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전자 시냅스 소자 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2022006573
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 하부 전극, 상부 전극, 및 상기 하부 전극과 상부 전극의 사이에 구비되고, 복수의 전도성 나노 입자를 포함하는 활성층을 포함하고, 상기 전도성 나노 입자는 연속 상을 형성하는 매트릭스 중에 분산되고, 상기 매트릭스는 단백질로 이루어지는, 전자 시냅스 소자가 개시된다. 본 발명에 따른 전자 시냅스 소자는, 스위칭 동작 전압이 낮고, 비교적 낮은 전압으로도 단기 기억 강화(short term potentiation) 상태에서 장기 기억 강화(long term potentiation) 상태로의 천이 현상을 구현할 수 있으며, 안정성이 우수하여 뉴로모픽 컴퓨팅 구현을 위한 멤리스티브 소자로서 바람직하게 적용될 수 있다.
Int. CL H01L 45/00 (2006.01.01)
CPC H01L 45/1253(2013.01) H01L 45/146(2013.01) H01L 45/1608(2013.01)
출원번호/일자 1020200123143 (2020.09.23)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0040213 (2022.03.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.09.23)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김태환 서울특별시 강남구
2 이정운 서울특별시 은평구
3 유범희 경기도 성남시 중원구
4 성시현 서울특별시 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 해움특허법인 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 ***, *층(반포동, 세영제이타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.09.23 수리 (Accepted) 1-1-2020-1013468-54
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.04.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2021.06.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0187125-15
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.10.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0832012-49
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.12.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-1488967-77
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2021-1488966-21
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2022.04.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0316311-61
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하부 전극;상부 전극; 및상기 하부 전극과 상기 상부 전극의 사이에 구비되고, 복수의 전도성 나노 입자를 포함하는 활성층을 포함하고,상기 전도성 나노 입자는 연속 상을 형성하는 매트릭스 중에 분산되고, 상기 매트릭스는 단백질로 이루어지는, 전자 시냅스 소자
2 2
제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 입자가, Au, Zn, Cu, In, Ag, Sn, Sb, Ni, Fe 및 Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 금속을 포함하는 금속 나노 입자인, 전자 시냅스 소자
3 3
제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 입자가, SiO2, CaO, Cr2O3, MnO2, TiO2, ZrO2, Y2O3, MgO, HfO2, ZnO, Al2O3, SnO2, ITO(Indium tin oxide) 및 InZO(Indium zinc oxide)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 금속 산화물을 포함하는 금속 산화물 나노 입자인, 전자 시냅스 소자
4 4
제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 입자가, TiN, ZrN, NbN, CrN, VN, TaN, WN, AlN, GaN, InN 및 Si3O4로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 금속 질화물을 포함하는 금속 질화물 나노 입자인, 전자 시냅스 소자
5 5
제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 입자가, 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate, PMMA), 폴리에틸렌(polyethylene, PE), 폴리에틸렌이민(polyethylenimine, PEI), 폴리(3,4-에틸렌다이옥시싸이오펜)(poly(3,4-ethylenedioxythiophene), PEDOT), 폴리테트라풀루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene, PTFE), 폴리비닐리덴 플로라이드(polyvinylidene fluoride, PVDF) 및 폴리(바이닐페놀)(poly(vinylpheno), PVP)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 전도성 고분자를 포함하는 전도성 고분자 나노 입자인, 전자 시냅스 소자
6 6
제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 입자가, CdS 양자점, ZnSe 양자점, ZnS 양자점, CdSe 양자점, CdTe 양자점, PbS 양자점, PbSe 양자점, InP 양자점, GaAs 양자점, GaN 양자점, 그래핀 양자점, CNT 양자점, CH3NH3PbBr 페로브스카이트(perovskite) 양자점, WS2 양자점, MoS2 양자점, CsPbCl3 페로브스카이트(perovskite) 양자점, CuInS2 양자점, Cu2ZnSnS4 양자점, 코어-쉘(core-shell) 구조의 CdTe/ZnTe 양자점, 코어-쉘(core-shell) 구조의 Au/Al2O3 양자점, 코어-쉘(core-shell) 구조의 InP/GaAs 양자점, 코어-쉘(core-shell) 구조의 CdTe/CdZnTe 양자점, 코어-쉘-쉘(core-shell-shell) 구조의 CdSe/CdS/ZnS 양자점, 코어-쉘(core-shell) 구조의 CdSe/ZnS 양자점으로부터 선택된 1종 이상의 양자점인, 전자 시냅스 소자
7 7
제 1 항에 있어서,상기 단백질이 젤라틴(gelatin), 피브로인(fibroin), 세리신(cericin), 알부민(albumin), 페리틴(ferritin), 콜라겐(collagne) 및 리그닌(lignin)로 구성된 군에서 선택된 1종 이상인, 전자 시냅스 소자
8 8
제 1 항에 있어서,상기 전도성 나노 입자의 평균 입경이 5 내지 100nm인, 전자 시냅스 소자
9 9
제 1 항에 있어서,상기 매트릭스의 전체 체적 대비 상기 전도성 나노 입자의 전체 체적의 비가 5:1 내지 10:1인, 전자 시냅스 소자
10 10
제 1 항에 있어서,상기 활성층의 두께가 10 내지 1000nm인, 전자 시냅스 소자
11 11
제 1 항에 있어서,상기 활성층이 2층 또는 3층의 다층 구조를 갖는, 전자 시냅스 소자
12 12
제 1 항에 있어서,상기 전자 시냅스 소자가 인가되는 전압에 따라 저항이 변화되는 비휘발성 메모리 소자인, 전자 시냅스 소자
13 13
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항의 전자 시냅스 소자를 포함하는 뉴로모픽 장치
14 14
하부 전극을 형성하는 단계, 상기 하부 전극 상에 활성층을 형성하는 단계, 및 상기 활성층 상에 상부 전극을 형성하는 단계를 포함하는 전자 시냅스 소자의 제조 방법으로서,상기 활성층을 형성하는 단계는,단백질 용액을 준비하는 단계;상기 단백질 용액에 전도성 나노 입자를 혼합하여 혼합 용액을 얻는 단계; 및상기 하부 전극 상에 상기 혼합 용액을 코팅 또는 증착하는 단계를 포함하는, 전자 시냅스 소자의 제조 방법
15 15
제 14 항에 있어서,상기 코팅은 스핀 코팅(spin coating) 또는 스프레이 코팅(spray coating)이고, 상기 증착은 진공 열 증착(vacuum thermal evaporation)인, 전자 시냅스 소자의 제조 방법
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한양대학교 개인기초연구(과기정통부)(R&D) 지능형 뉴로모픽 소자와 인체친화적 발광 소자의 연구와 응용