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저항 변화 메모리 소자(Resistive random access memory)

  • 기술번호 : KST2016016716
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 제 1 전극, 제 2 전극 및 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 형성되는 금속산화물을 포함하는 저항변화 메모리 소자가 제공된다. 구체적으로 상기 금속산화물은 서로 결정방향의 차이를 가지며 경계영역을 이루는 제 1 결정립 및 제 2 결정립을 포함하고, 상기 경계영역에는 상기 금속산화물의 결정면 중 결정학적으로 산소로만 이루어진 면에 해당되는 면지수를 가지는 면이 상기 제 1 결정립 및 상기 제 2 결정립 사이에 개재되고, 상기 경계영역은 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 간에 전압이 인가될 경우 전기전도가 가능한 경로가 형성되는 면인, 저항변화 메모리 소자가 제공된다.
Int. CL H01L 27/115 (2006.01) H01L 27/24 (2006.01)
CPC G11C 13/0007(2013.01) G11C 13/0007(2013.01) G11C 13/0007(2013.01) G11C 13/0007(2013.01) G11C 13/0007(2013.01) G11C 13/0007(2013.01) G11C 13/0007(2013.01)
출원번호/일자 1020150034210 (2015.03.12)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1675582-0000 (2016.11.07)
공개번호/일자 10-2016-0109555 (2016.09.21) 문서열기
공고번호/일자 (20161114) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.03.12)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 권덕황 대한민국 서울특별시 관악구
2 김미영 대한민국 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교 산학협력단 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.03.12 수리 (Accepted) 1-1-2015-0240509-11
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.08.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0837566-38
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0603053-33
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.09.07 수리 (Accepted) 1-1-2016-0874422-19
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.09.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0874423-65
7 등록결정서
Decision to grant
2016.10.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0771502-83
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제 1 전극, 제 2 전극 및 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 형성되는 금속산화물을 포함하는 저항변화 메모리 소자에 있어서,상기 금속산화물은 서로 결정방향의 차이를 가지며 경계영역을 이루는 제 1 결정립 및 제 2 결정립을 포함하고,상기 경계영역에는 상기 금속산화물의 결정면 중 결정학적으로 산소로만 이루어진 면에 해당되는 면지수를 가지는 면이 상기 제 1 결정립 및 상기 제 2 결정립 사이에 개재되고,상기 경계영역은 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 간에 전압이 인가될 경우 전기전도가 가능한 경로가 형성되는 면인,저항변화 메모리 소자
2 2
제 1 항에 있어서,상기 금속산화물은 페로프스카이트(perovskite) 구조를 가지는 티탄스트론튬 산화물(SrTiO3)이며,상기 제 1 결정립은 제 1 전극 또는 제 2 전극 중 어느 하나와 상기 금속산화물이 형성된 층이 접하여 형성된 기준면에 대해서 결정의 우선방위가 (111)면을 가지고, 상기 제 2 결정립은 상기 기준면에 대해서 우선방위가 (110)면인, 저항변화 메모리 소자
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 경계영역의 면은 {121}면족 또는 {110}면족 군에서 하나 이상 선택된 면을 포함하는, 저항변화 메모리 소자
4 4
제 1 항에 있어서,상기 금속산화물은 TiO2, ZrO2, HfO2, VO2, MoO3, WO3, Fe2O3, CoO, CuO, NiO, Nb2O5, SrTiO3, BaTiO3 및 CaTiO3 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 저항변화 메모리 소자
5 5
제 1 항에 있어서,상기 경계영역의 면은 상기 제 1 결정립과 상기 제 2 결정립 간의 뒤틀림입계(twisted boundary)인, 저항변화 메모리 소자
6 6
제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극 및 제 2 전극 중 적어도 어느 하나는 판형상(plate type) 또는 막대형상(rod type)을 가지는, 저항변화 메모리 소자
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US10043973 US 미국 FAMILY
2 US20180026184 US 미국 FAMILY
3 WO2016143960 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 US10043973 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US2018026184 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2016143960 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 서울대학교 기초연구사업 실시간 전압-전류 측정 조건 하의 전자에너지 손실 분광을 이용한 비휘발성 메모리 소자의 특성 연구