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전자총의 다중 배치를 위한 다중 편향기로서, 복수개의 전자빔을 원하는 방향으로 편향시키는 복수개의 편향 전극과, 상기 복수개의 편향 전극 내부의 복수개의 전극에 제공되는 전기적 신호를 각각 입력받는 신호 입력부와, 절연체 위에 형성된 상부 배선과 상기 절연체 아래에 형성된 하부 배선을 포함하여 상기 상부 배선 및 상기 하부 배선을 통하여 상기 신호 입력부에서 입력되는 전기적 신호를 상기 복수개의 편향 전극으로 전송하며 상기 신호 입력부에서 상기 복수개의 편향 전극 각각에 이르는 전기적 신호 지연 시간의 차이가 수 ㎱ 이하로 되도록 구성된 신호 배선을 포함하는 전자총의 다중 배치를 위한 다중 편향기
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제1항에 있어서,상기 복수개의 편향 전극은 4n(n은 자연수)개의 편향 전극인 것인 전자총의 다중 배치를 위한 다중 편향기
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제1항에 있어서,상기 복수개의 편향 전극 각각은 옥튜폴(octupole) 형태로 구성되는 것인 전자총의 다중 배치를 위한 다중 편향기
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제1항에 있어서,상기 하부 배선은 붕소 또는 인을 1018 원자/cm3 이상으로 고농도 도핑된 실리콘을 사용하는 것인 전자총의 다중 배치를 위한 다중 편향기
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제1항에 있어서,상기 절연체는 파이렉스(Pyrex) 글래스인 것인 전자총의 다중 배치를 위한 다중 편향기
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제1항에 있어서,상기 상부 배선은 구리를 사용하는 것인 전자총의 다중 배치를 위한 다중 편향기
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제1항에 있어서,상기 상부 배선 및 상기 하부 배선을 통하여 상기 신호 입력부에서 상기 복수개의 편향 전극 각각에 이르는 전기적 배선의 길이는 실질적으로 동일한 것인 전자총의 다중 배치를 위한 다중 편향기
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마이크로컬럼(microcolumn) 형태의 전자빔 리소그래피 시스템으로서, 전자를 방출하는 복수개의 팁과, 상기 복수개의 팁에서 방출된 전자를 집속시키고 가속시키는 복수개의 소스 렌즈와,상기 복수개의 소스 렌즈에서 집속되고 가속된 복수개의 전자빔 각각을 편향시키는 다중 편향기로서 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 기재된 다중 편향기와,상기 다중 편향기에 의해서 편향된 복수개의 전자빔을 집속시키는 복수개의 아인젤(Einzel) 렌즈를 포함하는 마이크로컬럼 형태의 전자빔 리소그래피 시스템
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제8항에 있어서,상기 복수개의 팁과 상기 복수개의 소스 렌즈는 일체형으로 제작되며,상기 다중 편향기와 상기 복수개의 아인젤 렌즈는 일체형으로 제작되며,상기 일체형으로 제작된 복수개의 팁 및 복수개의 소스 렌즈와 상기 일체형으로 제작된 다중 편향기 및 복수개의 아인젤 렌즈는 자체 정렬형 구멍을 구비하는 지그 구조물에 장착되는 것인 마이크로컬럼 형태의 전자빔 리소그래피 시스템
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