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극자외선 노광공정용 마스크 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015140748
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 EUV와 DUV 반사도를 낮추어 콘트라스트를 향상시키고, 쉐도우 효과(shadow effect)를 감소시킬 수 있는 극자외선 노광 공정용 마스크 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 마스크 기판 상부에 Mo와 Si로 형성되는 다층박막층과 상기 다층박막층의 상부에 형성되는 캐피층과 상기 캐피층 상부의 일부에 형성되는 흡수체층과 상기 흡수체층 상부에 형성되는 반사방지층을 포함한다. 상기 흡수체층과 반사방지층은 두께를 얇게 형성하고 최적의 두께를 갖는다.이로써 본 발명은 흡수체층과 반사방지층으로 인해, DUV와 EUV에서 콘트라스트가 향상되고, 쉐도우 효과가 줄어드는 효과가 있다.극자외선노광공정, 콘트라스트, 쉐도우효과, 마스크.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01.01)
CPC G03F 1/22(2013.01) G03F 1/22(2013.01) G03F 1/22(2013.01) G03F 1/22(2013.01) G03F 1/22(2013.01)
출원번호/일자 1020060087094 (2006.09.09)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0801484-0000 (2008.01.30)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080212) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.09.09)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안진호 대한민국 서울 강남구
2 김태근 대한민국 서울 광진구
3 이승윤 대한민국 서울 동작구
4 박인성 대한민국 서울 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이두희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***(역삼동) 한신인터밸리** 빌딩 서관 ****호(이훈국제특허법률사무소)
2 이훈 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 한신인터밸리 서관 ****호 이훈국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.09.09 수리 (Accepted) 1-1-2006-0652132-98
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2007.07.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.08.14 수리 (Accepted) 9-1-2007-0049110-04
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.08.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0462299-27
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2007.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2007-0758037-45
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2007.10.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0758053-76
7 등록결정서
Decision to grant		 2008.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0042452-12
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.03.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5037763-28
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
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번호 청구항
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소정의 마스크 기판 상부에 Mo로 되는 스캐터러층과 Si로 되는 스페이서층을 교대로 증착하여 다층박막층을 형성하는 단계와;상기 다층박막층의 상부에 Ru를 증착하여 캐피층을 형성하는 단계와;상기 캐피층 상부에 TaN을 증착하여 흡수체층을 형성하는 단계와;상기 흡수체층 상부에 Al2O3를 증착하여 반사방지층을 형성하는 단계와;상기 반사방지층과 흡수체층을 패터닝하는 단계를 포함하며,상기 Al2O3의 증착은 0
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제7항에 있어서,상기 흡수체층은 23nm 내지 36nm의 두께이고 상기 반사방지층은 19nm 내지 29nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 극자외선 노광 공정용 마스크의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 흡수체층인 TaN의 물질은 27nm의 두께이고 상기 반사방지층인 Al2O3의 물질은 20nm로 형성되는 것을 특징으로 하는 극자외선 노광 공정용 마스크의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 패터닝하는 단계는 e-beam 노광공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 극자외선 노광 공정용 마스크의 제조방법
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