요약 | 본 발명은 연마 입자, 이를 이용한 연마 슬러리 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 세륨 전구체를 건조시킨 후 세라믹 재질의 밀폐 용기에 충진하여 하소함으로써 하소시 외부 대기와의 접촉을 차단하여 연마 입자의 결정립의 크기를 크게할 수 있으며, 고온 하소시 생성되는 비정상 입자 성장을 제어할 수 있고, 결정립의 주피크와 부피크의 상호비가 낮아 경도 및 강도가 낮기 때문에 연마시 스크래치가 발생하지 않으면서 연마율을 유지할 수 있다.연마 입자, 산화세륨, 밀폐 용기, 하소, 비정상 입자 성장, 건조 |
---|---|
Int. CL | C09K 3/14 (2006.01.01) C01F 17/00 (2020.01.01) H01L 21/306 (2006.01.01) |
CPC | C09K 3/1409(2013.01) C09K 3/1409(2013.01) C09K 3/1409(2013.01) C09K 3/1409(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020060092418 (2006.09.22) |
출원인 | 주식회사 케이씨, 한양대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-0803729-0000 (2008.02.05) |
공개번호/일자 | |
공고번호/일자 | (20080218) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2006.09.22) |
심사청구항수 | 15 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 주식회사 케이씨 | 대한민국 | 경기도 안성시 |
2 | 한양대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 성동구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김동현 | 대한민국 | 서울 강서구 |
2 | 김대형 | 대한민국 | 경기 안성시 |
3 | 홍석민 | 대한민국 | 경기도 안성시 |
4 | 서명원 | 대한민국 | 경기 용인시 풍덕 |
5 | 김용국 | 대한민국 | 경기 안성시 |
6 | 황준하 | 대한민국 | 경기 안성시 |
7 | 백운규 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 |
8 | 박재근 | 대한민국 | 경기도 성남시 분당구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 남승희 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층(역삼동, 청보빌딩)(아인특허법률사무소) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한양대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 성동구 |
2 | 주식회사 케이씨텍 | 경기도 안성시 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 Patent Application |
2006.09.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0688165-71 |
2 | 출원인변경신고서 Applicant change Notification |
2006.12.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0942796-52 |
3 | 서지사항보정서 Amendment to Bibliographic items |
2006.12.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0942790-89 |
4 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2007.05.07 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
5 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2007.06.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2007-0036889-36 |
6 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2007.07.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0408256-19 |
7 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2007.09.20 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0682843-13 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2007.09.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0682844-69 |
9 | 등록결정서 Decision to grant |
2008.01.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0048760-10 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2008.03.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5037763-28 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.06.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5068294-39 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.02.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5022074-70 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.05.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5070900-17 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.11.06 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5176182-94 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5155816-75 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.06 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5156285-09 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.11.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5246687-07 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 세륨 전구체를 건조하는 단계;상기 건조된 세륨 전구체를 밀폐시키는 단계;상기 건조된 세륨 전구체를 밀폐된 상태에서 가열하여 하소하는 단계를 포함하는 연마 입자의 제조 방법 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 제 1 항에 있어서, 상기 세륨 전구체는 세륨 카보네이트를 포함하는 연마 입자의 제조 방법 |
4 |
4 제 1 항에 있어서, 상기 세륨 전구체는 결정 성장이 시작되는 온도 이하에서 건조하고, 상기 건조 방식이 자연 건조, 순풍 건조, 복사열 건조, 대류열 건조, 전도열 건조중 어느 하나 또는 이들을 혼합하여 실시하는 연마 입자의 제조 방법 |
5 |
5 제 1 항에 있어서, 상기 세륨 전구체는 건조 후 무게가 1 내지 20% 감소하는 연마 입자의 제조 방법 |
6 |
6 제 1 항에 있어서, 상기 건조된 세륨 전구체는 밀폐 용기에 의해 밀폐되는 연마 입자의 제조 방법 |
7 |
7 제 1 항 또는 제 6 항에 있어서, 상기 건조된 세륨 전구체는 상기 밀폐 용기에 용적 또는 무게 대비 10 내지 100%로 충진하는 연마 입자의 제조 방법 |
8 |
8 제 1 항에 있어서, 상기 하소는 터널식 열처리 로를 이용하여 500 내지 900℃의 온도에서 실시하는 연마 입자의 제조 방법 |
9 |
9 제 8 항에 있어서, 상기 터널식 열처리 로는 전체 이동 거리가 5 내지 20m이며, 50 내지 3000㎜/시간의 이동 속도로 상기 밀폐 용기를 이동시키는 연마 입자의 제조 방법 |
10 |
10 제 9 항에 있어서, 상기 터널식 열처리 로는 상기 밀폐 용기를 전기적 푸셔, 유공압 실린더 푸셔 또는 롤러를 이용하여 이동시키는 연마 입자의 제조 방법 |
11 |
11 슬러리용 연마 입자에 있어서,상기 연마 입자는 세륨 전구체를 건조한 후 밀폐된 상태에서 열처리하여 하소되고, 상기 연마 입자는 결정 분석에 의한 표면 에너지가 상대적으로 높은 결정면 방향 피크에 대하여 표면 에너지가 상대적으로 낮은 결정면 방향 피크의 상호비가 1 |
12 |
12 제 11 항에 있어서, 상기 연마 입자는 산화세륨을 포함하는 연마 입자 |
13 |
13 제 11 항에 있어서, 상기 표면 에너지가 상대적으로 높은 결정면 방향 피크는 (200) 방향 피크이고, 상기 표면 에너지가 상대적으로 낮은 결정면 방향 피크는 (111) 방향 피크인 연마 입자 |
14 |
14 세륨 전구체를 건조한 후 밀폐시키고, 상기 건조된 세륨 전구체가 밀폐된 상태에서 열처리하여 하소함으로써 제조된 연마 입자를 분산제와 함께 초순수에 혼합하는 단계;상기 연마 입자, 분산제 및 초순수가 혼합된 물질을 밀링하는 단계; 및상기 혼합된 물질의 거대 입자를 제거한 후 숙성시켜 안정화하는 단계를 포함하는 연마 슬러리의 제조 방법 |
15 |
15 제 14 항에 있어서, 상기 밀링 후의 연마 입자는 결정 분석에 의한 표면 에너지가 상대적으로 높은 결정면 방향 피크에 대하여 표면 에너지가 상대적으로 낮은 결정면 방향 피크의 상호비가 2 |
16 |
16 건조된 세륨 전구체가 밀폐된 상태에서 열처리에 의해 하소됨으로써 제조된 연마 입자를 분산제와 함께 초순수에 혼합하고, 혼합된 물질을 밀링하며, 상기 밀링 후 결정 분석에 의한 표면 에너지가 상대적으로 높은 결정면 방향 피크에 대하여 표면 에너지가 상대적으로 낮은 결정면 방향 피크의 상호비가 2 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
패밀리정보가 없습니다 |
---|
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
공개전문 정보가 없습니다 |
---|
특허 등록번호 | 10-0803729-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20060922 출원 번호 : 1020060092418 공고 연월일 : 20080218 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20080129 청구범위의 항수 : 15 유별 : C09K 3/14 발명의 명칭 : 연마 입자, 이를 이용한 연마 슬러리 및 그 제조 방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 주식회사 케이씨 경기 안성시 ... |
1 |
(권리자) 한양대학교 산학협력단 서울특별시 성동구... |
2 |
(권리자) 주식회사 케이씨텍 경기도 안성시 ... |
2 |
(의무자) 주식회사 케이씨 경기 안성시 ... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 370,500 원 | 2008년 02월 11일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 370,000 원 | 2010년 12월 21일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 370,000 원 | 2011년 12월 16일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 370,000 원 | 2012년 12월 06일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 670,000 원 | 2013년 11월 26일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 670,000 원 | 2014년 12월 15일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 670,000 원 | 2015년 11월 24일 | 납입 |
제 10 년분 | 금 액 | 1,065,000 원 | 2016년 12월 26일 | 납입 |
제 11 년분 | 금 액 | 1,065,000 원 | 2018년 01월 16일 | 납입 |
제 12 년분 | 금 액 | 532,500 원 | 2019년 01월 04일 | 납입 |
제 13 년분 | 금 액 | 592,500 원 | 2020년 01월 02일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 | 2006.09.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0688165-71 |
2 | 출원인변경신고서 | 2006.12.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0942796-52 |
3 | 서지사항보정서 | 2006.12.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0942790-89 |
4 | 선행기술조사의뢰서 | 2007.05.07 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
5 | 선행기술조사보고서 | 2007.06.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2007-0036889-36 |
6 | 의견제출통지서 | 2007.07.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0408256-19 |
7 | [명세서등 보정]보정서 | 2007.09.20 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0682843-13 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2007.09.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0682844-69 |
9 | 등록결정서 | 2008.01.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0048760-10 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2008.03.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5037763-28 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.06.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5068294-39 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.02.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5022074-70 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.05.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5070900-17 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.11.06 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5176182-94 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5155816-75 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.06 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5156285-09 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.11.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5246687-07 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1345071157 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A2008 |
연구과제명 | 나노기반Imagineer양성사업단 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
연구주관기관명 | 한양대학교 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
[1020080136306] | 멀티 비트 강유전체 메모리 소자 및 그 제조방법 | 새창보기 |
---|---|---|
[1020080123458] | 사회망을 이용한 서지 정보의 저자명 명확화 장치 및 이를 수행하기 위한 방법 | 새창보기 |
[1020080116346] | 멀티비트 비휘발성 메모리 소자 | 새창보기 |
[1020080115129] | 란타늄-스트론튬-망간 산화물 박막의 제조방법{ | 새창보기 |
[1020080101707] | 태양 에너지를 이용한 발전장치 | 새창보기 |
[1020080099615] | 에피택셜 코발트 실리사이드 형성방법 | 새창보기 |
[1020080092224] | 방음벽용 흡음 패널 및 이를 구비한 방음벽 | 새창보기 |
[1020080089157] | 방음벽용 흡음 패널 및 이를 구비한 방음벽 | 새창보기 |
[1020080082746] | 전자빔을 이용한 옐로우 사파이어의 제조방법 | 새창보기 |
[1020080066972] | 산화아연계 반도체 박막의 제조방법, 이를 이용한 박막트랜지스터 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[1020080057142] | Fe계 베어링 합금 | 새창보기 |
[1020080053638] | MoO₃ 분말을 이용한 MoO₃의 박막 형성 방법 | 새창보기 |
[1020080039724] | 전도성 폴리아닐린 나노입자의 제조방법 및 이에 의하여제조된 전도성 폴리아닐린 나노입자 | 새창보기 |
[1020080039184] | 도로표지 조성물 및 도로표지물 형성방법 | 새창보기 |
[1020080035103] | ECR-ALD법으로 제조된 산화막이 구비된 반도체 소자,이의 제조방법, 및 이의 용도 | 새창보기 |
[1020080031403] | 탄소나노튜브 투명 전극 및 그 제조 방법 | 새창보기 |
[1020080031134] | 멀티비트 강유전체 기억소자 | 새창보기 |
[1020080028358] | 반도체 소자의 제조방법 | 새창보기 |
[1020080021863] | ECR 플라즈마를 이용한 유기 소자의 보호막 제조방법 | 새창보기 |
[1020080015149] | 실리콘막 형성 방법 | 새창보기 |
[1020080012154] | 전계 분무 에어로졸 화염 분사법을 이용한 Gd 도핑된 CeO₂ 나노 분말의 제조방법 및 제조장치 | 새창보기 |
[1020080004684] | Fe-Si계 연자성 분말의 제조 방법, 및 이를 이용한 연자성 코어 | 새창보기 |
[1020070086885] | FALC 공정을 이용한 다결정 실리콘 TFT 어레이 기판 제조에서의 채널 영역 결정화방법 | 새창보기 |
[1020070069919] | 유기 소자의 보호막 제조방법 | 새창보기 |
[1020070045427] | 정보저장용 금속 및 산화물 나노입자 제조 - HDD용 소재 - | 새창보기 |
[1020070033114] | 유기 소자의 보호막 제조방법 | 새창보기 |
[1020070030758] | 내식내마모성 철계 합금 | 새창보기 |
[1020070023962] | 내식내마모성 철계 합금 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[1020070010432] | 투명 전도성 박막 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
[1020060121179] | 엠아이엠 캐패시터 형성방법 | 새창보기 |
[1020060092418] | 연마 입자, 이를 이용한 연마 슬러리 및 그 제조 방법 | 새창보기 |
[1020060087094] | 극자외선 노광공정용 마스크 및 그의 제조방법 | 새창보기 |
[1020060085631] | 주기적 급속열처리에 의한 p형 산화아연의 제조방법 | 새창보기 |
[1020060085630] | 주기적 급속 열처리에 의한 고전도성 산화아연의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014003183][광주테크노파크] | 회절격자 제작을 위한 습식 식각장치 | 새창보기 |
---|---|---|
[KST2014003788][전남대학교] | 반도체 영역의 선택적 식각방법, 반도체층의 분리방법 및 반도체소자를 기판으로부터 분리하는 방법 | 새창보기 |
[KST2014010230][성균관대학교] | 기판의 고속 박층화 장치 및 방법 | 새창보기 |
[KST2016008951][한국생산기술연구원] | 제트 스크러빙 공정에 사용되는 알루미나 조성물(ALUMINA COMPOSITION FOR JET SCRUBBING PROCESS) | 새창보기 |
[KST2014009451][인하대학교] | 글래스 내의 패턴을 선택적으로 에칭하는 방법 | 새창보기 |
[KST2019012319][광주과학기술원] | 저유전 물질을 포함하는 전자 소자 및 그 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2019011028][한국과학기술연구원] | 산소 저장 및 방출 능력이 높은 세리아-지르코니아계 멀티스케일 산소 저장 물질 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014020821][] | 샤워헤드를 구비한 반도체 소자 제조 장비 | 새창보기 |
[KST2019012080][성균관대학교] | 2차원 맥세인 박막의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014003216][광주테크노파크] | 혼합가스를 이용한 INP 박막의 식각 방법 | 새창보기 |
[KST2019001845][영남대학교] | 초 소수성 표면 제작 방법 | 새창보기 |
[KST2019003303][한국화학연구원] | 초음파 조사를 이용한 칼코지나이드계 금속나노입자의 제조방법 및 이로 제조된 칼코지나이드계 금속나노입자 | 새창보기 |
[KST2019013106][전남대학교] | 전이금속/금속산화물 고용체 나노물질 및 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014018890][한국과학기술연구원] | 연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을 포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법 | 새창보기 |
[KST2014063170][한국기초과학지원연구원] | 도파관 연결방식의 리지타노 코일안테나 | 새창보기 |
[KST2014007819][대덕특구지원본부] | 단분산 입자를 마스크로 이용하는 자성금속 점 정렬 형성방법 | 새창보기 |
[KST2014013916][광주과학기술원] | 질소 - 함유 기체의 플라즈마를 이용하여 건식 식각된 질화물 반도체의 표면을 처리하는 방법 | 새창보기 |
[KST2016007375][한국생산기술연구원] | 단일상 페롭스카이트계 고체전해질과 이를 포함한 고체산화물연료전지 및 그 제조방법(Single-Phase Perovskite type Solid Electrolytes, Solid Oxide Fuel Cells containing the same and Method of Fabricating the Solid Oxide Fuel Cells) | 새창보기 |
[KST2014010404][경기기술이전센터] | 금속 CMP 슬러리 조성물 | 새창보기 |
[KST2015011228][세종대학교] | 플라즈마 입자 모니터링 장치 및 방법 | 새창보기 |
[KST2015011747][성균관대학교] | 원자층 식각을 이용한 III-V MOS devices 의 interface passivation layer 인 BeO 에 대한 저손상 식각 공정 | 새창보기 |
[KST2019012185][한국과학기술원] | 실크 피브로인과 호환되는 하드 마스크와 이의 식각액을 이용한 패터닝 방법 | 새창보기 |
[KST2019011177][한국과학기술연구원] | 반도체 반응기 및 반도체 반응기용 금속모재의 코팅층 형성방법 | 새창보기 |
[KST2014021897][한양대학교] | 전계 분무 에어로졸 화염 분사법을 이용한 Gd 도핑된 CeO₂ 나노 분말의 제조방법 및 제조장치 | 새창보기 |
[KST2014003667][인하대학교] | 인듐옥사이드-징크옥사이드의 건식 식각 방법 | 새창보기 |
[KST2014008806][연세대학교] | 자기유변연마공정에 적용되는 자화가능한 고경도의 연마제 및 그에 따른 연마공정 | 새창보기 |
[KST2015012195][성균관대학교] | 폴리스티렌/실리카 복합체를 포함하는 연마재, 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014013911][광주과학기술원] | 질화갈륨 고 (高) 선택비의 이방성 건식 식각 방법 | 새창보기 |
[KST2015012196][성균관대학교] | 폴리스티렌/실리카 복합체를 포함하는 연마재, 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2019004177][한국전력공사] | 선택영역 성장법을 이용한 기판 재활용 방법 | 새창보기 |
심판사항 정보가 없습니다 |
---|