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전자방출원과, 전자방출원으로부터 방출된 전자를 충돌시켜 X선을 방출하는 타켓을 포함하는 X-ray 램프에 있어서,상기 X-ray 램프는 전자방출원은 에미터를 갖는 박막 형태의 전자방출 소자인 것을 특징으로 하는 X-ray 램프
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제 1 항에 있어서, 상기 X-Ray 램프의 전원공급기는 상기 전자방출 소자의 애노드 전극과 상기 타켓에 전원을 공급하는 DC 전원공급기와, 상기 전자방출 소자의 매쉬 전극에 전원을 공급하는 AC/DC 전원공급기를 포함하는 것을 특징으로 하는 X-ray 램프
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제 1 항에 있어서, 상기 필드 에미터의 메쉬 전극의 수는 방출되는 전자빔의 집속에 따라 1 내지 5개인 것을 특징으로 하는 X-ray 램프
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전자방출원과, 전자방출원으로부터 방출된 전자를 충돌시켜 X선을 방출하는 타켓과, 상기 타겟에서 방출된 X선을 필터링하기 위한 글라스 필터와, 상기 전자방출원과 타겟, 그리고 글라스 필터가 설치되는 진공 케이스와, 상기 타켓과 전자방출원에 전원을 공급하는 전원공급기로 구성된 X-ray 램프에 있어서,상기 X-ray 램프의 크기 및 용량에 따라 필요한 전류를 계산하여 그에 맞는 에미터 개수를 M×N개(M, N은 1 이상의 자연수)의 탄소나노튜브로 형성된 에미터를 갖는 필드 에미터를 타일링방식으로 결합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 X-ray 램프
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X-Ray 램프의 전자방출원으로 사용되는 전자방출 소자의 필드 에미터 제조방법에 있어서, 기판 상부에 캐소드 전극을 형성하고 그 상부에 촉매 금속층을 형성하는 단계와; 상기 촉매 금속층 상부에 포토레지스트층을 형성하고 리소그라피 공정에 의해 원하는 위치에 원하는 모양의 패턴을 형성하고 촉매 금속층이 노출되도록 레지스트층을 형성하는 단계와;상기 노출된 촉매 금속층을 식각하고, 식각되지 않은 촉매 금속층 상부의 레지스트층을 잔류시키는 단계와;상기 패터닝된 촉매 금속층을 어닐링하여 탄소나노튜브가 성장될 수 있도록 씨앗(Seed)을 성장시키는 단계와;상기 씨앗이 형성된 촉매 금속층을 이용하여 에미터를 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 X-ray 램프용 필드 에미터 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 기판은,유리 기판, 석영 기판, 규소(실리콘 웨이퍼) 기판 또는 알루미나(Al2O3) 기판 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 X-ray 램프용 필드 에미터 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 촉매 금속층은,니켈(Ni), 철(Fe) 또는 코발트(Co)와 같은 전이 금속 중 어느 하나이거나, 코발트-니켈, 코발트-철, 니켈-철 또는 코발트-니켈-철이 합성된 합금 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 X-ray 램프용 필드 에미터 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 포토레지스트층은,스핀코팅 방법 또는 슬릿 코팅법 으로 0
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제 5 항에 있어서, 상기 포토레지스트층을 형성하기 위해 사용되는 레지스터는,무기 레지스트, 유기 레지스트 및 유,무기 혼합형 레지스트, 또는 감광형 유리페이스트 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 X-ray 램프용 필드 에미터 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 촉매 금속층을 어닐링하는 방법은,반응로의 온도를 약 500 내지 800 ℃로 유지한 상태에서 30 분 내지 수 시간 동안 용융하여 탄소나노튜브 형성을 위한 씨앗(seed)을 성장시키는 것을 특징으로 하는 X-ray 램프용 필드 에미터 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 필드 에미터를 구성하는 에미터는,탄소나노튜브인 것을 특징으로 하는 X-ray 램프용 필드 에미터 제조방법
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제 11 항에 있어서, 상기 탄소 나노튜브는,플라즈마 화학기상층착법을 이용하여 성장시키는 것을 특징으로 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 X-ray 램프용 필드 에미터 제조방법
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제 11 항에 있어서, 상기 탄소 나노튜브는,CNT를 포함하는 접착제(Paste)를 이용하여 캐소드 전극에 프린팅 법을 이용하여 직접 코팅하는 것을 특징으로 X-ray 램프용 필드 에미터 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 촉매 금속층은,게이트 전극 상부에 포토레지스트를 도포하고, 촉매 금속층이 형성될 부분을 식각하여 패턴닝하는 단계와;상기 패터닝된 포토레지스트층 상부에 촉매 금속층을 형성하고 리프트 오프방법으로 포토레지스트를 제거하는 단계를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 X-ray 램프용 필드 에미터 제조방법
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제 1 항의 필드 에미터 제조방법에 따라 M×N개(M,N은 1이상의 자연수)의 에미터를 갖는 다수개의 필드 에미터를 제조하는 단계와;상기 제조된 다수개의 필드 에미터를 타일링하는 방법으로 부착한 대용량 대면적의 필드 에미터를 형성하여 X-ray 램프에 설치하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 X-ray 램프의 제조방법
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