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근적외선 분광법을 이용한 반도체 세정 용액 분석 방법(MEHOD OF ANALYZING LIQUID FOR CLEANING WAFER TO USE NEAR INFRARED SPECTRCOPY)

  • 기술번호 : KST2017013977
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 근적외선 분광법을 이용한 반도체 세정 용액 분석 방법이 개시된다. 근적외선 분광법을 이용한 반도체 세정 용액 분석 방법은 세정조 내에 담긴 세정 용액에 웨이퍼를 침지하여 상기 웨이퍼를 세정하고, 상기 웨이퍼의 세정 공정 동안, 상기 세정조와 연결된 외부 순환 라인을 통해 상기 세정 용액을 순환시키며, 상기 외부 순환 라인을 통해 순환되는 상기 세정 용액에 포함된 성분을 근적외선 분광법으로 측정하고, 상기 근적외선 분광법으로 측정된 근적외선 스펙트럼을 부분 최소자승법으로 분석하는 근적외선 분광법을 이용한다.
Int. CL G01N 21/25 (2016.03.23) G01N 21/359 (2016.03.23) H01L 21/02 (2016.03.23) H01L 21/67 (2016.03.23) H01L 21/66 (2016.03.23)
CPC G01N 21/25(2013.01) G01N 21/25(2013.01) G01N 21/25(2013.01) G01N 21/25(2013.01) G01N 21/25(2013.01) G01N 21/25(2013.01)
출원번호/일자 1020160018982 (2016.02.18)
출원인 한양대학교 에리카산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0097347 (2017.08.28) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 대한민국 경기도 안산시 상록구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정기진 대한민국 인천광역시 서구
2 공경현 대한민국 경기도 안산시 상록구
3 고혜지 대한민국 경기도 부천시 원미구
4 최익장 대한민국 서울특별시 강서구
5 서형림 대한민국 서울특별시 마포구
6 이영복 대한민국 서울특별시 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상열 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)
2 최내윤 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 ** *동 ***호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2016.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0161066-34
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번호 청구항
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세정조 내에 담긴 세정 용액에 웨이퍼를 침지하여 상기 웨이퍼를 세정하고,상기 웨이퍼의 세정 공정 동안, 상기 세정조와 연결된 외부 순환 라인을 통해 상기 세정 용액을 순환시키며,상기 외부 순환 라인을 통해 순환되는 상기 세정 용액에 포함된 성분을 근적외선 분광법으로 측정하고,상기 근적외선 분광법으로 측정된 근적외선 스펙트럼을 부분 최소자승법으로 분석하는 근적외선 분광법을 이용한 반도체 세정 용액 분석 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.