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나노입자로 조립된 3차원 구조물 제조방법

  • 기술번호 : KST2015136081
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 패턴-천공된 마스크를 이용하여 나노입자로 조립된 3차원 구조물을 제조하는 방법에 관한 것으로서, (1) 접지된 반응기 내에서, 패터닝하고자 하는 기판 위에, 소정 폭(w)으로 천공된 패턴을 갖는 마스크를 상기 기판으로부터 소정거리(d) 이격되도록 위치시키고, 전압을 인가하여 전기적 집속 렌즈를 형성하는 단계; 및 (2) 하전된 나노입자를 도입하여, 마스크의 패턴을 통해 하전입자를 기판으로 유도하여 하전된 나노입자를 3차원 형상으로 기판에 집속 부착되도록 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 본 발명의 방법에 의하면, 노이즈 패턴을 생성하지 않으면서 다양한 형상의 3차원 구조물을 고정밀, 고효율로 제조할 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01.01)
CPC B81C 1/00373(2013.01) B81C 1/00373(2013.01)
출원번호/일자 1020120076891 (2012.07.13)
출원인 서울대학교산학협력단, 재단법인 멀티스케일 에너지시스템 연구단
등록번호/일자 10-1391010-0000 (2014.04.24)
공개번호/일자 10-2014-0009878 (2014.01.23) 문서열기
공고번호/일자 (20140430) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.07.13)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
2 재단법인 멀티스케일 에너지시스템 연구단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최호섭 대한민국 서울 관악구
2 최만수 대한민국 서울 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김애라 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** (역삼동, 한신인터밸리**) 서관 ***호(테라아이피씨특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구
2 재단법인 멀티스케일 에너지시스템 연구단 서울특별시 관악구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.07.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-0563127-01
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.03.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0267276-64
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.04.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.05.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0037696-07
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0670201-40
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-1082240-16
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-1081899-15
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.11.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1081900-74
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2014.03.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0224592-16
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2014-0327580-60
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2014.04.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0327581-16
13 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2014.04.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0276091-17
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
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번호 청구항
1 1
(1) 접지된 반응기 내에서, 패터닝하고자 하는 기판 위에, 소정 폭(w)으로 천공된 패턴을 가지며 일면 또는 양면에 전극층 또는 이온층을 갖는 부도체 마스크를 상기 기판으로부터 소정거리(d) 이격되도록 위치시키고, 상기 마스크 또는 기판에 전압을 인가하여 전기적 집속 렌즈(electrodynamic focusing lens)를 형성하는 단계; 및(2) 하전된 나노입자를 도입하여, 마스크의 패턴을 통해 하전입자를 기판으로 유도하여 하전된 나노입자가 기판에 집속 부착되도록 하는 단계를 포함하며, 상기 마스크의 패턴을 통해 하전입자를 기판으로 유도하는 단계 (2) 에서, 상기 마스크 또는 기판을 평행 또는 수직 방향으로 이동시키면서 하전된 나노입자를 집속시킴으로써 하전된 나노입자가 집속 부착되어 형성된 나노입자 구조물을 제조하는 것을 특징으로 하는, 나노입자로 조립된 구조물 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 단계 (2)에서 하전입자와 동일한 극으로 하전된 기체 이온을 마스크의 표면에 대해 주입하여 이온층을 축적하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 나노입자로 조립된 구조물 제조방법
3 3
제 2 항에 있어서,상기 이온층을 축적하는 단계에서 상기 하전입자와 반대되는 극성의 전압을 0
4 4
제 1 항에 있어서,상기 단계(2)에서 나노입자를 증착하는 단계에서 상기 하전입자와 반대되는 극성의 전압을 0
5 5
제 1 항에 있어서,천공 패턴의 폭(w)과, 기판 및 마스크의 이격거리(d)의 비(w:d)는 1: 0
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 단계 (2)에서, 전압 및 전류 공급장치, 배터리 또는 축전지를 이용한 전하와 전압의 제어를 통해 하전입자의 집속도를 변화시켜 나노입자 구조물의 형상을 변화시키는 것을 특징으로 하는, 나노입자로 조립된 구조물 제조방법
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 단계 (2)가, 제1 전압에서 1차 증착하는 단계 및 제2 전압에서 2차 증착하는 단계를 포함하며, 상기 제1 전압 및 상기 제2 전압은 하전입자와 반대되는 극성의 0
8 8
삭제
9 9
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항의 방법을 이용하여 제조된 나노입자로 조립된 3차원 구조물
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN104040687 CN 중국 FAMILY
2 US09321633 US 미국 FAMILY
3 US20140212641 US 미국 FAMILY
4 WO2014010808 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN104040687 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN104040687 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 US2014212641 US 미국 DOCDBFAMILY
4 WO2014010808 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 재단법인 멀티스케일 에너지 시스템연구단 원천기술개발사업 초고효율 에너지 변환용 삼차원 멀티구조체 병렬조립