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하나 이상의 미세유체소자가 형성되어 있는 미세유체소자 기판으로서,상기 미세유체소자 기판에는 하나 이상의 인식 가능 패턴이 형성되어 있고, 상기 인식 가능 패턴은 미세유체소자가 형성된 기판의 정보를 저장하고, 상기 인식 가능 패턴을 이루는 단위 데이터 비트는 3차원 형상의 원기둥 형태인 것인,미세유체소자 기판
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제 1 항에 있어서, 상기 정보는 해당 미세유체소자 기판의 식별번호를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세유체소자 기판
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제 2 항에 있어서, 상기 정보는, 기판 내 미세유체소자의 위치, 및 미세유체소자가 갖는 하나 이상의 미세 채널에 대한 정보로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세유체소자 기판
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제 1 항에 있어서, 상기 인식 가능 패턴은 QR코드 또는 바코드인 것을 특징으로 하는 미세유체소자 기판
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삭제
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제 1 항에 있어서, 상기 인식 가능 패턴은, 소프트-리소그래피(soft-lithography); 포토리소그래피(photolithography); 용매 보조 몰딩(solvent assisted molding), 모세관 미세 몰딩(capillary force micro molding), 주입 몰딩(injection molding), 및 블로우 몰딩(blow molding)으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 몰딩(molding); 롤투롤(roll-to-roll) 공정; 또는 3D 프린팅 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 미세유체소자 기판
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하나 이상의 미세유체소자 및 미세유체소자가 형성된 기판의 정보를 저장하고 있는 하나 이상의 인식 가능 패턴이 형성된 기판으로서, 상기 인식 가능 패턴을 이루는 단위 데이터 비트는 3차원 형상의 원기둥 형태인 것인 기판;상기 기판 상의 인식 가능 패턴이 광학기기의 관찰 영역 내에 위치하면 이를 자동적으로 촬영하여 해당 이미지를 하기 관리 서버에 전송하고, 인식 가능 패턴에 저장된 정보를 바탕으로 한 관리 서버의 명령에 의해 해당 미세유체소자의 미세 채널에 대해 상태 변경 및 촬영을 수행하는 전자 이미징 디바이스를 갖는 광학기기; 및상기 광학기기에 연결되어, 광학기기로부터 송부받은 이미지로부터 인식 가능 패턴에 저장된 정보를 인식하고, 이를 바탕으로 해당 미세유체소자 기판에 대한 광학기기의 상태 변경 및 촬영을 명령하는 관리 서버;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학기기 자동촬영 시스템
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제 7 항에 있어서, 상기 인식 가능 패턴에 저장되어 있는 정보는 미세유체소자 기판의 식별번호를 포함하고, 상기 관리 서버는 미리 저장되어 있는 데이터베이스에서 상기 식별번호에 대응하는 메타 데이터를 기반으로 광학기기의 상태 변경 및 촬영을 명령하는 것을 특징으로 하는 광학기기 자동촬영 시스템
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제 8 항에 있어서, 상기 메타 데이터는 미세유체소자의 위치, 및 상기 미세유체소자가 갖는 하나 이상의 미세 채널에 대한 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학기기 자동촬영 시스템
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제 7 항에 있어서, 상기 인식 가능 패턴에 저장되어 있는 정보는, 미세유체소자 기판의 식별번호; 및 기판에 형성되어 있는 미세유체소자의 위치, 및 미세유체소자가 갖는 하나 이상의 미세 채널에 대한 정보로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상;을 포함하고, 상기 관리 서버는 상기 정보를 기반으로 광학기기의 상태 변경 및 촬영을 명령하는 것을 특징으로 하는 광학기기 자동촬영 시스템
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제 7 항에 있어서, 상기 관리 서버는, 광학기기가 촬영한 인식 가능 패턴의 기울기로부터 기판의 회전각을 계산하고, 상기 회전각을 반영하여 광학기기의 상태 변경 및 촬영을 명령하는 것을 특징으로 하는 광학기기 자동촬영 시스템
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제 7 항에 있어서, 상기 기판에는 하나 이상의 미세유체소자와 둘 이상의 인식 가능 패턴이 형성되어 있고, 상기 관리 서버는 인접하는 두 개의 인식 가능 패턴들의 위치 좌표를 바탕으로 기판의 회전각을 계산한 후, 상기 회전각을 반영하여 광학기기의 상태 변경 및 촬영을 명령하는 것을 특징으로 하는 광학기기 자동촬영 시스템
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제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 상기 회전각의 계산은 인식 가능 패턴의 기울기 또는 인접한 두 개의 인식 가능 패턴들의 위치 좌표와, 광학기기의 XY 좌표를 비교함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 광학기기 자동촬영 시스템
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패턴 인식 기능을 갖는 광학기기를 이용하여, 미세유체소자 내의 관심 영역을 자동으로 촬영하는 방법으로서, (i) 하나 이상의 미세유체소자 및 미세유체소자가 형성된 기판의 정보를 저장하고 있는 하나 이상의 인식 가능 패턴이 형성된 기판으로서, 상기 인식 가능 패턴을 이루는 단위 데이터 비트는 3차원 형상의 원기둥 형태인 것인, 기판을 준비하는 과정;(ii) 상기 인식 가능 패턴을 광학기기의 관찰 영역 내에 위치시키는 과정;(iii) 상기 광학기기가 패턴을 자동적으로 촬영하고, 그 이미지를 하기 관리 서버에 제공하는 과정;(iv) 관리 서버가 상기 이미지로부터 해당 정보를 인식하고, 이를 바탕으로 광학기기의 상태 변경 및 기판 상 미세유체소자 내의 관심 영역을 촬영하도록 명령하는 과정; 및(v) 상기 광학기기가 관리 서버의 명령에 의해 상태 변경 및 촬영을 수행하는 과정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세유체소자의 자동촬영 방법
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제 14 항에 있어서, 상기 과정 (iii) 이후에, 과정 (ii)에서 촬영한 인식 가능 패턴과 인접하는 인식 가능 패턴에 대해, 과정 (ii) 및 과정 (iii)의 과정을 다시 한번 수행하는 과정을 포함하고, 이후, 상기 과정(iv)에서 관리 서버가 광학기기의 상태 변경 및 촬영을 명령할 때, 상기 관리 서버는 두 개의 인식 가능 패턴들의 위치 좌표를 바탕으로 기판의 회전각을 계산한 후, 상기 회전각을 반영하여 광학기기의 상태 변경 및 촬영을 명령하는 것을 특징으로 하는 미세유체소자의 자동촬영 방법
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