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차세대 조명 및 디스플레이 산업을 위한 Indium-free의 투명전극기술

  • 기술번호 : KST2015014909
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 질화물 발광 소자 및 그 제조 방법을 개시한다. 본 발명은 질화물 발광 소자의 투명 전극층 내부에 공극이 포함되도록 형성하되, 공극의 양이 투명 전극층의 하부에서 상부로 갈수록 점진적으로 감소되도록 형성함으로써, 투명 전극층 전체적으로 하부에서 상부로 갈수록 굴절율이 감소하도록 형성하였다. 따라서, 본 발명은 투명 전극층에 포함되는 공극양을 점진적으로 조절하여 투명 전극층의 굴절률을 조절할 수 있는 효과가 있고, 투명 전극층의 굴절률을 조절할 수 있음으로 인해서 투명 전극층에 맞닿은 물질과의 계면에서 전반사가 발생하지 않도록 투명 전극층을 형성하여 발광 소자의 광추출 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Int. CL H01L 33/42 (2014.01)
CPC H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01)
출원번호/일자 1020070108555 (2007.10.26)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0905442-0000 (2009.06.24)
공개번호/일자 10-2009-0042675 (2009.04.30) 문서열기
공고번호/일자 (20090702) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.10.26)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김태근 대한민국 경기 성남시 분당구
2 임시종 대한민국 서울시 서대문구
3 신영철 대한민국 서울시 서초구
4 이병규 대한민국 서울시 도봉구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김정식 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(논현동, 건설회관)(특허법인주원)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.10.26 수리 (Accepted) 1-1-2007-0771071-48
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.03.05 수리 (Accepted) 4-1-2008-5034712-96
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0348274-80
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.08.26 수리 (Accepted) 1-1-2008-0606067-74
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.08.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0606069-65
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.12.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0617392-02
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2009-0057557-46
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.01.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0057570-30
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.06.09 수리 (Accepted) 4-1-2009-5111177-32
10 등록결정서
Decision to grant
2009.06.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0262073-50
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
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번호 청구항
1 1
삭제
2 2
질화물층이 형성된 기판; 및 상기 질화물층 위에, 내부에 공극을 포함하도록 형성된 투명 전극층을 포함하고, 상기 투명 전극층은 하부에서 상부로 공극의 양이 점증하는 것을 특징으로 하는 질화물 발광소자
3 3
질화물층이 형성된 기판; 및 상기 질화물층 위에, 내부에 공극을 포함하도록 형성된 투명 전극층을 포함하고, 상기 투명 전극층은 하부에서 상부로 갈수록 상기 투명 전극층을 형성하는 물질의 양이 감소하는 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자
4 4
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 투명 전극층을 형성하는 물질은 나사선 구조로 형성된 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자
5 5
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 투명 전극층을 형성하는 물질들 사이에 형성된 상기 공극은 나사선 구조로 형성된 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자
6 6
(a) 기판에 질화물층을 형성하는 단계; 및 (b) 회전하는 상기 기판으로 투명 전극층을 형성하는 물질이 입사되는 각을 변화시키면서 상기 질화물층 위에, 내부에 공극을 포함한 투명 전극층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 공극의 양은 상부로 갈수록 증가하는 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자 제조 방법
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 (b) 단계는 상기 투명 전극층을 형성하는 물질이 상기 기판에 입사되는 각을 수직에서 수평으로 변화시키면서 상기 투명 전극층을 형성하는 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자 제조 방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 (b) 단계는 상기 투명 전극층을 형성하는 물질을 방사하는 소오스에 대한 상기 기판의 기울기를 변화시키면서 상기 투명 전극층을 형성하는 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자 제조 방법
9 9
(a) 기판에 질화물층을 형성하는 단계; (b) 상기 질화물층에 공극 형성 구조물들을 형성하는 단계; (c) 상기 공극 형성 구조물들 사이의 공극에 투명 전극층 형성 물질을 침투시켜 투명 전극층을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 공극 형성 구조물들을 제거하여 투명 전극층에 상부로 갈수록 그 양이 증가하는 공극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 (b) 단계는, 회전하는 상기 기판으로 상기 공극 형성 구조물들을 형성하는 물질이 입사되는 각을 변화시키면서 증착하여 상기 공극 형성 구조물들을 형성하는 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자 제조 방법
10 10
삭제
11 11
제 9 항에 있어서, 상기 공극 형성 구조물은 상기 기판의 표면에서 상부로 갈수록 부피가 증가하는 나사선 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자 제조 방법
12 12
제 9 항에 있어서, 상기 공극 형성 구조물을 형성하는 물질은 실리콘 산화물인 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자 제조 방법
13 13
제 9 항에 있어서, 상기 (c) 단계는 상기 공극 형성 구조물들 사이의 공극에 투명 전극층 형성 물질의 Sol-Gel을 침투시켜 투명 전극층을 형성하는 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자 제조 방법
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 (c) 단계는 상기 기판을 투명 전극층 형성 물질의 Sol-Gel을 스핀 코팅하여 투명 전극층을 형성하는 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자 제조 방법
15 15
제 13 항에 있어서, 상기 (c) 단계는 상기 공극 형성 구조물들의 상부가 드러나도록 상기 투명 전극층의 상부를 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물 발광 소자 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.