요약 | 본 발명은 상변화형 비휘발성 메모리 소자 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 상변화형 비휘발성 메모리 소자는 기판; 및 기판 상부에 형성된 상변화재료층을 포함하는 메모리소자의 스택을 포함하고, 상기 상변화재료층은 안티몬과 아연 합금으로 형성된다. 이에 따라서, 종래의 GST 메모리소자에 비해 고속에서 안정적으로 동작하며 및 저소비전력형 상변화형 메모리소자를 제작할 수 있다.안티몬과 아연 합금, 상변화 재료, 메모리 소자 |
---|---|
Int. CL | H01L 27/115 (2006.01) |
CPC | H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) H01L 45/06(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020070047526 (2007.05.16) |
출원인 | 한국전자통신연구원, 연세대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-0857466-0000 (2008.09.02) |
공개번호/일자 | |
공고번호/일자 | (20080908) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2007.05.16) |
심사청구항수 | 8 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 유병곤 | 대한민국 | 대전 유성구 |
2 | 윤성민 | 대한민국 | 대전 서구 |
3 | 최세영 | 대한민국 | 경기 고양시 일산동구 |
4 | 박태진 | 대한민국 | 경기 고양시 일산서구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 신영무 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 Patent Application |
2007.05.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0360229-36 |
2 | 보정요구서 Request for Amendment |
2007.05.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2007-0068225-75 |
3 | 서지사항보정서 Amendment to Bibliographic items |
2007.06.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0438240-91 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2008.02.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0097058-14 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2008.04.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0255316-15 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2008.04.10 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0255323-24 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2008.08.14 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0426637-68 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2009.08.04 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5150899-36 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 기판; 및기판 상부에 형성된 상변화재료층을 포함하는 메모리소자의 스택을 포함하고,상기 상변화재료층은 하기 화학식으로 표현되는 안티몬과 아연 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화형 비휘발성 메모리소자:화학식 1ZnxSb100-xx는 5 내지 35의 범위임 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 제 1항에 있어서,상기 상변화재료층은 상온에서 비정질상태이며, 결정질로의 가역적 상전이 온도는 180 내지 220℃이고, 결정질로부터 비정질로의 가역적 상전이 온도는 500 내지 540℃인 것을 특징으로 하는 상변화형 비휘발성 메모리소자 |
4 |
4 제 1항에 있어서,상기 상변화재료층의 리셋(reset) 동작에 요구되는 전류의 크기는 12mA 미만인 것을 특징으로 하는 상변화형 비휘발성 메모리소자 |
5 |
5 제 1항에 있어서,상기 상변화재료층은 2 |
6 |
6 제 1항에 있어서,상기 메모리소자의 스택은 하부전극층;상기 하부전극층 상에 형성된 발열성 전극층;상기 발열성 전극층 상에 형성되어 상기 발열성 전극층의 일부를 노출시키는 포어가 형성된 제1절연층;상기 제1절연층 상에 포어를 매립하여 형성된 상변화재료층; 및상기 상변화재료층 상에 형성된 상부전극층을 포함하는상변화형 비휘발성 메모리소자 |
7 |
7 제 6항에 있어서,상기 메모리소자의 스택은 상기 상변화재료층과 상부전극층 사이에 제2절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화형 비휘발성 메모리소자 |
8 |
8 기판 상에 하부전극층을 형성하는 단계;상기 하부전극층 상에 발열성 전극층을 형성하는 단계;상기 발열성 전극층의 일부를 덮도록 제1절연층을 형성하는 단계;상기 제1절연층을 패터닝하여 발열성 전극층의 일부가 노출되는 포어를 형성하는 단계;상기 포어에 하기 화학식으로 표현되는 안티몬과 아연 합금으로 상변화재료층을 형성하는 단계; 및상기 상변화재료층 상에 상부전극을 형성하는 단계를 포함하는 상변화형 비휘발성 메모리소자의 제조방법:화학식 1ZnxSb100-xx는 5 내지 35의 범위임 |
9 |
9 삭제 |
10 |
10 제 8항에 있어서, 상기 상변화재료층의 형성 단계 후에, 상변화재료층에 제2절연층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상변화형 비휘발성 메모리소자의 제조방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | JP20288587 | JP | 일본 | FAMILY |
2 | US07952086 | US | 미국 | FAMILY |
3 | US20080283817 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | JP2008288587 | JP | 일본 | DOCDBFAMILY |
2 | US2008283817 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
3 | US7952086 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
공개전문 정보가 없습니다 |
---|
특허 등록번호 | 10-0857466-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20070516 출원 번호 : 1020070047526 공고 연월일 : 20080908 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20080814 청구범위의 항수 : 8 유별 : H01L 27/115 발명의 명칭 : 안티몬-아연 합금을 이용한 상변화형 비휘발성 메모리 소자및 이의 제조방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구... |
1 |
(권리자) 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 213,000 원 | 2008년 09월 03일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 216,000 원 | 2011년 08월 31일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 216,000 원 | 2012년 08월 31일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 216,000 원 | 2013년 08월 29일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 404,000 원 | 2014년 08월 27일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 404,000 원 | 2015년 08월 27일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 282,800 원 | 2016년 08월 26일 | 납입 |
제 10 년분 | 금 액 | 680,000 원 | 2017년 08월 28일 | 납입 |
제 11 년분 | 금 액 | 340,000 원 | 2018년 08월 23일 | 납입 |
제 12 년분 | 금 액 | 340,000 원 | 2019년 08월 26일 | 납입 |
제 13 년분 | 금 액 | 400,000 원 | 2020년 08월 25일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 | 2007.05.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0360229-36 |
2 | 보정요구서 | 2007.05.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2007-0068225-75 |
3 | 서지사항보정서 | 2007.06.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0438240-91 |
4 | 의견제출통지서 | 2008.02.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0097058-14 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2008.04.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0255316-15 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2008.04.10 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0255323-24 |
7 | 등록결정서 | 2008.08.14 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0426637-68 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2009.08.04 | 수리 (Accepted) | 4-1-2009-5150899-36 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1345071141 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A2005 |
연구과제명 | 휴먼트로닉스 정보소재 사업단 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
연구주관기관명 | 연세대학교 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1340012811 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A2005 |
연구과제명 | 휴먼트로닉스정보소재사업단 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
연구주관기관명 | 연세대학교 |
성과제출연도 | 2006 |
연구기간 | 200603~201202 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
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