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이미지 센싱 장치, 이미지 센싱 방법, 이미지 센서 및 이미지 센서의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015162237
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 이미지 센싱 장치, 이미지 센싱 방법, 이미지 센서 및 이미지 센서의 제조 방법에 관한 것으로서, 본 발명의 실시예에 따른 이미지 센싱 장치는 복수의 단위 화소 각각에 인가되는 전압의 크기에 따라 서로 다른 파장 대의 광을 수광하는 광센서가 구비되며, 단위 화소마다 수광한 광에 대한 신호를 출력하는 복수의 스위칭소자를 포함하는 화소부, 화소부에서 제공하는 서로 다른 파장 대의 광에 대한 신호를 변환하여 출력하는 신호 변환부, 및 변환한 신호를 이용하여 서로 다른 파장 대의 이미지를 생성해 표시하도록 제어하는 제어부를 포함하되, 화소부는, 전압 제어에 따라 하나 혹은 복수 파장 대의 광을 수광하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H04N 5/374 (2011.01)
CPC H01L 27/14685(2013.01) H01L 27/14685(2013.01) H01L 27/14685(2013.01) H01L 27/14685(2013.01) H01L 27/14685(2013.01) H01L 27/14685(2013.01)
출원번호/일자 1020130067412 (2013.06.12)
출원인 경북대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1456135-0000 (2014.10.23)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20141103) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.06.12)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경북대학교 산학협력단 대한민국 대구광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 함성호 대한민국 대구광역시 수성구
2 이창주 대한민국 대구광역시 달서구
3 윤준연 대한민국 경상북도 고령군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이현수 대한민국 서울특별시 마포구 백범로 ***(신공덕동) 메트로디오빌빌딩 ****호(이현수상표특허법률사무소)
2 정홍식 대한민국 서울시 서초구 강남대로 *** 신덕빌딩 *층(나우특허법률사무소)
3 김태헌 대한민국 서울시 서초구 강남대로 *** 신덕빌딩 *층(나우특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 김진상 대구광역시 수성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2013-0523300-12
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.12.26 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.02.11 수리 (Accepted) 9-1-2014-0013257-50
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.05.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0350890-95
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2014-0654316-15
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.07.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0654317-50
7 등록결정서
Decision to grant
2014.10.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0707538-12
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.26 수리 (Accepted) 4-1-2018-5051994-32
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.23 수리 (Accepted) 4-1-2020-5136893-04
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
복수의 단위 화소 각각에 인가되는 전압의 크기에 따라 서로 다른 파장 대의 광을 수광하는 광센서가 구비되며, 상기 단위 화소마다 상기 수광한 광에 대한 신호를 출력하는 복수의 스위칭소자를 포함하는 화소부;상기 화소부에서 제공하는 상기 서로 다른 파장 대의 광에 대한 신호를 변환하여 출력하는 신호 변환부; 및상기 변환한 신호를 이용하여 상기 서로 다른 파장 대의 이미지를 생성해 표시하도록 제어하는 제어부;를 포함하되,상기 화소부는,전압 제어에 따라 하나 혹은 복수 파장 대의 광을 수광하고,상기 광센서는,상기 화소부에서 하부에 배치되고, 오목한 부위를 갖는 제1 전극; 및상기 제1 전극의 상부에 배치되며, 바(bar) 형상을 이루어 상기 오목한 부위의 외곽에서 중심을 향하도록 형성되는 제2 전극;을포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 센싱 장치
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 화소부는,상기 전압의 제어에 따라 3개의 전압이 인가될 때, 적외선, 가시광선 및 자외선 파장 대의 광을 수광하는 것을 특징으로 하는 이미지 센싱 장치
4 4
기판;상기 기판상에 형성되며, 애노드(anode) 및 캐소드(cathode) 전압을 각각 인가받는 제1 및 제2 도전배선;상기 기판상에 형성되며, 상측 면에 오목한 부위를 갖는 유전층;상기 오목한 부위에 형성되며, 관통홀을 통해 상기 제1 도전배선에 연결되는 제1 전극;상기 제1 전극의 상부에 배치되며, 상기 제2 도전배선에 연결되는 제2 전극; 및상기 제1 전극과 상기 제2 전극을 진공 상태로 형성하는 패키징부;를포함하는 이미지 센서
5 5
제4항에 있어서,상기 제2 전극은 바(bar) 형상을 이루어 상기 오목한 부위의 외곽에서 중심을 향하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 이미지 센서
6 6
제4항에 있어서,상기 제1 전극은 상기 오목한 부위의 중심에서의 거리가 외곽에서의 거리보다 상기 기판에 가까운 것을 특징으로 하는 이미지 센서
7 7
제4항에 있어서,상기 제1 전극은 오목한 부위의 중심에서 외곽까지 균일한 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 이미지 센서
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
기판상에 애노드(anode) 및 캐소드(cathode) 전압을 각각 인가받는 제1 및 제2 도전배선을 형성하는 단계;상기 기판상에 상측 면이 오목한 부위를 갖는 유전층을 형성하는 단계;상기 오목한 부위에 형성되며, 관통홀을 통해 상기 제1 도전배선에 연결되는 제1 전극을 형성하는 단계;상기 제1 전극의 상부에 배치되며, 상기 제2 도전배선에 연결되는 제2 전극을 형성하는 단계; 및상기 제1 전극과 상기 제2 전극을 진공 상태로 형성하는 패키징부를 형성하는 단계;를포함하는 이미지 센서의 제조 방법
11 11
제10항에 있어서,상기 제2 전극은 바(bar) 형상을 이루어 상기 오목한 부위의 외곽에서 중심을 향하도록 형성하는 것을 특징으로 하는 이미지 센서의 제조 방법
12 12
제10항에 있어서,상기 제1 전극은 상기 오목한 부위의 중심에서의 거리가 외곽에서의 거리보다 상기 기판에 가깝게 형성하는 것을 특징으로 하는 이미지 센서의 제조 방법
13 13
제10항에 있어서,상기 제1 전극은 오목한 부위의 중심에서 외곽까지 균일한 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 이미지 센서의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.