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2차원 물질의 패턴이 형성된 유연소자의 제조 방법으로서,기판 상에 2차원 물질 층을 형성하는 단계;리소그래피 공정을 통해 상기 기판 상에서 패턴이 형성되는 이외의 영역은 상기 2차원 물질이 제거되어, 상기 2차원 물질의 마이크로 패턴 또는 나노 패턴을 형성하는 단계;상기 패터닝된 2차원 물질 층 상부에 폴리머가 포함된 용액을 코팅하고 경화시켜 폴리머로 이루어진 유연기판을 형성하는 단계; 및상기 기판을 제거하는 단계;를 포함하는, 유연소자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 2차원 물질의 마이크로 패턴 또는 나노 패턴을 형성하는 단계는, 포토리소그래피 또는 이빔리소그래피 공정을 통해 상기 2차원 물질의 마이크로 패턴 또는 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 유연소자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 기판은 전이금속으로 이루어진 금속 기판인, 유연소자의 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 기판은 구리 또는 니켈로 이루어진 금속 기판인, 유연소자의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 기판을 제거하는 단계는, 상기 구리 또는 니켈을 포함하는 금속 기판을 암모늄 펄설페이트, FeCl3 수용액 또는 강산에 의해 제거하는 단계를 포함하는, 유연소자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 유연기판의 생성 후 열적층공정(thermal laminating) 단계를 더 포함하는, 유연소자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 2차원 물질은 그래핀 또는 TMD(transition metal dichalcogenide)를 포함하는, 유연소자의 제조 방법
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삭제
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제1항에 있어서,상기 유연기판은 폴리이미드(polyimide, PI), 아크릴(acryl), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리비닐알콜(polyvinylalcohol), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthalate, PEN), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate, PET), 폴리노르보넨(polynorbornene), 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종으로 이루어진, 유연소자의 제조 방법
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