요약 | 본 발명은 플렉서블 염료감응 태양전지 및 이의 제조방법에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 투명 전도성 산화물층이 증착된 플렉서블 고분자 기판을 챔버에 배치시키는 단계(단계 1); 투명 전도성 산화물층이 증착된 플렉서블 고분자 기판에 대하여 가스에 의해 운반된 1㎚∼10 ㎛ 크기의 산화물 반도체 분말을 100∼1200 m/sec의 속도로 분사노즐을 사용하여 분사하여 산화물 반도체층을 증착시키는 단계(단계 2); 상기 산화물 반도체층에 염료를 흡착시켜 작동전극을 제조하는 단계(단계 3); 투명 전도성 산화물층이 형성된 투명 기판의 상부에 촉매층을 형성하여 상대전극을 제조하는 단계(단계 4); 및 상기 단계 3에서 제조된 작동전극과 단계 4에서 제조된 상대전극을 대향시켜 접합시킨 후 전해액을 주입하는 단계(단계 5)를 포함하는 플렉서블 염료감응 태양전지의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 플렉서블 염료감응 태양전지에 관한 것이다. |
---|---|
Int. CL | H01L 31/04 (2014.01.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020100031548 (2010.04.06) |
출원인 | 서울대학교산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-0994902-0000 (2010.11.10) |
공개번호/일자 | |
공고번호/일자 | (20101116) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2010.04.06) |
심사청구항수 | 14 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 서울대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 안성훈 | 대한민국 | 경기도 성남시 분당구 |
2 | 천두만 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
3 | 김민생 | 대한민국 | 서울특별시 금천구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인명인 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층(역삼동, 두원빌딩) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 서울대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.04.06 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0219628-69 |
2 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2010.04.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0233916-32 |
3 | [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2010.04.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0258710-64 |
4 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.05.07 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
5 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2010.05.24 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0032909-62 |
6 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2010.05.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0221215-66 |
7 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2010.07.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0472195-14 |
8 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2010.08.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0545569-76 |
9 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2010.09.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0591987-60 |
10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2010.09.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0591989-51 |
11 | 등록결정서 Decision to grant |
2010.11.09 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0508268-73 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.09.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5195109-43 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.01.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5007213-54 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.03.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5033829-92 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5062924-01 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5093546-10 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.05.23 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5101798-31 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5154561-59 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 플렉서블 고분자 기판 상에 증착된 투명 전도성 산화물층, 상기 투명 전도성 산화물층 상에 저온 증착된 산화물 반도체층 및 상기 산화물 반도체층에 흡착된 염료를 포함하는 작동전극;플렉서블 고분자 기판 상에 증착된 투명 전도성 산화물층 및 상기 투명 전도성 산화물층에 저온 증착된 촉매층을 포함하는 상대전극; 및상기 작동전극 및 상대전극 사이에 개재되는 전해질을 포함하며,상기 투명 전도성 산화물층 상에 저온 증착된 산화물 반도체층은 상기 투명 전도성 산화물층이 증착된 플렉서블 고분자 기판에 대하여 150℃ 이하의 저온에서 가스에 의해 운반된 1㎚∼10 ㎛ 크기의 산화물 반도체 분말을 100∼1200 m/sec의 속도로 분사노즐을 사용하여 분사하여 형성된 것임을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 제1항에 있어서,상기 산화물 반도체 분말로는 이산화티탄 분말(TiO2), 산화주석 분말(SnO2), 산화아연 분말(ZnO) 및 산화니오븀 분말(Nb2O5)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 혼합한 분말을 사용하거나, 이산화티탄 분말(TiO2), 산화주석 분말(SnO2), 산화아연 분말(ZnO) 및 산화니오븀 분말(Nb2O5)으로 이루어진 군에서 선택된 1종과 탄소나노튜브(CNT), 탄소나노섬유(CNF), 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 혼합한 분말을 사용하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지 |
4 |
4 제1항에 있어서,상기 플렉서블 고분자 기판은 폴리에틸렌테레프탈레이드(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에틸렌(PE), 폴리에테르설폰(PES), 폴리카보네이트(PC), 폴리아릴레이트(PAR) 및 폴리이미드(PI)로 이루어진 군으로부터 선택된 고분자를 사용하여 제조된 기판임을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지 |
5 |
5 제1항에 있어서,상기 투명 전도성 산화물층은 불소가 도핑된 틴 옥사이드(FTO), 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 인듐징크틴옥사이드(IZTO), 알루미늄징크옥사이드 (AZO), 인듐틴옥사이드-은-인듐틴옥사이드(ITO-Ag-ITO), 인듐징크옥사이드-은-인듐징크옥사이드(IZO-Ag-IZO), 인듐징크틴옥사이드-은-인듐징크틴옥사이드 (IZTO-Ag-IZTO) 및 알루미늄징크옥사이드-은-알루미늄징크옥사이드(AZO-Ag-AZO)로 이루어진 군으로부터 선택된 투명 전도성 산화물로 형성되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지 |
6 |
6 제1항에 있어서, 상기 촉매층은 탄소, 금 및 백금으로 이루어진 군으로부터 선택된 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지 |
7 |
7 제1항에 있어서, 상기 상대전극 및 작동전극 중 하나는 플렉서블 유리기판 또는 금속기판을 사용하여 제조된 것임을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지 |
8 |
8 투명 전도성 산화물층이 증착된 플렉서블 고분자 기판을 챔버에 배치시키는 단계(단계 1);투명 전도성 산화물층이 증착된 플렉서블 고분자 기판에 대하여 가스에 의해 운반된 1㎚∼10 ㎛ 크기의 산화물 반도체 분말을 150℃ 이하의 저온에서 100∼1200 m/sec의 속도로 분사노즐을 사용하여 분사하여 산화물 반도체층을 증착시키는 단계(단계 2);상기 산화물 반도체층에 염료를 흡착시켜 작동전극을 제조하는 단계(단계 3);투명 전도성 산화물층이 형성된 투명 기판의 상부에 촉매층을 형성하여 상대전극을 제조하는 단계(단계 4); 및 상기 단계 3에서 제조된 작동전극과 단계 4에서 제조된 상대전극을 대향시킨 후 전해액을 주입하는 단계(단계 5)를 포함하는 플렉서블 염료감응 태양전지의 제조방법 |
9 |
9 삭제 |
10 |
10 제8항에 있어서,상기 산화물 반도체 분말로는 이산화티탄 분말(TiO2), 산화주석 분말(SnO2), 산화아연 분말(ZnO) 및 산화니오븀 분말(Nb2O5)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 혼합한 분말을 사용하거나, 이산화티탄 분말(TiO2), 산화주석 분말(SnO2), 산화아연 분말(ZnO) 및 산화니오븀 분말(Nb2O5)으로 이루어진 군에서 선택된 1종과 탄소나노튜브(CNT), 탄소나노섬유(CNF), 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 혼합한 분말을 사용하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지의 제조방법 |
11 |
11 제8항에 있어서,상기 단계 2에서 상기 산화물 반도체 분말을 분사하여 산화물 반도체층을 형성한 후 압력기 등을 이용하여 가압하거나, 진공저온소결로, 오븐 등을 이용하여 플렉서블 고분자 기판의 유리전이 온도이하에서 저온 소결과정을 거치거나, 레이저를 이용하여 증착된 투명 전도성 산화물층을 국부 소결하는 과정을 더 수행하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지의 제조방법 |
12 |
12 제8항에 있어서,상기 플렉서블 고분자 기판은 폴리에틸렌테레프탈레이드(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에틸렌(PE), 폴리에테르설폰(PES), 폴리카보네이트(PC), 폴리아릴레이트(PAR) 및 폴리이미드(PI)로 이루어진 군으로부터 선택된 고분자를 사용하여 제조된 기판임을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지의 제조방법 |
13 |
13 제8항에 있어서,상기 투명 전도성 산화물층은 불소가 도핑된 틴 옥사이드(FTO), 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 인듐징크틴옥사이드(IZTO), 알루미늄징크옥사이드 (AZO), 인듐틴옥사이드-은-인듐틴옥사이드(ITO-Ag-ITO), 인듐징크옥사이드-은-인듐징크옥사이드(IZO-Ag-IZO), 인듐징크틴옥사이드-은-인듐징크틴옥사이드 (IZTO-Ag-IZTO) 및 알루미늄징크옥사이드-은-알루미늄징크옥사이드(AZO-Ag-AZO)로 이루어진 군으로부터 선택된 투명 전도성 산화물로 형성되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지의 제조방법 |
14 |
14 제8항에 있어서, 상기 촉매층은 탄소, 금 및 백금으로 이루어진 군으로부터 선택된 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 플렉서블 염료감응 태양전지의 제조방법 |
15 |
15 플렉서블 고분자 기판 상에 증착된 투명 전도성 산화물층, 상기 투명 전도성 산화물층 상에 저온 증착된 산화물 반도체층 및 상기 산화물 반도체층에 흡착된 염료를 포함하는 작동전극; 플렉서블 고분자 기판 상에 증착된 투명 전도성 산화물층 및 상기 투명 전도성 산화물층에 저온 증착된 촉매층을 포함하는 상대전극; 및 상기 작동전극 및 상대전극 사이에 개재되는 전해질을 포함하며,상기 투명 전도성 산화물층 상에 저온 증착된 산화물 반도체층은 상기 투명 전도성 산화물층이 증착된 플렉서블 고분자 기판에 대하여 150℃ 이하의 저온에서 가스에 의해 운반된 1㎚∼10 ㎛ 크기의 산화물 반도체 분말을 100∼1200 m/sec의 속도로 분사노즐을 사용하여 분사하여 형성된 것임을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지 기판 디스플레이 |
16 |
16 삭제 |
17 |
17 제15항에 있어서,상기 산화물 반도체 분말로는 이산화티탄 분말(TiO2), 산화주석 분말(SnO2), 산화아연 분말(ZnO) 및 산화니오븀 분말(Nb2O5)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 혼합한 분말을 사용하거나, 이산화티탄 분말(TiO2), 산화주석 분말(SnO2), 산화아연 분말(ZnO) 및 산화니오븀 분말(Nb2O5)으로 이루어진 군에서 선택된 1종과 탄소나노튜브(CNT), 탄소나노섬유(CNF), 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종을 혼합한 분말을 사용하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 염료감응 태양전지 기판 디스플레이 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | JP05296758 | JP | 일본 | FAMILY |
2 | JP23222477 | JP | 일본 | FAMILY |
3 | US20110240112 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | DE102010047430 | DE | 독일 | DOCDBFAMILY |
2 | JP2011222477 | JP | 일본 | DOCDBFAMILY |
3 | JP5296758 | JP | 일본 | DOCDBFAMILY |
4 | US2011240112 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 한국연구재단 | 서울대학교 산학협력단 | 선도연구센터육성사업 | 마이크로 제어계측 기술개발 |
공개전문 정보가 없습니다 |
---|
특허 등록번호 | 10-0994902-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20100406 출원 번호 : 1020100031548 공고 연월일 : 20101116 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20101109 청구범위의 항수 : 14 유별 : H01L 31/042 발명의 명칭 : 플렉서블 염료감응 태양전지 및 이의 제조방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 295,500 원 | 2010년 11월 10일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 348,000 원 | 2013년 10월 30일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 348,000 원 | 2014년 11월 04일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 243,600 원 | 2015년 10월 28일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 632,000 원 | 2016년 02월 19일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 442,400 원 | 2017년 10월 23일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 316,000 원 | 2018년 11월 01일 | 납입 |
제 10 년분 | 금 액 | 505,000 원 | 2019년 11월 01일 | 납입 |
제 11 년분 | 금 액 | 520,150 원 | 2020년 11월 18일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.04.06 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0219628-69 |
2 | [출원서등 보정]보정서 | 2010.04.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0233916-32 |
3 | [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서 | 2010.04.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0258710-64 |
4 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.05.07 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
5 | 선행기술조사보고서 | 2010.05.24 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0032909-62 |
6 | 의견제출통지서 | 2010.05.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0221215-66 |
7 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2010.07.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0472195-14 |
8 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2010.08.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0545569-76 |
9 | [명세서등 보정]보정서 | 2010.09.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0591987-60 |
10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2010.09.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0591989-51 |
11 | 등록결정서 | 2010.11.09 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0508268-73 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.09.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5195109-43 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.01.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5007213-54 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.03.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5033829-92 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5062924-01 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5093546-10 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.05.23 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5101798-31 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5154561-59 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1415085387 |
---|---|
세부과제번호 | B0000180 |
연구과제명 | 하이브리드자동차(HEV) 파워트레인/NVH시스템 기반구축 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가원 |
연구주관기관명 | 서울대학교 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200409~200908 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
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