[KST2019020955][한국전자기술연구원] |
금속 기재 위 다층 그래핀의 ALD 공정을 적용한 광학적 검사 방법 및 검사 기기 |
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[KST2015146654][한국전자기술연구원] |
LIGA 공정용 X-선 마스크 |
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[KST2015145122][한국전자기술연구원] |
전계 효과 트랜지스터가 내장된 원자력 현미경용캔틸레버의 채널 형성 방법 |
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[KST2015145124][한국전자기술연구원] |
병렬 프로브로 리소그래피하는 방법 |
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[KST2015145689][한국전자기술연구원] |
병렬 프로브를 이용하여 패터닝하는 방법 |
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[KST2018011970][한국전자기술연구원] |
은나노와이어를 포함한 분산액 및 그를 이용한 고유연성 투명 전도성 코팅 기판의 제조방법 |
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[KST2015146787][한국전자기술연구원] |
병렬 프로브를 이용한 나노 리소그래피 시스템 및 방법 |
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[KST2014002774][한국전자기술연구원] |
나노와이어 자동 전사시스템 및 그의 구동방법 |
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[KST2015144924][한국전자기술연구원] |
개선된 엘아이쥐에이 공정 |
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[KST2015145754][한국전자기술연구원] |
X-선 마스크 및 그 제조 방법 |
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[KST2021007981][한국전자기술연구원] |
소자접합성능향상방법 |
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[KST2021007138][한국전자기술연구원] |
다이렉트 패터닝을 이용한 스트레인 센서 조립체 및 그의 제조 방법 |
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[KST2015145117][한국전자기술연구원] |
수직 종횡비가 큰 원자력 현미경용 전계 효과 트랜지스터캔틸레버의 제조 방법 |
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[KST2015146348][한국전자기술연구원] |
액체에서 사용가능한 고 종횡비 단전자 트랜지스터 구조를갖는 원자간력 현미경 캔틸레버 및 그 제조방법 |
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[KST2015146519][한국전자기술연구원] |
패턴 제작 장치 및 그 방법 |
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[KST2015145399][한국전자기술연구원] |
폴리머 후막 저항체 형성 방법 |
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[KST2014035024][한국전자기술연구원] |
폴리머 후막 저항체용 페이스트 조성물 및 이를 이용한 후막 저항체 제조방법 |
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[KST2015146443][한국전자기술연구원] |
X-선 마스크 및 그 제조방법 |
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[KST2015145567][한국전자기술연구원] |
나노 패턴 형성방법 |
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[KST2018004504][한국전자기술연구원] |
소자실장재 프리폼 및 그의 제조방법(Preform for bonding material and manufacturing method thereof) |
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[KST2017012548][한국전자기술연구원] |
태양전지 웨이퍼 재자원화 방법(METHOD FOR REUSE A SOLAR CELL) |
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[KST2019003537][한국전자기술연구원] |
실리콘 나노와이어를 이용한 이미지 센서 및 그 제조방법 |
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[KST2022004392][한국전자기술연구원] |
감광성 유리를 이용한 반도체 패키지 및 그 제조방법 |
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[KST2015145120][한국전자기술연구원] |
원자력 현미경용 전계 효과 트랜지스터 캔틸레버의 제조방법 |
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[KST2015001923][한국전자기술연구원] |
인쇄 패턴 형성 방법 |
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[KST2021007032][한국전자기술연구원] |
다이렉트 패터닝을 이용한 스트레인 센서 및 그의 제조 방법 |
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[KST2015146730][한국전자기술연구원] |
액적 토출용 노즐 제조 방법 및 이를 이용해 제조된 노즐을 이용한 정전식 액적 토출 장치 |
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[KST2014048840][한국전자기술연구원] |
액적 토출 장치 |
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[KST2016017221][한국전자기술연구원] |
광조사를 이용한 전도성 기판 및 그의 제조 방법(Conductive substrate using light irradiation and manufacturing method thereof) |
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[KST2015146278][한국전자기술연구원] |
원자력 현미경용 MOSFET 캔틸레버 |
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