| 1 |
1
0
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| 2 |
2
0
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| 3 |
3
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 하이드록사이드계 화합물은 무기 알칼리 하이드록사이드 또는 알킬 암모늄 하이드록사이드인 조성물
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| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 알킬 암모늄 하이드록사이드는 테트라에틸 암모늄 하이드록사이드, 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드, 테트라부틸 암모늄 하이드록사이드, 트리메틸벤질 암모늄 하이드록사이드, 에틸트리메틸 암모늄 하이드록사이드, 다이에틸다이메틸 암모늄 하이드록사이드, 트리에틸메틸 암모늄 하이드록사이드 또는 이들의 혼합물인 조성물
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| 5 |
5
제3항에 있어서,상기 알킬 암모늄 하이드록사이드는 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드인 조성물
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| 6 |
6
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 사슬형 아민 화합물은 모노에탄올 아민, 디에탄올 아민, 트리에탄올 아민, 프로판올 아민, 디프로판올 아민, 트리프로판올 아민, 이소프로판올 아민, 디이소프로판올 아민, 트리이소프로판올 아민, 2-(2-아미노에톡시)에탄올, 2-(2-아미노에틸아미노)에탄올, N,N-디메틸에탄올 아민, N,N-디에틸에탄올 아민, N-메틸에탄올 아민, N-에틸에탄올 아민, N-부틸에탄올 아민 및 N-메틸에탄올 아민으로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택되는 조성물
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| 7 |
7
제6항에 있어서,상기 사슬형 아민 화합물은 모노에탄올 아민인 조성물
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| 8 |
8
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 유기용매는 알코올류, 글리콜류, 글리콜 에테르류, 락톤류, 락탐류, 케톤류 및 에스테르류로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 조성물
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| 9 |
9
제1항 또는 제2항에 있어서, 잔량의 순수를 더 포함하는 조성물
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| 10 |
10
소정의 회로패턴이 형성된 기판상에 드라이필름을 라미네이션시키는 단계;상기 라미네이션된 드라이필름을 부분적으로 노광시켜 드라이필름 노광부 및 드라이필름 비노광부를 형성시키는 단계;상기 드라이필름 비노광부를 현상 및 제거시켜 개구부를 형성시키는 단계; 및 제1항 또는 제2항에 따른 조성물을 상기 드라이필름 노광부에 접촉시키는 단계;를 포함하는 드라이필름 레지스트의 제거 방법
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| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 접촉시키는 단계 이후에 드라이필름 레지스트 잔사를 수세시키는 단계;를 더 포함하는 방법
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| 12 |
12
제10항에 있어서,상기 접촉시키는 단계는 35℃ 이상에서 실시되는 방법
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