맞춤기술찾기

이전대상기술

히터를 포함하는 저항 변화 메모리 소자, 이의 동작방법, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 전자제품

  • 기술번호 : KST2015174942
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 히터를 포함하는 저항 변화 메모리 소자, 이의 동작방법, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 전자제품을 제공한다. 상기 저항 변화 메모리 소자는 기판 상에 일 방향으로 배치된 제1 방향 데이터선을 구비한다. 상기 제1 방향 데이터선 상에 상기 제1 방향 데이터선에 교차하는 제2 방향 데이터선이 배치된다. 상기 한 쌍의 제1 방향 데이터선과 제2 방향 데이터선 사이에 히터가 위치한다. 상기 제1 방향 데이터선의 측벽과 상기 제2 방향 데이터선의 측벽을 노출시키는 콘택홀 내에 도전성 필라가 위치한다. 상기 콘택홀 내에 상기 도전성 필라를 둘러싸는 저항변화물질막이 위치한다.ReRAM, 히터, 동작속도
Int. CL H01L 21/8247 (2006.01) H01L 27/115 (2006.01)
CPC H01L 45/04(2013.01) H01L 45/04(2013.01) H01L 45/04(2013.01) H01L 45/04(2013.01)
출원번호/일자 1020090106823 (2009.11.06)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-1547606-0000 (2015.08.20)
공개번호/일자 10-2011-0050011 (2011.05.13) 문서열기
공고번호/일자 (20150827) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.11.05)
심사청구항수 11

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 황현상 대한민국 광주광역시 북구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0682748-53
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2014.11.05 수리 (Accepted) 1-1-2014-1067435-50
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.04.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0038406-21
6 등록결정서
Decision to grant
2015.08.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0559049-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 일 방향으로 배치된 제1 방향 데이터선;상기 제1 방향 데이터선 상에 상기 제1 방향 데이터선에 교차하는 제2 방향 데이터선;상기 한 쌍의 제1 방향 데이터선과 제2 방향 데이터선 사이에 위치하는 히터;상기 제1 방향 데이터선의 측벽과 상기 제2 방향 데이터선의 측벽을 노출시키는 콘택홀 내에 위치하는 도전성 필라; 및상기 콘택홀 내에 상기 도전성 필라를 둘러싸는 저항변화물질막을 포함하는 저항 변화 메모리 소자
2 2
제1항에 있어서,상기 히터는 TiN막, TiAlN막, W막, TiW막 또는 TaSiN막인 저항 변화 메모리 소자
3 3
제1항에 있어서,상기 도전성 필라의 측벽과 상기 저항변화물질막 사이, 또는 상기 저항변화물질막과 상기 데이터선들의 측벽들 사이에 위치하는 터널링 배리어 절연막을 더 포함하는 저항 변화 메모리 소자
4 4
제1항에 있어서,상기 저항변화물질막은 금속산화물막(transition metal oxide layer), PCMO(Pr1-XCaXMnO3, 0003c#X003c#1)막, 칼코게나이드(chalcogenide)막, 페로브스카이트(perovskite)막, 또는 금속도핑된 고체전해질막인 저항 변화 메모리 소자
5 5
제1항에 있어서,상기 저항변화물질막은 산소의 원자비가 화학양론비를 만족하는 값보다 작은 금속산화물막인 저항 변화 메모리 소자
6 6
제5항에 있어서,상기 저항변화물질막은 HfO2-x, ZrO2-x, Y2O3-x, TiO2-x, NiO1-y, Nb2O5-x, Ta2O5-x, CuO1-y, 또는 Fe2O3-x (0003c#x≤1
7 7
기판 상에 서로 평행하게 배열된 한 쌍의 제1 방향 데이터선들;상기 제1 방향 데이터선들 상에 상기 제1 방향 데이터선들에 교차하고 서로 평행하게 배열된 제2 방향 데이터선들;서로 교차하는 한 쌍의 제1 방향 데이터선과 제2 방향 데이터선 사이에 위치하는 히터들;상기 제1 방향 데이터선들의 서로 마주보는 한 쌍의 측벽들과 상기 제2 방향 데이터선의 서로 마주보는 한 쌍의 측벽들을 노출시키는 콘택홀 내에 위치하는 도전성 필라(conductive pillar); 및상기 콘택홀 내에 상기 도전성 필라를 둘러싸는 저항변화물질막을 포함하는 저항 변화 메모리 소자 어레이
8 8
기판 상에 일 방향으로 배치된 제1 방향 데이터선; 상기 제1 방향 데이터선 상에 상기 제1 방향 데이터선에 교차하는 제2 방향 데이터선; 상기 한 쌍의 제1 방향 데이터선과 제2 방향 데이터선 사이에 위치하는 히터; 상기 제1 방향 데이터선의 측벽과 상기 제2 방향 데이터선의 측벽을 노출시키는 콘택홀 내에 위치하는 도전성 필라; 및 상기 콘택홀 내에 상기 도전성 필라를 둘러싸는 저항변화물질막을 포함하는 저항 변화 메모리 소자를 제공하는 단계;상기 히터를 온(on)시킨 상태에서 상기 저항변화물질막의 저항을 변화시키는 단계를 포함하는 저항 변화 메모리 소자의 동작 방법
9 9
제8항에 있어서,상기 히터를 오프시킨 상태에서 상기 저항변화물질막에 흐르는 전류를 독출하는 저항 변화 메모리 소자의 동작 방법
10 10
기판 상에 제1 데이터 도전막 및 히터막을 차례로 형성하는 단계;상기 히터막 및 상기 제1 데이터 도전막을 패터닝하여 기판 상에 차례로 적층된 제1 방향 데이터선 및 히터를 형성하는 단계;상기 히터 상에 배선간 절연막을 형성하고 상기 배선간 절연막을 상기 히터의 상부면이 노출될 때까지 평탄화하는 단계;상기 히터 및 상기 배선간 절연막 상에 제2 데이터 도전막을 형성하는 단계;상기 제2 데이터 도전막을 패터닝하여 상기 제1 방향 데이터선에 교차하는 제2 방향 데이터선을 형성하는 단계;상기 제2 방향 데이터선에 인접하여 노출된 상기 히터를 식각하여 상기 히터를 상기 제1 방향 데이터선과 상기 제2 방향 데이터선 사이로 한정하는 단계;상기 배선간 절연막 내에 상기 제1 방향 데이터선의 측벽과 상기 제2 방향 데이터선의 측벽을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계;상기 콘택홀의 측벽 상에 저항변화물질막을 형성하는 단계; 및상기 콘택홀 내에 상기 저항변화물질막에 의해 둘러싸여진 도전성 필라를 형성하는 단계를 포함하는 저항 변화 메모리 소자 제조방법
11 11
저항 변화 메모리 소자 및 이에 접속된 프로세서를 구비하는 전자제품에 있어서, 상기 저항 변화 메모리 소자는기판 상에 일 방향으로 배치된 제1 방향 데이터선;상기 제1 방향 데이터선 상에 상기 제1 방향 데이터선에 교차하는 제2 방향 데이터선;상기 한 쌍의 제1 방향 데이터선과 제2 방향 데이터선 사이에 위치하는 히터;상기 제1 방향 데이터선의 측벽과 상기 제2 방향 데이터선의 측벽을 노출시키는 콘택홀 내에 위치하는 도전성 필라; 및상기 콘택홀 내에 상기 도전성 필라를 둘러싸는 저항변화물질막을 포함하는 전자제품
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 광주과학기술원 산업기술개발사업 고신뢰성 ReRAM 소자개발