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기판; 및상기 기판 상에 형성된 10 nm 내지 5 ㎛ 직경의 수화겔 나노입자를 포함하는 수화겔 나노입자 결정단층막, 상기 수화겔 나노입자 결정단층막은 육방 격자 형태로 자기조립된 형태를 가짐;을 포함하는 패턴화된 나노구조체로서,(i) 상기 수화겔 나노입자는 수중에서의 온도가 증가함에 따라 수축되는 한편, 온도가 감소함에 따라 팽창하는 방식으로 상기 기판 상에 수화겔 나노입자 패턴을 형성하고, 상기 수화겔 나노입자의 수축 또는 팽창은 수중에서의 온도의 증가 또는 감소에 따라 가역적으로 이루어짐, 또한(ii) 상기 수화겔 나노입자는 염 용액의 처리 시 염의 농도가 증가함에 따라 수축되는 한편, 염의 농도가 감소함에 따라 팽창하는 방식으로 상기 기판 상에 수화겔 나노입자 패턴을 형성하고, 상기 수화겔 나노입자의 수축 또는 팽창은 염의 농도의 증가 또는 감소에 따라 가역적으로 이루어짐, 그리고,상기 염은 호프마이스터 계열(Hofmeister series)에 속하는 염인 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체
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제1항에 있어서,상기 수화겔 나노입자 패턴은 상기 수화겔 나노입자가 동일 또는 상이한 간격으로 반복되어 형성된 것을 특징으로 하고, 상기 수화겔 나노입자의 간격은 온도의 변화 또는 염의 농도에 따라 가역적으로 변화하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체
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제1항에 있어서,상기 온도는 0 내지 100 ℃의 범위에서 변화하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체
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제1항에 있어서,상기 염은 Na3citrate, Na2CO3, Na2SO4, Na2S2O3, NaH2PO4, NaF, NaCl, NaBr, NaNO3, NaI, NaClO4 및 NaSCN으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체
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제1항에 있어서,상기 염의 농도는 0
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제1항에 있어서,상기 기판은 실리콘 웨이퍼, 규소/규소산화물 재질의 유리, 석영 커버글라스, indium tin oxide, ZnO, TiO2 금속산화물 층, poly(dimethylsiloxane), polyethylene, polypropylene, poly(methyl methacrylate), polystyrene, poly(ethylene terephtalate) 또는 이들의 공중합체와 같은 고분자 기질로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체
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제1항에 있어서,상기 수화겔 나노입자는 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드)[poly(N-isopropylacrylamide), pNIPAM], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-알릴아민)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-allylamine), poly(NIPAM-co-AA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 메타아크릴레이트)[poly(N-isopropylacrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl methacrylate), poly(NIPAM-co-DMAEMA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl acrylate), poly(NIPAM-co-DMAEA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-acrylic acid), poly(NIPAM-co-AAc)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-메타아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-methacrylic acid), poly(NIPAM-co-MAAc)], 폴리(N,N-디에틸아크릴아미드)[poly(N,N-diethylacrylamide)], 폴리(N-비닐카프롤락탐)[poly(N-vinlycaprolactam)], 폴리(에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol)], 폴리(에틸렌 글리콜-b-프로필렌 글리콜-b-에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol-b-propylene glycol-b-ethylene glycol)]로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체
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기판에 10 nm 내지 5 ㎛ 직경의 수화겔 나노입자를 포함하는 수화겔 나노입자 결정단층막을 형성하는 단계, 상기 수화겔 나노입자 결정단층막은 육방 격자 형태로 자기조립된 형태를 가짐; 및(b) (i) 상기 수화겔 나노입자 결정단층막이 형성된 기판의 수중에서의 온도가 증가함에 따라 수축되는 한편, 온도가 감소함에 따라 팽창하는 방식으로 상기 기판 상에 수화겔 나노입자 패턴을 형성하거나, 또는 (ii) 상기 수화겔 나노입자 결정단층막이 형성된 기판의 염 용액의 처리 시 염의 농도가 증가함에 따라 수축되는 한편, 염의 농도가 감소함에 따라 팽창하는 방식으로 상기 기판 상에 수화겔 나노입자 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 패턴화된 나노구조체의 제조방법으로서,상기 수화겔 나노입자의 수축 또는 팽창은 수중에서의 온도의 증가 또는 감소에 따라 가역적으로 이루어지고, 또한 염의 농도의 증가 또는 감소에 따라 가역적으로 이루어지며, 그리고상기 염은 호프마이스터 계열(Hofmeister series)에 속하는 염인 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 수화겔 나노입자 패턴은 상기 수화겔 나노입자가 동일 또는 상이한 간격으로 반복되어 형성된 것을 특징으로 하고, 상기 수화겔 나노입자의 간격은 온도의 변화 또는 염의 농도에 따라 가역적으로 변화하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 온도는 0 내지 100 ℃의 범위에서 변화하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 염은 Na3citrate, Na2CO3, Na2SO4, Na2S2O3, NaH2PO4, NaF, NaCl, NaBr, NaNO3, NaI, NaClO4 및 NaSCN으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 염의 농도는 0
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제9항에 있어서,상기 기판은 실리콘 웨이퍼, 규소/규소산화물 재질의 유리, 석영 커버글라스, indium tin oxide, ZnO, TiO2 금속산화물 층, poly(dimethylsiloxane), polyethylene, polypropylene, poly(methyl methacrylate), polystyrene, poly(ethylene terephtalate) 또는 이들의 공중합체와 같은 고분자 기질로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 수화겔 나노입자는 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드)[poly(N-isopropylacrylamide), pNIPAM], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-알릴아민)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-allylamine), poly(NIPAM-co-AA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 메타아크릴레이트)[poly(N-isopropylacrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl methacrylate), poly(NIPAM-co-DMAEMA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl acrylate), poly(NIPAM-co-DMAEA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-acrylic acid), poly(NIPAM-co-AAc)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-메타아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-methacrylic acid), poly(NIPAM-co-MAAc)], 폴리(N,N-디에틸아크릴아미드)[poly(N,N-diethylacrylamide)], 폴리(N-비닐카프롤락탐)[poly(N-vinlycaprolactam)], 폴리(에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol)], 폴리(에틸렌 글리콜-b-프로필렌 글리콜-b-에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol-b-propylene glycol-b-ethylene glycol)]로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 패턴화된 나노구조체의 제조방법
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