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산화물 반도체의 오믹 접합 구조를 갖는 박막 트랜지스터 및 그의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2022006641
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 다양한 실시예들은 산화물 반도체의 오믹 접합 구조를 갖는 박막 트랜지스터 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 기판, 기판 상에 배치되고, 제 1 영역 및 적어도 하나의 홈이 형성되는 제 2 영역으로 구분되는 IGZO 채널층, IGZO 채널층의 제 1 영역 상에 배치되는 제 1 전극, n+ 산화물로 이루어지고, 홈 내에 배치되는 오믹 접합층, 및 오믹 접합층 상에 접합되는 제 2 전극을 포함하는 박막 트랜지스터 및 그의 제조 방법을 제공할 수 있다.
Int. CL H01L 29/45 (2006.01.01) H01L 29/66 (2006.01.01) H01L 29/786 (2006.01.01) H01L 29/24 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC H01L 29/45(2013.01) H01L 29/66969(2013.01) H01L 29/7869(2013.01) H01L 29/24(2013.01) H01L 21/02483(2013.01)
출원번호/일자 1020200155747 (2020.11.19)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0068699 (2022.05.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.11.19)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정재경 서울특별시 광진구
2 이호재 제주특별자치도 제주

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.11.19 수리 (Accepted) 1-1-2020-1244625-88
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.09.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2021.11.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0210976-83
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0991901-53
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2022.01.05 수리 (Accepted) 1-1-2022-0011466-62
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2022.01.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2022-0011467-18
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2022.03.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0220474-10
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2022.05.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2022-0514358-48
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2022.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2022-0514357-03
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
박막 트랜지스터의 제조 방법에 있어서, 기판 상에 IGZO 채널층을 제공하는 단계; 상기 IGZO 채널층의 제 1 영역 상에 제 1 전극을 제공하는 단계; 상기 IGZO 채널층의 제 2 영역에 적어도 하나의 홈을 형성하는 단계;n+ 산화물을 이용하여, 상기 홈 내에 오믹 접합층을 형성하는 단계; 및상기 오믹 접합층 상에 제 2 전극을 접합시키는 단계를 포함하는, 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 n+ 산화물은,IGTO(Indium Gallium Tin Oxide), IGO(Indium Gallium Oxide), ITO(Indium Tin Oxide), IGZTO(Indium Gallium Zinc Tin Oxide) 또는 AZO(Aluminum-doped Zinc Oxide) 중 적어도 하나를 포함하는,방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 전극을 제공하는 단계는,상기 IGZO 채널층 상에 절연층을 제공하는 단계; 상기 절연층 상에 상기 제 1 전극을 제공하는 단계; 및상기 제 2 영역이 상기 절연층 및 상기 제 1 전극으로부터 노출되도록, 상기 제 1 영역에 대응하여, 상기 절연층 또는 상기 제 1 전극 중 적어도 하나를 식각하는 단계를 포함하는, 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 전극을 제공하는 단계는, 상기 기판 상에서 상기 IGZO 채널층, 상기 제 1 전극 및 상기 오믹 접합층을 덮는 보호층을 제공하는 단계; 상기 보호층의 외부로부터 상기 오믹 접합층의 표면으로 이어지는 홀을 형성하는 단계; 및상기 보호층의 외부로 노출되고 상기 홀의 내부를 통과하여 상기 오믹 접합층에 접합되도록 상기 제 2 전극을 제공하는 단계를 포함하는, 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 전극은 게이트 전극이고, 상기 제 2 전극은 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는, 방법
6 6
박막 트랜지스터에 있어서, 기판; 상기 기판 상에 배치되고, 제 1 영역 및 적어도 하나의 홈이 형성되는 제 2 영역으로 구분되는 IGZO 채널층;상기 IGZO 채널층의 상기 제 1 영역 상에 배치되는 제 1 전극; n+ 산화물로 이루어지고, 상기 홈 내에 배치되는 오믹 접합층; 및상기 오믹 접합층 상에 접합되는 제 2 전극을 포함하는, 박막 트랜지스터
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 n+ 산화물은,IGTO, IGO, ITO, IGZTO 또는 AZO 중 적어도 하나를 포함하는,박막 트랜지스터
8 8
제 6 항에 있어서, 상기 IGZO 채널층과 상기 제 1 전극 사이에 개재되는 절연층을 더 포함하는, 박막 트랜지스터
9 9
제 6 항에 있어서, 상기 기판 상에서 상기 IGZO 채널층, 상기 제 1 전극 및 상기 오믹 접합층을 덮고, 외부로부터 상기 오믹 접합층의 표면으로 이어지는 홀이 형성되는 보호층을 더 포함하고,상기 제 2 전극은, 상기 보호층의 외부로 노출되고, 상기 홀의 내부를 통과하여 상기 오믹 접합층에 접합되는, 박막 트랜지스터
10 10
제 6 항에 있어서, 상기 제 1 전극은 게이트 전극이고, 상기 제 2 전극은 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는, 박막 트랜지스터
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.