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기판의 국소적 온도 조절이 가능한 나노 구조체 제조장치 및 나노 구조체 제조방법

  • 기술번호 : KST2014032924
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판의 온도를 조절하여 나노 구조체를 제조하는 장치 및 나노 구조체의 제조방법에 있어서, 반응로 내부의 가스 유동을 방해하지 않으면서도 국소적으로 기판의 온도를 조절함으로써 재현성 있게 고품질의 나노 구조체를 제조하는 장치 및 방법을 제공한다. 나노 구조체, 나노 구조체 제조장치
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/02 (2011.01) H01L 21/683 (2011.01) H01L 21/687 (2011.01)
CPC C30B 25/10(2013.01) C30B 25/10(2013.01) C30B 25/10(2013.01) C30B 25/10(2013.01) C30B 25/10(2013.01) C30B 25/10(2013.01)
출원번호/일자 1020090029477 (2009.04.06)
출원인 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0980563-0000 (2010.08.31)
공개번호/일자 10-2009-0051016 (2009.05.20) 문서열기
공고번호/일자 (20100906) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2007-0030571 (2007.03.28)
관련 출원번호 1020070030571
심사청구여부/일자 Y (2009.04.06)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김진교 대한민국 서울 중구
2 이상화 대한민국 서울 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오세중 대한민국 서울시 강남구 테헤란로 ***, **** (역삼동. 성지하이츠 Ⅱ)(해오름국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2009.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0206049-15
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.07.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0296398-13
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.09.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0567068-05
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.09.15 수리 (Accepted) 1-1-2009-0567071-32
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.01.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0020209-88
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.03.15 수리 (Accepted) 1-1-2010-0162186-65
7 보정요구서
Request for Amendment
2010.03.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0025873-82
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2010-0241717-96
9 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2010.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2010-0182623-85
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.04.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0241716-40
11 등록결정서
Decision to grant
2010.08.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0336111-80
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2015-5029677-09
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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기판을 안치하기 위한 기판 홀더를 갖는 나노 구조체 제조장치에 있어서, 상기 기판 홀더는, 상기 기판의 온도를 상기 기판의 주변 기체의 온도에 비해 낮게 유지시키는 기판 온도 조절 수단을 포함하며, 상기 기판 온도 조절 수단은, 상기 기판 홀더의 내부에 형성된 공동과; 상기 공동에 유체를 공급하여 순환시키며 상기 공급된 유체의 양을 조절함으로써 상기 기판의 온도를 조절하기 위한 유체 주입관으로 구성되는데, 상기 유체 주입관으로 주입되는 유체는 가스이며, 반응로 내부의 온도를 700 ~ 1200℃로 유지한 상태에서 상기 기판의 온도를 100 ~ 700℃로 유지하며, 상기 기판 온도 조절 수단은 상기 유체 주입관으로 주입되는 유체의 양을 조절하여 박막, 나노로드, 나노튜브 및 포러스 재료 중 어느 하나를 제조하는 것을 특징으로 하는 기판의 국소적 온도 조절이 가능한 나노 구조체 제조장치
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제 1 항에 있어서, 상기 기판 온도 조절수단은, 상기 기판 홀더의 하단에 설치된 전기적 냉각장치인 것을 특징으로 하는 기판의 국소적 온도 조절이 가능한 나노 구조체 제조장치
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기판 홀더 상부에 기판을 설치하고, 제1 가스 주입관의 내부에 설치된 용기에 Ⅲ-족 원소를 담는 단계와; 전기로를 작동시켜 반응로 내부의 온도를 700 ~ 1200℃로 유지하는 단계와; 상기 기판 홀더의 내부에 형성된 공동과 상기 공동에 유체를 공급하는 유체 주입관으로 구성된 기판 온도 조절 수단을 이용하여 상기 기판의 온도를 상기 기판의 주변 기체의 온도에 비해 낮게 유지하는 단계와; 상기 제1 가스 주입관을 통해 할리드 가스를 주입하여 상기 용기속의 Ⅲ-족 원소와 반응하여 생성되는 가스를 상기 기판의 상부로 투입되도록 하는 단계와; 제 2가스 주입관을 통해 V-족 원소를 포함하는 기체를 상기 반응로 내부로 투입하는 단계를 포함하며, 상기 기판 온도 조절 수단은, 상기 공동에 유체를 공급하여 순환시키며 상기 공급된 유체의 양을 조절함으로써 상기 기판의 온도를 100 ~ 700℃로 유지시키며, 상기 Ⅲ-족 원소는 Ga이고, 상기 V-족 원소를 포함하는 기체는 NH3이며, 상기 유체는 가스이며, 상기 기판 온도 조절 수단은 상기 유체 주입관으로 주입되는 유체의 양을 조절하여 박막, 나노로드, 나노튜브 및 포러스 재료 중 어느 하나를 제조하는 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조방법
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기판을 안치하기 위한 기판 홀더를 갖는 나노 구조체 제조장치에 있어서, 상기 기판 홀더는, 상기 기판의 온도를 상기 기판의 주변 기체의 온도에 비해 낮게 유지시키는 기판 온도 조절 수단을 포함하며, 상기 기판 온도 조절 수단은, 상기 기판 홀더의 내부에 형성된 공동과; 상기 공동에 유체를 공급하여 순환시키며 상기 공급된 유체의 양을 조절함으로써 상기 기판의 온도를 조절하기 위한 유체 주입관과; 상기 기판 홀더의 하단에 설치된 전기적 냉각장치를 포함하며, 상기 유체 주입관으로 주입되는 유체는 가스이며, 반응로 내부의 온도를 700 ~ 1200℃로 유지한 상태에서 상기 기판의 온도를 100 ~ 700℃로 유지하며, 상기 기판 온도 조절 수단은 박막, 나노로드, 나노튜브 및 포러스 재료 중 어느 하나를 제조하는 것을 특징으로 하는 기판의 국소적 온도 조절이 가능한 나노 구조체 제조장치
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR1020080088126 KR 대한민국 FAMILY

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