맞춤기술찾기

이전대상기술

IGTO 산화물 반도체 결정화를 통한 고이동도 트랜지스터 소자 및 그의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2022014180
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 다양한 실시예들은 IGTO 산화물 반도체 결정화를 통한 고이동도 트랜지스터 소자 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 트랜지스터 소자는 기판 및 기판 상에 배치되는 결정질 IGTO 채널층을 포함하고, 열처리를 통해, 기판 상에 제공되는 비정질 IGTO 채널층을 결정질 IGTO 채널층으로 변화시키는 것에 의해 제조될 수 있다.
Int. CL H01L 29/66 (2006.01.01) H01L 29/786 (2006.01.01) H01L 29/24 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC H01L 29/66969(2013.01) H01L 29/7869(2013.01) H01L 29/24(2013.01) H01L 21/02565(2013.01) H01L 21/0259(2013.01) H01L 21/02631(2013.01) H01L 21/02656(2013.01)
출원번호/일자 1020200181828 (2020.12.23)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0090871 (2022.06.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.12.23)
심사청구항수 12

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정재경 서울특별시 광진구
2 김보경 경상남도 창원시 의창구
3 온누리 서울특별시 마포구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2020-1402237-38
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.04.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2021.06.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2022-0016559-96
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2022.02.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0119464-16
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2022.04.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2022-0359030-31
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2022.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2022-0359029-95
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2022.06.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0428662-19
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2022.07.25 접수중 (On receiving) 1-1-2022-0775603-39
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2022.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2022-0775604-85
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
트랜지스터 소자의 제조 방법에 있어서, 기판 상에 비정질 IGTO 채널층을 제공하는 단계; 및열처리를 통해, 상기 비정질 IGTO 채널층을 결정질 IGTO 채널층으로 변화시키는 단계를 포함하는, 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 비정질 IGTO 채널층을 제공하는 단계는,스퍼터링 기법으로, 상기 비정질 IGTO 채널층을 상기 기판 상에 증착시키는 단계를 포함하는, 방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 결정질 IGTO 채널층으로 변화시키는 단계는,400 ℃의 열처리 온도로 상기 열처리를 수행하는, 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 비정질 IGTO 채널층의 두께는,20 nm인, 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 결정질 IGTO 채널층에서의 인듐(Indium; In), 갈륨(Gallium; Ga) 및 주석(Tin; Sn)의 양이온 조성비는,78 %, 18 % 및 4 %인,방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 비정질 IGTO 채널층을 제공하는 단계는, 상기 기판 상에 제 1 전극을 제공하는 단계; 상기 기판 상에서 상기 제 1 전극을 덮도록 상기 비정질 IGTO 채널층을 제공하는 단계; 및상기 비정질 IGTO 채널층 상에 적어도 하나의 제 2 전극을 제공하는 단계를 포함하는, 방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 기판 상에서 상기 결정질 IGTO 채널층을 덮도록 보호층을 제공하는 단계를 더 포함하는, 방법
8 8
제 6 항에 있어서, 상기 비정질 IGTO 채널층을 제공하는 단계는, 상기 비정질 IGTO 채널층을 제공하기 전에, 상기 제 1 전극 상에 절연층을 제공하는 단계를 더 포함하는, 방법
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 비정질 IGTO 채널층은, 단일 층인, 방법
10 10
트랜지스터 소자에 있어서, 기판; 및상기 기판 상에 배치되는 결정질 IGTO 채널층을 포함하고, 상기 결정질 IGTO 채널층은,열처리를 통해, 상기 기판 상에 제공되는 비정질 IGTO 채널층으로부터 변화된 것인, 트랜지스터 소자
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 비정질 IGTO 채널층은, 스퍼터링 기법으로, 상기 기판 상에 증착되는, 트랜지스터 소자
12 12
제 10 항에 있어서, 상기 결정질 IGTO 채널층은, 400 ℃의 열처리 온도에서의 상기 열처리를 통해, 상기 비정질 IGTO 채널층으로부터 변화되는, 트랜지스터 소자
13 13
제 10 항에 있어서, 상기 비정질 IGTO 채널층의 두께는,20 nm인, 트랜지스터 소자
14 14
제 10 항에 있어서, 상기 결정질 IGTO 채널층에서의 인듐(In), 갈륨(Ga) 및 주석(Sn)의 양이온 조성비는,78 %, 18 % 및 4 %인,트랜지스터 소자
15 15
제 10 항에 있어서, 상기 기판 상에서 상기 기판과 상기 결정질 IGTO 채널층 사이에 배치되는 제 1 전극; 상기 제 1 전극과 상기 결정질 IGTO 채널층 사이에 배치되는 절연층; 상기 결정질 IGTO 채널층 상에 배치되는 적어도 하나의 제 2 전극; 또는상기 기판 상에서 상기 제 1 전극, 상기 절연층 또는 상기 제 2 전극 중 적어도 하나를 덮도록 형성되는 보호층 중 적어도 하나를 더 포함하는,트랜지스터 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.