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마이크로 기공 및 나노 기공의 복합 기공 구조를 갖는 소수성 표면 소재 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014049374
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 마이크로 기공 및 나노 기공이 있는 고분자 소재와 상기 고분자 소재의 표면에 형성된 소수성 박막을 포함하는 소수성 표면 소재 및 그 제조방법에 관한 것으로서, (a) 마이크로 기공을 갖는 고분자 소재에 플라즈마 식각을 통하여 나노 기공을 형성시켜, 상기 고분자 소재 상에 마이크로 기공 및 나노 기공의 복합 기공 구조를 형성하는 단계 및 (b) 단계 (a)에서 얻은 상기 고분자 소재의 표면에 소수성 박막을 형성하는 단계를 포함하는 소수성 표면 소재의 제조방법을 제공한다.
Int. CL B01D 71/26 (2006.01) H01M 2/16 (2006.01) C08J 7/06 (2006.01) C08J 9/224 (2006.01)
CPC C08J 9/224(2013.01)C08J 9/224(2013.01)C08J 9/224(2013.01)C08J 9/224(2013.01)C08J 9/224(2013.01)C08J 9/224(2013.01)
출원번호/일자 1020100016826 (2010.02.24)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1149435-0000 (2012.05.17)
공개번호/일자 10-2011-0097150 (2011.08.31) 문서열기
공고번호/일자 (20120524) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.02.24)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문명운 대한민국 서울특별시 관악구
2 이광렬 대한민국 서울특별시 서초구
3 차태곤 대한민국 서울특별시 강남구
4 김호영 대한민국 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.02.24 수리 (Accepted) 1-1-2010-0122015-40
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.05.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.06.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0052359-53
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.08.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0465589-16
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.10.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0819504-58
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0819503-13
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.03.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0161171-28
8 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2012.04.09 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0283252-10
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.04.09 수리 (Accepted) 1-1-2012-0283249-72
10 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2012.05.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0273691-07
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
마이크로 기공 및 나노 기공의 복합 기공 구조가 있는 고분자 소재와 상기 고분자 소재의 표면에 형성된 소수성 박막을 포함하는 것으로,상기 복합 기공 구조는 상기 나노 기공이 상기 고분자 소재의 표면 및 상기 마이크로 기공 내에 있는 것인 소수성 표면 소재
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 고분자 소재는 폴리프로필렌, 나일론 6, 나일론 66, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리스티렌, 폴리에틸렌, 폴리메틸 메타크릴레이트 아크릴, 폴리디메틸실록세인, 폴리 (락트산-글리콜산), 폴리-L-락타이드, 히드로겔, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리비닐리덴플루오라이드, 실리콘 고무, PC/ABS 혼합물, PC/SAN 혼합물 및 PC/PBT 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택된 어느 하나를 포함하는 고분자로 이루어진 것인 소수성 표면 소재
4 4
제1항에 있어서, 상기 소수성 박막은 규소 및 산소를 포함하는 하이드로카본 (a-C:H:Si:O)을 포함하는 박막 또는 불소를 포함하는 하이드로카본 (a-C:H:F)을 포함하는 박막인 것인 소수성 표면 소재
5 5
제1항에 있어서, 상기 소수성 박막의 두께는 1 내지 1000 nm인 소수성 표면 소재
6 6
제1항에 있어서, 상기 소수성 표면 소재의 평형 접촉각이 150도 이상인 소수성 표면 소재
7 7
(a) 마이크로 기공을 갖는 고분자 소재에 플라즈마 식각을 통하여 나노 기공을 형성시켜, 상기 고분자 소재 상에 마이크로 기공 및 나노 기공의 복합 기공 구조를 형성하는 단계; 및(b) 단계 (a)에서 얻은 상기 고분자 소재의 표면에 소수성 박막을 형성하는 단계;를 포함하는 소수성 표면 소재의 제조방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 식각은 플라즈마 화학증착법에 의한 것인 소수성 표면 소재의 제조방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 플라즈마 화학증착법에 의한 식각은 CH4, HF 또는 SiF4를 사용하는 것인 소수성 표면 소재의 제조방법
10 10
제7항에 있어서, 상기 플라즈마 식각은 플라즈마의 조사 시간, 가속 전압 및 식각 압력 중 어느 하나 이상을 조절하여 나노 기공의 크기 및 형상을 제어하는 것인 소수성 표면 소재의 제조방법
11 11
제10항에 있어서, 가속 전압은 -100 Vb 내지 -1000 Vb이고, 상기 식각 압력은 1 Pa 내지 10 Pa인 것인 소수성 표면 소재의 제조방법
12 12
제7항에 있어서, 상기 식각은 이온빔 방식, 하이브리드 플라즈마 화학증착 방식 또는 대기압 플라즈마 방식을 사용하여 이루어지는 것인 소수성 표면 소재의 제조방법
13 13
제7항에 있어서, 단계 (b)는 아르곤 가스 분율이 0 내지 30 부피% 인 아르곤 및 헥사메틸다이실록세인 혼합가스를 이용하는 것인 소수성 표면 소재의 제조방법
14 14
제7항에 있어서, 상기 나노 기공은 상기 고분자 소재의 표면 및 상기 마이크로 기공 내에 있는 것인 소수성 표면 소재의 제조방법
15 15
제7항에 있어서, 상기 고분자 소재는 폴리프로필렌, 나일론 6, 나일론 66, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리스티렌, 폴리에틸렌, 폴리메틸 메타크릴레이트 아크릴, 폴리디메틸실록세인, 폴리 (락트산-글리콜산), 폴리-L-락타이드, 히드로겔, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리비닐리덴플루오라이드, 실리콘 고무, PC/ABS 혼합물, PC/SAN 혼합물 및 PC/PBT 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택된 어느 하나를 포함하는 고분자로 이루어진 것인 소수성 표면 소재의 제조방법
16 16
제7항에 있어서, 상기 소수성 박막은 규소와 산소를 포함하는 하이드로카본을 포함하는 박막 또는 불소를 포함하는 하이드로카본을 포함하는 박막인 것인 소수성 표면 소재의 제조방법
17 17
제7항에 있어서, 상기 소수성 박막의 두께는 1 내지 1000 nm인 소수성 표면 소재의 제조방법
18 18
제7항에 있어서, 상기 소수성 표면 소재의 평형 접촉각이 150도 이상인 소수성 표면 소재의 제조방법
19 19
제1항 및 제3항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 따른 소수성 표면 소재를 분리막으로 사용하는 해수 담수화 필터
20 20
제1항 및 제3항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 따른 소수성 표면 소재를 분리막으로 사용하는 연료 전지
21 21
제1항 및 제3항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 따른 소수성 표면 소재를 분리막으로 사용하는 2차 전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.