맞춤기술찾기

이전대상기술

향상된 성능을 갖는 박막화된 초격자 광검출기 및 그의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2022005605
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 다양한 실시예들은 초격자 광검출기 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 초격자 광검출기는 입사되는 광을 흡수하기 위한 흡수층, 및 흡수층에 결합되어, 입사되는 광이 흡수층 내에서 도파되도록 하는 도파층을 포함하고, 도파층은 복수의 금속 패턴들과 복수의 유전체 패턴들이 반복으로 배열되는 주기 구조를 포함할 수 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 초격자 광검출기는 향상된 성능을 가지면서도, 박막화될 수 있다.
Int. CL H01L 31/0352 (2006.01.01) H01L 31/08 (2006.01.01)
CPC H01L 31/035236(2013.01) H01L 31/08(2013.01)
출원번호/일자 1020200151149 (2020.11.12)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0064735 (2022.05.19) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.11.12)
심사청구항수 20

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김상현 대전광역시 유성구
2 금대명 대전광역시 유성구
3 안승엽 대전광역시 유성구
4 임진하 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.11.12 수리 (Accepted) 1-1-2020-1213245-15
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.01.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
초격자 광검출기에 있어서, 입사되는 광을 흡수하기 위한 흡수층; 및상기 흡수층에 결합되어, 상기 입사되는 광이 상기 흡수층 내에서 도파되도록 하는 도파층을 포함하고, 상기 도파층은,복수의 금속 패턴들과 복수의 유전체 패턴들이 반복으로 배열되는 주기 구조를 포함하는, 초격자 광검출기
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 주기 구조에는,상기 금속 패턴들과 상기 유전체 패턴들이 종렬 또는 횡렬 중 적어도 하나로 반복되는,초격자 광검출기
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 도파층을 사이에 두고, 상기 흡수층의 맞은 편에 배치되는 회로층을 더 포함하는,초격자 광검출기
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 회로층과 상기 도파층 사이에 배치되는 커패시터층을 더 포함하는,초격자 광검출기
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 커패시터층은,상기 회로층에 대향하여 배치되는 제 1 금속층;상기 도파층에 대향하여 배치되는 제 2 금속층; 및상기 제 1 금속층과 상기 제 2 금속층 사이에 배치되는 절연층을 포함하는, 초격자 광검출기
6 6
제 3 항에 있어서, 상기 도파층은,상기 주기 구조에 결합되어, 상기 주기 구조를 지지하고, 상기 회로층에 전기적으로 연결되는 금속층을 더 포함하는, 초격자 광검출기
7 7
제 2 항에 있어서, 상기 금속 패턴들은,상호로부터 이격되어, 바둑판 배열로 배치되고, 상기 유전체 패턴들은,상기 금속 패턴들 사이에 배치되는,초격자 광검출기
8 8
제 5 항에 있어서, 상기 제 1 금속층 및 상기 제 2 금속층은, 상기 회로층에 각각 전기적으로 연결되는, 초격자 광검출기
9 9
초격자 광검출기의 제조 방법에 있어서, 입사되는 광을 흡수하기 위한 흡수층을 준비하는 단계; 및상기 흡수층 상에 상기 입사되는 광이 상기 흡수층 내에서 도파되도록 하기 위한 도파층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 도파층은,복수의 금속 패턴들과 복수의 유전체 패턴들이 반복으로 배열되는 주기 구조를 포함하는, 방법
10 10
제 9 항에 있어서, 상기 주기 구조에는,상기 금속 패턴들과 상기 유전체 패턴들이 종렬 또는 횡렬 중 적어도 하나로 반복되는,방법
11 11
제 9 항에 있어서, 상기 도파층을 형성하는 단계는, 상기 흡수층 상에 상기 금속 패턴들을 형성하는 단계; 및상기 흡수층 상에서 상기 금속 패턴들 사이에 상기 유전체 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는, 방법
12 12
제 9 항에 있어서, 상기 흡수층과 상기 도파층이 반전되도록 회전시켜, 회로층 상에 상기 도파층을 결합시키는 단계를 더 포함하는,방법
13 13
제 9 항에 있어서, 회로층 상에 커패시터층을 형성하는 단계; 및상기 흡수층과 상기 도파층이 반전되도록 회전시켜, 상기 커패시터층 상에 상기 도파층을 장착시키는 단계를 더 포함하는,방법
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 커패시터층은,상기 회로층에 대향하여 배치되는 제 1 금속층;상기 도파층에 대향하여 배치되는 제 2 금속층; 및상기 제 1 금속층과 상기 제 2 금속층 사이에 배치되는 절연층을 포함하는, 방법
15 15
제 14 항에 있어서, 상기 커패시터층을 형성하는 단계는,상기 회로층 상에 제 1 보호층을 형성하는 단계;상기 제 1 보호층 상에 상기 커패시터층을 형성하는 단계; 및상기 커패시터층 상에 제 2 보호층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 제 1 금속층과 상기 제 2 금속층은,상기 제 1 보호층을 관통하여, 상기 회로층에 전기적으로 연결되는,방법
16 16
제 15 항에 있어서, 상기 도파층을 장착시키는 단계는, 상기 제 2 보호층 상에 상기 도파층을 장착시키는 단계를 포함하고, 상기 도파층은, 상기 제 1 보호층 또는 상기 제 2 보호층 중 적어도 하나를 관통하여, 상기 회로층에 전기적으로 연결되는 방법
17 17
제 12 항에 있어서, 상기 흡수층을 준비하는 단계는,기판 상에 상기 흡수층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 방법은,상기 회로층 상에 상기 도파층이 결합된 후에, 상기 기판을 제거하는 단계를 더 포함하는,방법
18 18
제 13 항에 있어서, 상기 흡수층을 준비하는 단계는,기판 상에 상기 흡수층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 방법은,상기 커패시터층 상에 상기 도파층이 장착된 후에, 상기 기판을 제거하는 단계를 더 포함하는, 방법
19 19
제 11 항에 있어서, 상기 도파층을 형성하는 단계는,상기 금속 패턴들과 상기 유전체 패턴들 상에 금속층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 방법
20 20
제 10 항에 있어서, 상기 금속 패턴들은,상호로부터 이격되어, 바둑판 배열로 배치되고, 상기 유전체 패턴들은,상기 금속 패턴들 사이에 배치되는,방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.