 새로운 합성파를 생성함으로써 제2패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치를 이용한 패턴 형성방법
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제 9 항에 있어서,상기 제1패턴은 간섭무늬에 의한 나노 크기의 패턴인 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치를 이용한 패턴 형성방법
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제 9 항에 있어서,상기 합성파는 고주파 성분과 저주파 성분을 포함하며,상기 제2패턴은 상기 저주파 성분에 의해 형성되는 마이크로 패턴인 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치를 이용한 패턴 형성방법
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제 9 항에 있어서,상기 서로 다른 파장은 복간섭 주파수가 생성되도록 하는 파장인 것을 특징으로 하는 헤테로다인 간섭 리소그래피 장치를 이용한 패턴 형성방법
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