요약 | Pd 나노와이어를 이용한 수소센서 제조방법이 제공된다.본 발명은, 기판상에 외부전극 패턴을 형성하는 공정; 상기 기판상에 수지층을 도포한 후, 수지층 나노채널 패턴을 형성하는 공정; 상기 나노채널이 형성된 기판상에 스퍼터를 이용하여 Pd를 증착한 후, 상기 수지층을 제거함으로서 Pd 나노와이어를 형성하는 공정; 상기 Pd 나노와이어 형성된 기판상에 수지층을 도포한 후, 상기 외부전극 패턴과 상기 Pd 나노 와이어의 양단부 그리고 상기 외부전극 패턴과 Pd 나노 와이어의 양단부 간의 소정위치 각각의 사이에 수지층 패턴을 형성하는 공정; 및 상기 형성된 수지층 패턴상에 전도성 금속을 증착한 후, 그 수지층 패턴을 제거함으로써 상기 외부전극 패턴과 Pd 나노와이어를 전기적으로 연결하는 공정;을 포함하는 Pd 나노와이어를 이용한 수소센서 제조방법에 관한 것이다.Pd 나노와이어, 수소센서, 스퍼터 |
---|---|
Int. CL | G01N 27/12 (2011.01) B28Y 15/00 (2011.01) G01N 27/30 (2011.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020060135209 (2006.12.27) |
출원인 | 연세대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-0870126-0000 (2008.11.18) |
공개번호/일자 | 10-2008-0060749 (2008.07.02) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20081125) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 보정승인간주 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2006.12.27) |
심사청구항수 | 9 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이우영 | 대한민국 | 서울 마포구 |
2 | 전계진 | 대한민국 | 경기 수원시 장안구 |
3 | 이은송이 | 대한민국 | 경기 부천시 원미구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김승욱 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 강남대로 ***, ***호(서초동, 두산베어스텔)(아이피마스터특허법률사무소) |
2 | 김영희 | 대한민국 | 서울특별시 용산구 효창원로**길 *, 네오국제특허법률사무소 (효창동) |
3 | 이채형 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 ** (대치동 동구빌딩 *층) Neo국제특허법률사무소 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 Patent Application |
2006.12.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0971201-99 |
2 | 서지사항보정서 Amendment to Bibliographic items |
2007.01.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0070498-21 |
3 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2007.08.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0590019-38 |
4 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2007.08.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
5 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2007.09.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2007-0055039-45 |
6 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2007.09.12 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0660275-85 |
7 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2007.09.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0520960-49 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2007.10.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0756327-34 |
9 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2007.10.23 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0756339-82 |
10 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2008.03.13 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0138778-64 |
11 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2008.05.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0335012-95 |
12 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2008.05.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0335009-57 |
13 | 등록결정서 Decision to grant |
2008.09.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0496358-09 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
번호 | 청구항 |
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1 |
1 기판 상에 외부전극 패턴을 형성하는 공정;상기 기판상에 수지층을 도포한 후, 수지층 나노채널 패턴을 형성하는 공정;상기 나노채널이 형성된 기판상에 스퍼터를 이용하여 Pd를 증착한 후, 상기 수지층을 제거함으로서 Pd 나노와이어를 형성하는 공정;상기 Pd 나노와이어가 형성된 기판상에 수지층을 도포한 후, 상기 외부전극 패턴과 상기 Pd 나노 와이어의 양단부 그리고 상기 외부전극 패턴과 Pd 나노 와이어의 양단부 간의 소정위치 각각의 사이에 수지층 패턴을 형성하는 공정; 및상기 형성된 수지층 패턴상에 전도성 금속을 증착한 후, 그 수지층 패턴을 제거함으로써 상기 외부전극 패턴과 Pd 나노와이어를 전기적으로 연결하는 공정;을 포함하는 Pd 나노와이어를 이용한 수소센서 제조방법 |
2 |
2 제 1항에 있어서, 상기 전도성 금속은 Au와 Ti중 선택된 1종 이상임을 특징으로 하는 Pd 나노와이어를 이용한 수소센서 제조방법 |
3 |
3 제 1항에 있어서, 상기 수지층은 PMMA로 이루어진 것임을 특징으로 하는 Pd 나노와이어를 이용한 수소센서 제조방법 |
4 |
4 제 1항에 있어서, 상기 나노채널은 그 선폭이 100 ㎚ ~ 500 ㎚ 이고 길이가 10 ㎛ ~ 40 ㎛인 것을 특징으로 하는 Pd 나노와이어를 이용한 수소센서 제조방법 |
5 |
5 제 1항에 있어서, 상기 스퍼터로 증착되는 Pd는 그 두께가 5 ㎚ ~ 400 ㎚ 범위인 것을 특징으로 하는 Pd 나노와이어를 이용한 수소센서 제조방법 |
6 |
6 제 1항에 있어서, 10~40,000ppm 사이의 수소농도를 0 |
7 |
7 제 1항에 있어서, 상기 기판은 SiO2로 조성됨을 특징으로 하는 Pd 나노와이어 수소센서 제조방법 |
8 |
8 제 1항에 있어서, 나아가, 상기 외부전극 패턴과 연결된 Pd 나노와이어를 이온밀링처리함을 특징으로 하는 Pd 나노와이어 수소센서 제조방법 |
9 |
9 삭제 |
10 |
10 제 1항에 있어서, 상기 Pd를 증착시, Ni, Pt 및 Ag중 선택된 1종의 금속을 함께 증착함으로써 금속합금 나노와이어를 형성함을 특징으로 하는 Pd 나노와이어 수소센서 제조방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US07875194 | US | 미국 | FAMILY |
2 | US20100096071 | US | 미국 | FAMILY |
3 | WO2008078864 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2010096071 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
2 | US7875194 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
3 | WO2008078864 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-0870126-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20061227 출원 번호 : 1020060135209 공고 연월일 : 20081125 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20080926 청구범위의 항수 : 9 유별 : G01N 27/12 발명의 명칭 : Pd 나노와이어를 이용한 수소센서 제조방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
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1 |
(권리자) 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 235,500 원 | 2008년 11월 18일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 238,000 원 | 2011년 11월 16일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 238,000 원 | 2012년 11월 06일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 238,000 원 | 2013년 11월 12일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 442,000 원 | 2014년 11월 13일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 468,520 원 | 2016년 01월 05일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 309,400 원 | 2016년 11월 21일 | 납입 |
제 10 년분 | 금 액 | 735,000 원 | 2017년 11월 06일 | 납입 |
제 11 년분 | 금 액 | 367,500 원 | 2018년 11월 09일 | 납입 |
제 12 년분 | 금 액 | 378,520 원 | 2019년 12월 16일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
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1 | 특허출원서 | 2006.12.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0971201-99 |
2 | 서지사항보정서 | 2007.01.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0070498-21 |
3 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2007.08.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0590019-38 |
4 | 선행기술조사의뢰서 | 2007.08.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
5 | 선행기술조사보고서 | 2007.09.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2007-0055039-45 |
6 | [출원서등 보정]보정서 | 2007.09.12 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0660275-85 |
7 | 의견제출통지서 | 2007.09.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0520960-49 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2007.10.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0756327-34 |
9 | [명세서등 보정]보정서 | 2007.10.23 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0756339-82 |
10 | 의견제출통지서 | 2008.03.13 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0138778-64 |
11 | [명세서등 보정]보정서 | 2008.05.13 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0335012-95 |
12 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2008.05.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0335009-57 |
13 | 등록결정서 | 2008.09.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0496358-09 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1345071141 |
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세부과제번호 | 과C6A2005 |
연구과제명 | 휴먼트로닉스 정보소재 사업단 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
연구주관기관명 | 연세대학교 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
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