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패턴 마스크 제조용 기판, 및 이를 이용한 패턴 마스크의 제조 방법(Substrate for preparation of a pattern mask, and method for manufacturing a pattern mask using same)

  • 기술번호 : KST2017006263
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 기판을 준비하는 단계, 상기 기판의 제1 면(first surface) 상에 타겟 패턴(target pattern)이 형성된 제1 필름(first film)을 배치하는 단계, 상기 기판의 제2 면(second surface) 상에, 상기 기판의 중앙부를 덮고, 상기 기판의 가장자리부를 노출하는 제2 필름(second film)을 배치하는 단계, 및 노출된 상기 기판의 상기 가장자리부를 통해 전류를 공급하는 방법으로, 상기 기판을 전기 화학 식각(electrochemical etching)하여, 상기 기판 내에 상기 타겟 패턴에 대응하는 타겟 홀(target hole)을 형성하는 단계를 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법이 제공될 수 있다.
Int. CL H01L 21/033 (2015.10.29) H01L 21/02 (2015.10.29) H01L 21/306 (2015.10.29) H01L 29/06 (2015.10.29) C23C 14/04 (2015.10.29)
CPC H01L 21/0337(2013.01) H01L 21/0337(2013.01) H01L 21/0337(2013.01) H01L 21/0337(2013.01) H01L 21/0337(2013.01)
출원번호/일자 1020150130744 (2015.09.16)
출원인 한양대학교 에리카산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0033461 (2017.03.27) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.09.16)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 대한민국 경기도 안산시 상록구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안재빈 대한민국 경기 수원시 장안구
2 류헌열 대한민국 충청남도 아산시
3 박진구 대한민국 서울특별시 강남구
4 김명준 대한민국 서울시 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상열 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 대한민국 경기도 안산시 상록구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.09.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0898971-80
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.01.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.02.05 수리 (Accepted) 9-1-2016-0006510-12
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.07.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0514784-24
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.09.12 수리 (Accepted) 1-1-2016-0890588-54
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.10.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-1009992-90
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.11.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-1125311-16
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.12.16 수리 (Accepted) 1-1-2016-1239037-06
9 지정기간연장 관련 안내서
Notification for Extension of Designated Period
2016.12.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0180439-44
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.01.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0062994-79
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.01.18 수리 (Accepted) 1-1-2017-0062955-09
12 등록결정서
Decision to grant
2017.05.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0370082-93
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번호 청구항
1 1
기판을 준비하는 단계;상기 기판의 제1 면(first surface) 상에 타겟 패턴(target pattern)이 형성된 제1 필름(first film)을 배치하는 단계;상기 기판의 제2 면(second surface) 상에, 상기 기판의 중앙부를 덮고, 상기 기판의 가장자리부를 노출하는 제2 필름(second film)을 배치하는 단계; 및 노출된 상기 기판의 상기 가장자리부를 통해 전류를 공급하는 방법으로, 상기 기판을 전기 화학 식각(electrochemical etching)하되 상기 제1 필름을 마스크로 사용하여, 상기 기판의 상기 제1 면에 상기 타겟 패턴에 대응하는 타겟 홀(target hole)을 형성하는 단계를 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
2 2
제1 항에 있어서,상기 제1 필름의 상기 타겟 패턴은,상기 제2 필름이 덮인 상기 기판의 상기 중앙부에 위치하는 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
3 3
제1 항에 있어서,상기 기판을 전기 화학 식각하는 단계는,상기 기판의 상기 가장자리부를 통해 상기 제2 필름이 덮인 상기 기판의 상기 중앙부로 전류가 균일하게 도달되는 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
4 4
제1 항에 있어서,상기 제1 필름의 상기 타겟 패턴은, 상기 기판의 상기 제1 면을 노출하는 복수의 홀(holes)인 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
5 5
제1 항에 있어서,상기 제1 필름은 더미 패턴(dummy patterns)을 더 포함하고,상기 더미 패턴은, 상기 제1 필름의 가장자리에 배치되는 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
6 6
제5 항에 있어서,상기 기판을 전기 화학 식각하는 단계에서,상기 기판 내에 상기 더미 패턴에 대응하는 더미 홀(dummy hole)이 형성되는 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
7 7
제6 항에 있어서,상기 타겟 패턴과 상기 더미 패턴의 형상 및 크기가 동일한 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
8 8
제7 항에 있어서,상기 더미 홀의 크기가 상기 타겟 홀의 크기보다 큰 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
9 9
제7 항에 있어서,상기 타겟 홀의 형상 및 크기가 상기 더미 홀의 형상 및 크기보다 균일한 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
10 10
제1 항에 있어서,상기 제1 필름은 상기 기판의 상기 제1 면의 전면을 덮는 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
11 11
제1 항에 있어서,상기 기판의 상기 제1 면 상에 배치되는 상기 제1 필름과 상기 기판의 상기 제2 면 상에 배치되는 상기 제2 필름은 서로 동일한 물질인 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
12 12
제1 항 내지 제11 항 중 어느 한 항에 따른 패턴 마스크의 제조 방법으로 패턴 마스크를 제조하는 단계;상기 패턴 마스크의 상기 타겟 홀 내에 숄더 볼(solder ball)을 제공하는 단계; 및상기 숄더 볼을 갖는 상기 패턴 마스크를 웨이퍼에 인접시켜, 상기 숄더 볼을 상기 웨이퍼로 전사하는 단계를 포함하는 패턴 마스크의 사용 방법
13 13
기판;상기 기판의 제1 면(first surface) 상에 배치되고, 타겟 패턴(target pattern)이 형성된 제1 필름(first film); 및상기 기판의 제2 면(second surface) 상에 배치된 제2 필름(second film)을 포함하되,상기 제1 필름의 면적은 상기 기판의 면적과 동일하고, 상기 제2 필름의 면적은 상기 기판의 면적보다 작아, 상기 기판의 상기 제2 면의 가장자리부(edge portion)가 노출되고, 노출된 상기 기판의 상기 가장자리부를 통해 전류를 공급하는 방법으로, 상기 기판을 전기 화학 식각(electrochemical etching)하되 상기 제1 필름을 마스크로 사용하여, 상기 기판의 상기 제1 면에 상기 타겟 패턴에 대응하는 타겟 홀(target hole)을 형성되는 것을 포함하는 패턴 마스크 제조용 기판
14 14
제13 항에 있어서,상기 제1 필름은 더미 패턴(dummy patterns)을 더 포함하고,상기 더미 패턴은, 상기 제1 필름의 가장자리에 배치되는 것을 포함하는 패턴 마스크 제조용 기판
15 15
제14 항에 있어서,상기 제1 필름의 상기 타겟 패턴 및 상기 더미 패턴은, 상기 기판의 상기 제1 면을 노출하는 동일한 형상 및 크기를 갖는 복수의 홀(holes)을 포함하는 패턴 마스크 제조용 기판
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한양대학교 에리카 산학협력단 산학협력선도대학(LINC)육성사업 / LINK(기업지원) / 기술개발과제(4차) 범핑마스크 제작을 위한 전기화학 식각 공정 개발