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실리콘 기판을 준비하는 단계;상기 실리콘 기판 상에, 실리콘산화막 패턴과 상기 실리콘산화막 패턴 상의 실리콘질화막 패턴을 포함하는, 블로킹패드 패턴을 형성하는 단계;상기 블로킹패드 패턴에 의하여 노출되는 상기 실리콘 기판에 대하여 습식 산화 공정으로서 열산화를 수행함으로써 상기 실리콘 기판의 일부로부터 실리콘산화돔(silicon oxide dome)을 형성하는 단계; 및상기 실리콘산화돔을 제거함으로써 상기 실리콘산화돔에 대응되는 음각 패턴을 갖는 실리콘 마스터 몰드를 형성하는 단계;를 포함하며,상기 실리콘 마스터 몰드를 형성하는 단계에서, 상기 음각 패턴의 종단면은 각진 부분이 없이 상기 실리콘 마스터 몰드의 상부 표면에서 부드럽게 이어지는 제 1 곡선 및 상기 제 1 곡선에서 이어지는 제 2 곡선이 부드럽게 연결되어 이루어지되, 상기 제 1 곡선과 상기 제 2 곡선이 만나는 지점은 변곡점을 형성하는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 실리콘산화돔을 형성하는 단계는 상기 실리콘산화돔의 측부가 상기 블로킹패드 패턴의 하부로 성장하는 단계를 포함하는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 실리콘 기판 상에 블로킹패드 패턴을 형성하는 단계;는상기 실리콘 기판 상에 실리콘산화막 및 실리콘질화막을 포함하는 블로킹패드를 형성하는 단계; 상기 블로킹패드 상에 감광층을 도포하고 상기 감광층 상에 개방영역 및 폐쇄영역을 가지는 마스크를 이용하여 칩 스티칭 리소그래피 공정을 수행함으로써, 감광층 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 감광층 패턴에 의하여 노출되는 상기 실리콘질화막을 제거하고 대응되는 하부의 상기 실리콘산화막을 제거함으로써 블로킹패드 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 마스크의 상기 개방영역은 상기 실리콘산화돔에 대응되는 음각 패턴에 대응되는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 블로킹패드는 상기 실리콘산화막 및 상기 실리콘질화막 사이에 개재되는 폴리실리콘막을 더 포함하는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 음각 패턴의 곡률 및 크기는 상기 블로킹패드를 형성하는 단계에서 상기 실리콘산화막 및 상기 실리콘질화막의 상대적인 두께의 비를 결정함으로써 제어되는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 음각 패턴의 높낮이는 상기 실리콘산화돔을 형성하는 단계에서의 습식 산화량에 따라 제어되는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 실리콘 마스터 몰드에서 차지하는 상기 음각 패턴의 비율을 절반으로 조절하기 위하여 상기 마스크를 구성하는 개방영역에 대한 폐쇄영역의 비율은 6/4 이상으로 결정되는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 실리콘산화돔을 형성하는 단계는 상기 습식 산화 공정을 수행하기 이전에 상기 블로킹패드 패턴에 의하여 노출된 상기 실리콘 기판을 소정의 깊이만큼 제거하는 단계;를 더 포함하는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 실리콘 마스터 몰드의 표면에 절연막을 증착함으로써 표면처리 하는 단계;를 더 포함하는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 실리콘 마스터 몰드의 표면에 금속막을 증착함으로써 표면처리 하는 단계;를 더 포함하는, 실리콘 마스터 몰드의 제조방법
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실리콘 기판의 일부에 대하여 습식 산화 공정으로서 열산화를 수행하여 실리콘산화돔을 형성한 후에 상기 실리콘산화돔을 제거함으로써 구현된, 상기 실리콘산화돔에 대응되는 음각 패턴을 갖는 실리콘 마스터 몰드이며, 상기 실리콘 마스터 몰드의 상부 표면에서 상기 음각 패턴으로 연결되는 부분이 각진 부분이 없이 부드러운 곡면으로 이루어지는, 실리콘 마스터 몰드
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제 14 항에 있어서,상기 음각 패턴의 종단면은 상기 실리콘 마스터 몰드의 상부 표면에서 각진 부분이 없이 부드럽게 이어지는 제 1 곡선 및 상기 제 1 곡선에서 이어지는 제 2 곡선이 부드럽게 연결되어 이루어지되, 상기 제 1 곡선과 상기 제 2 곡선이 만나는 지점은 변곡점을 형성하는, 실리콘 마스터 몰드
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