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부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법

  • 기술번호 : KST2015134994
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 제조공정이 간단할 뿐만 아니라, 이종의 계면이 없는 계층구조를 형성할 수 있는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물의 형성방법이 개시되어 있다. 이를 위하여 부분 경화층을 가지는 제 1 고분자 패턴을 형성하고, 제 1 고분자 패턴 상에 상기 부분 경화층을 이용하여 제 2 고분자 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 다양한 계층구조를 가지는 미세 구조물을 간단한 공정을 사용하여 형성할 수 있다. 따라서 다양한 계층구조의 미세 구조물의 형성이 필요한 각종 공정의 효율성과 경제성을 향상시킬 수 있다. 또한, 초소수성을 가질 뿐만 아니라 및 거친 표면에서도 고접착성을 가지는 새로운 기능성 소재를 개발할 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020090034355 (2009.04.20)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-0935640-0000 (2009.12.29)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20100107) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.04.20)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 서갑양 대한민국 서울특별시 관악구
2 정훈의 대한민국 서울특별시 금천구
3 곽노균 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이종혁 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층 리아이피특허법률사무소 (역삼동, 흥국생명빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2009-0238569-39
2 [전자문서첨부서류]전자문서첨부서류등 물건제출서
[Attachment to Electronic Document] Submission of Object such as Attachment to Electronic Document		 2009.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2009-5015938-04
3 [공지예외적용대상(신규성, 출원시의 특례)증명서류]서류제출서
[Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)] Submission of Document		 2009.05.18 수리 (Accepted) 1-1-2009-0296848-11
4 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2009.05.28 수리 (Accepted) 1-1-2009-0323307-67
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.07.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.07.22 수리 (Accepted) 9-1-2009-0043421-27
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.08.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0351330-55
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.10.26 수리 (Accepted) 1-1-2009-0654004-13
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.10.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0654012-78
10 등록결정서
Decision to grant		 2009.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0532710-47
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
부분 경화층을 가지는 제 1 고분자 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 제 1 고분자 패턴 상에 상기 부분 경화층을 이용하여 상기 제 1 고분자 패턴 상에 형성된 패턴 구조 또는 인접하는 상기 제 1 고분자 패턴을 연결하는 브릿지 구조인 제 2 고분자 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 고분자 패턴이 자외선 경화성 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 고분자 패턴의 형성은 고분자 박막 상에 제 1 몰드를 위치시키는 단계; 모세관력에 의하여 상기 고분자 박막이 유동하는 단계; 및 상기 유동한 고분자 박막에 자외선을 조사하여 부분 경화층을 가지는 상기 제 1 고분자 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 자외선 조사는 5 내지 21초 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
5 5
제 3 항에 있어서, 상기 제 1 몰드는 PDMS 또는 PUA를 포함하는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
6 6
삭제
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 고분자 패턴의 형성은 상기 부분 경화층 상에 제 2 몰드를 위치시키는 단계; 및 상기 부분 경화층이 유동하여 상기 제 2 고분자 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
ⅰ) 자외선 경화성 고분자 박막 상에 제 1 몰드를 접촉시켜 모세관력에 의하여 상기 고분자 박막을 유동시키는 단계; ⅱ) 상기 유동된 고분자 박막에 자외선을 조사하여 부분 경화층을 가지는 제1 고분자 패턴을 형성하는 단계; ⅲ) 상기 부분 경화층 상에 제 2 몰드를 일정한 압력으로 위치시켜 상기 부분 경화층을 전사시키는 단계; 및 ⅳ) 상기 유동된 부분 경화층에 감압조건을 인가하여 상기 유동된 부분 경화층이 상기 제 2 몰드를 따라 유동하여 인접하는 제1 고분자 패턴을 연결하는 브릿지 구조를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
11 11
제 10 항에 있어서, ⅲ) 단계에서 일정한 압력은 0
12 12
제 10 항에 있어서, ⅲ) 단계에서 상기 부분 경화층의 유동은 상기 부분 경화층 상부 방향으로 일어나는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
13 13
제 10 항에 있어서, ⅲ) 단계 이후에 상기 전사된 부분 경화층이 모세관력에 의하여 제 2 몰드의 형상을 따라 유동하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
14 14
제 10 항에 있어서, 상기 감압조건이 10-2 내지 10-12 Pa 인 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
15 15
제 10 항에 있어서, 상기 제 2 몰드는 인접하는 제 1 고분자 패턴을 연결하는 라인, 원형, 메쉬 중 어느 하나 이상의 패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 계층적 미세 구조물 형성방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.