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트리메틸클로로실란 증기를 이용한 기판 표면 처리 장치 및방법

  • 기술번호 : KST2014032928
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 제조공정 또는 디스플레이 소자 제조공정에서 TMCS(trimethylclorosilane) 증기(vapor)를 이용하여 기판의 표면 특성을 변화시키는 장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 진공도를 조절할 수 있는 용기 내부에 기판과 TMCS를 담을 수 있는 작은 용기를 설치하고, 그 용기에 TMCS 방울(drop)을 넣은 후 그 용기 내부의 압력과 온도 및 처리 시간을 변화시켜 기판의 표면을 원하는 표면 에너지 상태로 변화시킬 수 있는 TMCS 증기를 이용한 기판 표면처리 장치 및 TMCS 증기를 이용한 기판 표면처리 방법을 제공한다. TMCS(trimethylclorosilane), 표면처리, 소수성
Int. CL H01L 21/20 (2011.01) B82Y 40/00 (2011.01) H01L 21/08 (2011.01)
CPC H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01)
출원번호/일자 1020080088465 (2008.09.08)
출원인 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0981820-0000 (2010.09.06)
공개번호/일자 10-2010-0029626 (2010.03.17) 문서열기
공고번호/일자 (20100913) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.09.08)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박규창 대한민국 서울 광진구
2 장 진 대한민국 서울 서초구
3 추병권 대한민국 서울 동대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오세중 대한민국 서울시 강남구 테헤란로 ***, **** (역삼동. 성지하이츠 Ⅱ)(해오름국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.09.08 수리 (Accepted) 1-1-2008-0637162-29
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2009-0383793-17
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.06.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.07.16 수리 (Accepted) 9-1-2010-0044739-22
5 등록결정서
Decision to grant
2010.08.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0353972-17
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2015-5029677-09
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
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번호 청구항
1 1
외부와 차단되고 내부에 기판이 설치되는 일측에 배기구가 형성된 밀봉용기와; 상기 밀봉용기 내부의 기판 일측에 설치되며 TMCS 용액을 담고 증발시켜 TMCS 증기를 발생시키는 TMCS 용기와; 상기 밀봉용기의 배기구에 연결된 진공펌프와; 상기 밀봉용기의 외주면 일부 또는 전체에 형성된 온도조절수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 TMCS 증기를 이용한 기판의 표면처리 장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 기판은, 글래스 기판, 실리콘 웨이퍼 기판 또는 플렉서블한 기판 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 TMCS 증기를 이용한 기판의 표면처리 장치
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 기판은, 상부에 유기박막 또는 무기박막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 TMCS 증기를 이용한 기판의 표면처리 장치
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 기판은, 나노 또는 마이크로 임프린트 공정에 사용되는 마스터 스탬프인 것을 특징으로 하는 TMCS 증기를 이용한 기판의 표면처리 장치
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 온도조절수단은 밀봉용기 외주면에 설치되는 전기로, 열선, 또는 히터인 것을 특징으로 하는 TMCS 증기를 이용한 기판의 표면처리 장치
6 6
제 1 항의 TMCS 증기를 이용한 기판의 표면처리 장치를 이용하여, 상기 밀봉용기 내부에 기판을 안치하고, TMCS 용기에 TMCS 용액을 담는 단계와; 상기 기판과 TMCS 용액이 담긴 밀봉용기 내부의 공기를 배기구에 연결된 진공펌프를 가동하여 배출하고, 온도조절수단을 이용하여 온도를 조절하여 상기 TMCS 용액이 기화되는 량을 조절하하여 기판의 표면 특성을 변화시키도록 일정시간 유지하는 단계를 포함하는 TMCS 증기를 이용한 기판처리 방법
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 밀봉용기 내부의 압력은, 30 내지 760Torr인 것을 특징으로 하는 TMCS 증기를 이용한 기판처리 방법
8 8
제 6 항에 있어서, 상기 표면처리 온도는, 상기 밀봉용기의 내부의 압력이 300Torr 이상인 경우 TMCS의 끓는 점인 57℃ 이상의 온도를 유지하고, 300Torr 미만인 경우 10℃ 내지 57℃로 유지하는 것을 특징을 하는 TMCS 증기를 이용한 기판처리 방법
9 9
제 6 항에 있어서, 상기 처리된 기판의 접촉각은 0 내지 100°로 유지되는 것을 특징으로 하는 TMCS 증기를 이용한 기판의 표면처리 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 서울특별시 / 서울특별시 국민대학교 산학협력단 / 경희대학교 서울시 산학연 협력사업(기술기반구축사업) / 서울시 산학연 협력사업 나노공정 기술 및 장비 개발 산학연 혁신 클리스터 / 나노기반 차세대 방사선 진단기 연구단