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인쇄회로기판 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015136987
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 폴리이미드를 베이스 필름으로 하는 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 인쇄회로기판은 폴리이미드로 이루어진 베이스 필름과; 상기 베이스필름 위에 정해진 회로 패턴대로 인쇄된 도금 씨앗층(plating seed); 및 상기 도금 씨앗층 상에 형성된 금속 도금층을 포함하며, 상기 베이스 필름의 표면에는, 상기 도금 씨앗층을 형성하는 금속과 산소의 본딩구조를 갖는 표면 개질층이 형성되어 있음을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 폴리이미드 베이스 필름과 도금 씨앗층 사이의 접착력을 강화하고, 회로패턴 형성공정을 단순화할 수 있다. 인쇄회로기판, 폴리이미드 필름, 도금 씨앗층, 회로패턴
Int. CL H05K 3/38 (2006.01.01) H05K 1/09 (2006.01.01)
CPC H05K 3/386(2013.01) H05K 3/386(2013.01) H05K 3/386(2013.01)
출원번호/일자 1020080127262 (2008.12.15)
출원인 삼성전자주식회사, 안동대학교 산학협력단, 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0068787 (2010.06.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.11)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 안동대학교 산학협력단 대한민국 경상북도
3 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박세호 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 박영배 대한민국 경상북도
3 주영창 대한민국 서울특별시 강남구
4 이영민 대한민국 경기도 용인시 수지구
5 김기현 대한민국 경기도 수원시 영통구
6 강석명 대한민국 경기도 용인시 기흥구
7 박성철 대한민국 경상북도 영주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이건주 대한민국 서울 종로구 명륜동*가 ***-* 미화빌딩 이건주특허법률사무소

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.12.15 수리 (Accepted) 1-1-2008-0860986-09
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.03.23 수리 (Accepted) 4-1-2009-5053597-55
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2011-5179778-92
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5132663-40
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
7 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.12.11 수리 (Accepted) 1-1-2013-1132689-19
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000066-26
9 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.08.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
10 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2014-0075223-40
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.09.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0652014-21
12 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.11.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-1133322-82
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.01.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0013588-85
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
폴리이미드로 이루어진 베이스 필름과; 상기 베이스필름 위에 정해진 회로 패턴대로 인쇄된 도금 씨앗층(plating seed); 및 상기 도금 씨앗층 상에 형성된 금속 도금층을 포함하며, 상기 베이스 필름의 표면에는, 상기 도금 씨앗층을 형성하는 금속과 산소의 본딩구조를 갖는 표면 개질층이 형성되어 있음을 특징으로 하는 인쇄회로기판
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 본딩구조는 팔라듐(Pd)과 상기 금속 씨앗층을 형성하는 금속의 본딩구조를 더 포함함을 특징으로 하는 인쇄회로기판
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 도금 씨앗층을 형성하는 금속은 은(Ag)이며, 상기 본딩구조는 산소와 은의 본딩구조, 산소와 팔라듐 및 은의 본딩구조 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판
4 4
(a) 폴리이미드 필름을 수산화칼륨(KOH) 및 에틸렌디아민(EDA)을 함유하는 용액에 침지하여 상기 폴리이미드 필름의 표면을 개질하는 과정과; (b) 개질된 상기 폴리이미드 필름의 표면에 정해진 회로패턴대로 인쇄된 도금 씨앗층을 형성하는 과정; 및 (c) 상기 도금 씨앗층 상에 금속 도금층을 형성하는 과정을 포함함을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 (a)과정은 50~80℃의 온도에서 3~10분 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법
6 6
상기 (a)과정 후 및 상기 (b) 과정 전에, 상기 개질된 폴리이미드 필름을 HCl 및 PdCl3 촉매를 포함한 산성용액에 침지하여 상기 폴리이미드 필름을 활성화하는 (d) 과정을 더 포함함을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법
7 7
제 4 항에 있어서, 상기 (b) 과정은 상기 개질된 폴리이미드 필름의 표면에 형성하고자 하는 도금 씨앗층의 금속을 함유하는 도전성 잉크를 인쇄한 다음 가열하여 상기 도전성 잉크의 금속입자를 금속층으로 소결시킴으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 도전성 잉크는 질산은(AgNO3) 용액 또는 은(Ag) 입자가 분산된 용액임을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법
9 9
제 6 항에 있어서, 상기 (d) 과정 후에 상기 활성화된 폴리이미드 필름을 H2SO4 용액에 침지하는 (e) 과정을 더 포함함을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법
10 10
제 4 항에 있어서, 상기 (b) 과정 후에 상기 도금 씨앗층 표면을 H2SO4 용액으로 활성화하는 (f)과정을 더 포함함을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.