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질소 도핑된 계층적 다공성 이산화티탄 나노구조체 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015116293
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 자외선 영역뿐만 아니라 가시광선 영역에서도 활성을 보이는 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체는 200nm 이하의 다수의 공극을 갖는 것을 특징으로 하고, 본 발명의 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체의 제조방법은 (a) 티타늄 알콕사이드와 암모니아 수용액을 혼합하는 단계; (b) 상기 (a) 단계에서 혼합하여 생성된 침전물을 여과하는 단계; (c) 상기 (b) 단계에서 여과된 여과물을 건조하는 단계; 및 (d) 상기 (c) 단계에서 건조된 건조물을 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B82B 1/00 (2006.01) C01G 23/047 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC C01G 23/047(2013.01) C01G 23/047(2013.01) C01G 23/047(2013.01)
출원번호/일자 1020120157585 (2012.12.28)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0086743 (2014.07.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.12.28)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박정영 미국 대전 유성구
2 브룬다바나 나익 인도 대전광역시 유성구
3 김선미 대한민국 대전광역시 유성구
4 정찬호 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-1094360-88
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.07.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.08.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0064879-88
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.02.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0138540-13
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.04.16 수리 (Accepted) 1-1-2014-0362721-77
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.04.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0362722-12
8 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2014.07.14 수리 (Accepted) 1-1-2014-0656662-33
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2014.08.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0583663-35
10 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2014.09.26 수리 (Accepted) 7-1-2014-0036617-19
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
200nm 이하의 다수의 공극을 갖는 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체
2 2
제1항에 있어서, 상기 나노구조체는 2 nm 미만의 마이크로 공극, 2 nm 이상 50 nm 미만의 메조 공극 및 50 nm 이상 100 nm 이하의 매크로 공극을 갖는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체
3 3
제2항에 있어서, 상기 매크로 공극들 사이에 메조 공극들이 존재하고, 상기 메조 공극들 사이에 마이크로 공극들이 존재하는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체
4 4
(a) 티타늄 알콕사이드와 암모니아 수용액을 혼합하는 단계;(b) 상기 (a) 단계에서 혼합하여 생성된 침전물을 여과하는 단계;(c) 상기 (b) 단계에서 여과된 여과물을 건조하는 단계; 및(d) 상기 (c) 단계에서 건조된 건조물을 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체의 제조방법
5 5
제4항에 있어서,상기 티타늄 알콕사이드의 농도는 0
6 6
제4항에 있어서,상기 암모니아 수용액의 농도는 0
7 7
제4항에 있어서,상기 (a) 단계에서 티타늄 알콕사이드와 암모니아 수용액의 혼합비율은 부피 기준으로 1 : 5 ~ 15인 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체 제조방법
8 8
제4항에 있어서,상기 (c)의 건조단계는 15 내지 30℃에서 15 내지 30 시간 동안 행해지는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체 제조방법
9 9
제4항에 있어서,상기 (d)의 열처리 단계는 200 내지 900℃에서 행해지는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체 제조방법
10 10
제4항에 있어서,상기 (d)의 열처리 단계는 300 내지 500℃에서 행해지는 것을 특징으로 하는 질소 도핑된 다공성 TiO2 나노구조체 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국과학기술원 도약연구지원사업(도전) 핫전자 물리 및 화학의 연구