[KST2014057858][광주과학기술원] |
문턱 스위칭 동작을 가지는 저항 변화 메모리 및 이의 제조방법 |
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[KST2014061900][광주과학기술원] |
선택 소자, 이를 포함하는 비휘발성 메모리 셀 및 이의 제조방법 |
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[KST2014062010][광주과학기술원] |
문턱 스위칭 동작을 가지는 저항 변화 메모리 및 이의 제조방법 |
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[KST2015174422][광주과학기술원] |
내부 저항을 포함하는 저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조방법 |
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[KST2014043378][광주과학기술원] |
비휘발성 저항 변화 메모리 소자의 제조 방법 |
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[KST2015174088][광주과학기술원] |
복층 블로킹 절연막을 갖는 플래시 메모리 소자의 제조방법및 이를 이용한 플래시 메모리 소자 |
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[KST2015174136][광주과학기술원] |
산화물막과 고체 전해질막을 구비하는 저항 변화 메모리소자, 및 이의 동작방법 |
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[KST2015174273][광주과학기술원] |
저항 변화 메모리 소자 및 저항 변화 메모리 소자 크로스 포인트 어레이 |
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[KST2015174351][광주과학기술원] |
그래핀을 이용한 저항 변화 메모리 소자 및 이의 동작방법 |
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[KST2014009788][광주과학기술원] |
반도체 양자점을 이용한 비휘발성 메모리 소자 |
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[KST2014043391][광주과학기술원] |
크로스포인트 구조를 갖는 저항변화메모리의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 크로스포인트 구조를 갖는 저항변화메모리 |
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[KST2015174003][광주과학기술원] |
에피택시 버퍼층을 이용한 비휘발성 기억소자 및 그제조방법 |
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[KST2015174305][광주과학기술원] |
저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조방법 |
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[KST2014061972][광주과학기술원] |
고압 수소 열처리를 이용한 나노선 전계효과 트랜지스터 메모리 소자 및 이의 제조 방법 |
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[KST2015174138][광주과학기술원] |
저항 변화 메모리 소자 및 저항변화 메모리 소자의 포밍방법 |
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[KST2015174139][광주과학기술원] |
카바이드계 고체 전해질막을 구비하는 저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조방법 |
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[KST2015174250][광주과학기술원] |
저항 변화 메모리 소자, 그 제조 방법 및 구동 방법 |
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[KST2015174306][광주과학기술원] |
3차원 저항 변화 메모리 소자, 이를 포함하는 저항 변화 메모리 소자 어레이 및 전자제품 |
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[KST2015174470][광주과학기술원] |
하이브리드형 저항성 메모리 소자, 그 작동 방법 및 그 제조 방법 |
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[KST2015174159][광주과학기술원] |
3차원 구조를 갖는 저항 변화 메모리 소자, 저항 변화 메모리 소자 어레이, 전자제품 및 상기 소자 제조방법 |
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[KST2015174193][광주과학기술원] |
비휘발성 저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조방법 |
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[KST2015174281][광주과학기술원] |
저온 고압 열처리를 이용한 저항변화메모리의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 저항변화메모리 |
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[KST2015011411][광주과학기술원] |
문턱 스위칭과 메모리 스위칭 특성을 동시에 갖는 저항 변화 메모리 소자, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 저항 변화 메모리 소자 어레이 |
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[KST2015174002][광주과학기술원] |
비휘발성 기억소자, 그 제조방법 및 그 제조장치 |
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[KST2015174097][광주과학기술원] |
비휘발성 저항변화 메모리 소자 |
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[KST2015174123][광주과학기술원] |
게이트 구조물에 가변 저항체를 가지는 저항변화 메모리 및이의 동작 방법 |
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[KST2015174041][광주과학기술원] |
비휘발성 메모리 소자 및 그 제조방법 |
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[KST2015174063][광주과학기술원] |
고압 수소 열처리를 통한 금속 나노크리스탈 메모리 소자제조 공정 |
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[KST2015174084][광주과학기술원] |
저온 고압 열처리를 이용한 비휘발성 메모리 제조방법 |
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[KST2015174184][광주과학기술원] |
메모리 소자 및 그 제조방법 |
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