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이중층 전도막이 코팅된 전도성 기판 및 그의 제조 방법(Conductive substrate having double layer conductive film and method of manufacturing thereof)

  • 기술번호 : KST2016017510
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 금속나노와이어 등과 같은 전도성 나노 구조체를 포함하는 이중층 전도막이 코팅된 전도성 기판에 관한 것으로, 단일층 전도막으로 형성된 전도성 기판과 대비하여 낮은 저항을 구현할 수 있고, 노광 영역과 비노광 영역의 저항을 자유롭게 조절할 수 있는 이중층 전도막이 코팅된 전도성 기판을 제공하는 데 목적이 있다. 또한 본 발명의 이중층 구조를 통해 정전기에 안정된 전도막 구조를 제공할 수 있다. 본 발명은 기판, 기판 상에 형성되는 제1 전극과, 제1 전극의 상부에 형성되고, 금속나노와이어와 감광성 물질을 포함하여 노광 및 세척에 의해 제2 패턴이 형성된 제2 전극을 구비하는 이중층 전도막을 포함한다.
Int. CL H01L 21/285 (2006.01) H01L 21/02 (2006.01)
CPC H01L 21/28506(2013.01) H01L 21/28506(2013.01) H01L 21/28506(2013.01)
출원번호/일자 1020150041191 (2015.03.25)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1694856-0000 (2017.01.04)
공개번호/일자 10-2016-0116066 (2016.10.07) 문서열기
공고번호/일자 (20170111) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.03.25)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신권우 대한민국 경기도 화성시
2 김윤진 대한민국 경기도 수원시 영통구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박종한 대한민국 서울특별시 구로구 디지털로**길 * (구로동, 에이스하이엔드타워*차) ***호(한림특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.03.25 수리 (Accepted) 1-1-2015-0289830-33
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.09.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.11.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0070377-35
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.03.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0165671-87
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.05.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0419150-01
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.05.02 수리 (Accepted) 1-1-2016-0419142-35
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2016.08.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0554913-55
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0955933-61
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.10.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0955934-17
10 등록결정서
Decision to grant		 2017.01.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0007366-39
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판;상기 기판 상에 형성되는 비감광성 물질을 포함하는 제1 전극과, 상기 제1 전극의 상부에 형성되고, 금속나노와이어와 감광성 물질을 포함하여 노광 및 세척에 의해 제2 패턴이 형성된 제2 전극을 구비하는 이중층 전도막; 을 포함하고,상기 제1 전극은 저항을 1 ~ 1000Ω/sq 및 106 ~ 108Ω/sq 중 어느 하나로 설정하는 것을 특징으로 하는 이중층 전도막이 코팅된 전도성 기판
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 제1 전극의 소재로는 인듐주석산화물, 산화아연, 전도성고분자, 탄소나노튜브 및 그래핀 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 이중층 전도막이 코팅된 전도성 기판
4 4
제1항에 있어서,상기 제1 전극은 상기 제2 패턴의 하부에 형성되는 제1 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 이중층 전도막이 코팅된 전도성 기판
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서,상기 금속나노와이어로는 은나노와이어, 구리나노와이어 및 금나노와이어중 적어도 어느 하나를 포함하며,상기 금속나노와이어는 직경이 1 ~ 100nm 이고, 길이가 1 ~ 300㎛ 인 것을 특징으로 하는 이중층 전도막이 코팅된 전도성 기판
7 7
제1항에 있어서, 상기 제2 전극은 노광된 영역과 비노광된 영역을 포함하고, 상기 노광된 영역 및 비노광된 영역 중 세척에 의한 감광성 물질의 용해도가 높은 영역이 상기 제2 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 이중층 전도막이 코팅된 전도성 기판
8 8
기판 상에 비감광성 물질을 포함하는 제1 전극을 형성하는 단계;상기 제1 전극 상에 금속나노와이어와 감광성 물질을 포함하는 감광성 박막을 형성하는 단계;상기 감광성 박막의 일부 영역을 노광하는 단계;노광된 상기 감광성 박막을 용매로 세척하여 노광된 영역과 비노광된 영역간의 전기전도도 차이를 발생시켜 제2 패턴을 갖는 제2 전극을 형성하는 단계; 를 포함하고,상기 제1 전극은 저항을 1 ~ 1000Ω/sq 및 106 ~ 108Ω/sq 중 어느 하나로 설정하는 것을 특징으로 하는 이중층 전도막이 코팅된 전도성 기판의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업부 전자부품연구원 (산업부)기술료지원사업 (RCMS)에칭공정이 필요없는 신개념 은나노와이어 투명전극 패턴 형성 기술개발