요약 | 파워 게이팅을 이용한 저전력 반도체 장치는 가상 공급 전압과 제1 공급 전압을 공급받아 동작하는 표준 셀 및 제2 공급 전압으로부터 상기 가상 전압을 생성하여 제어 신호에 따라 상기 표준 셀에 공급하는 파워 게이팅 셀을 포함한다. 이때, 상기 가상 공급 전압은 제1 메탈 레이어를, 상기 제1 공급 전압은 제1 메탈 레이어를, 상기 제2 공급 전압은 제3 메탈 레이어를 이용하여 공급되며, 상기 제3 메탈 레이어는 상기 파워 게이팅 셀의 상부에 배치된다. 이때, 상기 파워 게이팅 셀은 전류 스위칭용 트랜지스터를 각각 포함하는 적어도 하나의 슬라이스 블록과, 상기 슬라이스 블록의 양측에 배치되어 상기 슬라이스 블록을 외부와 절연시키는 아이솔레이터 블록들을 포함할 수 있다. |
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Int. CL | H01L 21/8228 (2006.01) H01L 27/092 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020060042341 (2006.05.11) |
출원인 | 한국과학기술원 |
등록번호/일자 | 10-0780750-0000 (2007.11.23) |
공개번호/일자 | 10-2007-0109415 (2007.11.15) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20071130) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2006.05.11) |
심사청구항수 | 18 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 신영수 | 대한민국 | 대전 유성구 |
2 | 김형옥 | 대한민국 | 서울 송파구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 박영우 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 논현로 ***, *층 **세기특허법률사무소 (역삼동, 세일빌딩) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술원 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 Patent Application |
2006.05.11 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0329443-94 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2007.03.12 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2007.04.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2007-0019373-46 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2007.05.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0278954-19 |
5 | 의견서 Written Opinion |
2007.06.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0439240-69 |
6 | 명세서등보정서 Amendment to Description, etc. |
2007.06.18 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0439185-45 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2007.11.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0619466-94 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 가상 전압 레일을 통해 가상 공급 전압을 공급받고 제1 전압 레일을 통해 제1 공급 전압을 공급받아 동작하는 동작 회로를 가지는 표준 셀; 및제2 공급 전압이 공급되는 제2 전압 레일과 상기 가상 전압 레일 사이를 제어 신호에 따라 전기적으로 연결하거나 차단하도록 구성된 파워 게이팅 셀을 포함하며,상기 가상 전압 레일은 제1 메탈 레이어를 이용하고, 상기 제1 전압 레일은 제1 메탈 레이어를 이용하며, 상기 제2 전압 레일은 제3 메탈 레이어를 이용하고, 상기 제2 전압 레일은 상기 파워 게이팅 셀의 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
2 |
2 제1항에 있어서, 상기 동작 회로는 제1 문턱 전압을 가진 모스(MOS) 트랜지스터들을 포함하고, 상기 파워 게이팅 셀은 상기 제1 문턱 전압보다 높은 제2 문턱 전압을 가진 모스 트랜지스터들을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
3 |
3 제1항에 있어서, 상기 제1 전압 레일은 상기 제1 공급 전압을 공급하고, 상기 제2 전압 레일은 상기 제1 공급 전압보다 높은 상기 제2 공급 전압을 공급하며, 상기 파워 게이팅 셀은 헤더(header) 타입인 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
4 |
4 제1항에 있어서, 상기 제1 전압 레일은 상기 제1 공급 전압을 공급하고, 상기 제2 전압 레일은 상기 제1 공급 전압보다 낮은 상기 제2 공급 전압을 공급하며, 상기 파워 게이팅 셀은 푸터(footer) 타입인 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
5 |
5 제1항에 있어서, 상기 제1 공급 전압과 제2 공급 전압을 공급받아 동작하는 기능 셀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
6 |
6 가상 고전압 레일을 통해 가상 고전압을 공급받고 가상 기저전압 레일을 통해 가상 기저전압을 공급받아 동작하는 동작 회로를 가지는 표준 셀;고전압이 공급되는 고전압 레일과 상기 가상 고전압 레일 사이를 제어 신호에 따라 전기적으로 연결하거나 차단하도록 구성된 제1 파워 게이팅 셀; 및기저전압이 공급되는 기저전압 레일과 상기 가상 기저전압 레일 사이를 상기 제어 신호의 반전된 신호에 따라 전기적으로 연결하거나 차단하도록 구성된 제2 파워 게이팅 셀을 포함하며,상기 가상 고전압 레일은 제1 메탈 레이어를 이용하고, 상기 가상 기저전압 레일은 제1 메탈 레이어를 이용하며, 상기 고전압 레일은 제3 메탈 레이어를 이용하고, 상기 기저전압 레일은 제4 메탈 레이어를 이용하며, 상기 고전압 레일은 제1 파워 게이팅 셀의 상부에 배치되고 및 상기 기저전압 레일은 상기 제2 파워 게이팅 셀의 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
7 |
7 제6항에 있어서, 상기 동작 회로는 제1 문턱 전압을 가진 모스 트랜지스터들을 포함하고, 상기 제1 및 제2 파워 게이팅 셀은 상기 제1 문턱 전압보다 높은 제2 및 제3 문턱 전압을 가진 모스 트랜지스터들을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
8 |
8 제6항에 있어서, 상기 고전압 및 기저전압을 공급받아 동작하는 기능 셀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
9 |
9 제1 전극에서 제1 공급 전압 레일과 컨택하며, 제2 전극에서 가상 공급 전압 레일과 컨택하며 제2 공급 전압 레일과는 컨택하지 않는 트랜지스터를 각각 포함하는 적어도 하나의 슬라이스 블록;상기 슬라이스 블록의 일측에 배치되어 상기 슬라이스 블록을 외부와 절연시키는 제1 아이솔레이터 블록; 및상기 슬라이스 블록의 다른 일측에 상기 슬라이스 블록을 외부와 절연시키는 제2 아이솔레이터 블록을 포함하는 파워 게이팅 셀 |
10 |
10 제9항에 있어서, 상기 제1 공급 전압 레일은 제1 공급 전압을 공급하고, 상기 제2 공급 전압 레일은 상기 제1 공급 전압보다 낮은 제2 공급 전압을 공급하며, 상기 슬라이스 블록은 피모스(PMOS) 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 파워 게이팅 셀 |
11 |
11 제9항에 있어서, 상기 제1 공급 전압 레일은 제1 공급 전압을 공급하고, 상기 제2 공급 전압 레일은 상기 제1 공급 전압보다 높은 제2 공급 전압을 공급하며, 상기 슬라이스 블록은 엔모스(NMOS) 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 파워 게이팅 셀 |
12 |
12 가상 전압 레일을 통해 가상 공급 전압을 공급받고 제1 전압 레일을 통해 제1 공급 전압을 공급받아 동작하는 동작 회로를 가지는 표준 셀; 및제1 전극에서 제2 전압 레일과 컨택하며 제2 전극에서 상기 가상 전압 레일과 컨택하고 제어 신호에 따라 상기 제2 전압 레일과 상기 가상 전압 레일을 전기적으로 연결하거나 차단하는 트랜지스터를 각각 포함하는 적어도 하나의 슬라이스 블록, 상기 슬라이스 블록의 일측에 배치되어 상기 슬라이스 블록을 외부와 절연시키는 제1 아이솔레이터 블록 및 상기 슬라이스 블록의 다른 일측에 상기 슬라이스 블록을 외부와 절연시키는 제2 아이솔레이터 블록을 가지는 파워 게이팅 셀을 포함하며, 상기 가상 전압 레일은 제1 메탈 레이어를 이용하고, 상기 제1 전압 레일은 제1 메탈 레이어를 이용하며, 상기 제2 전압 레일은 제3 메탈 레이어를 이용하고, 상기 제2 전압 레일은 상기 파워 게이팅 셀의 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
13 |
13 제12항에 있어서, 상기 동작 회로는 제1 문턱 전압을 가진 모스 트랜지스터들을 포함하고, 상기 파워 게이팅 셀은 상기 제1 문턱 전압보다 높은 제2 문턱 전압을 가진 모스 트랜지스터들을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
14 |
14 제12항에 있어서, 상기 제1 전압 레일은 상기 제1 공급 전압을 공급하고, 상기 제2 전압 레일은 상기 제1 공급 전압보다 높은 제2 공급 전압을 공급하며, 상기 파워 게이팅 셀은 헤더 타입인 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
15 |
15 제12항에 있어서, 상기 제1 전압 레일은 상기 제1 공급 전압을 공급하고, 상기 제2 전압 레일은 상기 제1 공급 전압보다 낮은 제2 공급 전압을 공급하며, 상기 파워 게이팅 셀은 푸터 타입인 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
16 |
16 가상 고전압 레일을 통해 가상 고전압을 공급받고 가상 기저전압 레일을 통해 가상 기저전압을 공급받아 동작하는 동작 회로를 가지는 표준 셀;제1 전극에서 고전압 레일과 컨택하며 제2 전극에서 상기 가상 고전압 레일과 컨택하고 제어 신호에 따라 상기 고전압 레일과 상기 가상 고전압 레일을 전기적으로 연결하거나 차단하는 피모스 트랜지스터를 각각 포함하는 적어도 하나의 제1 슬라이스 블록, 상기 제1 슬라이스 블록의 일측에 배치되어 상기 제1 슬라이스 블록을 외부와 절연시키는 제1 아이솔레이터 블록 및 상기 제1 슬라이스 블록의 다른 일측에 상기 제1 슬라이스 블록을 외부와 절연시키는 제2 아이솔레이터 블록을 가지는 제1 파워 게이팅 셀; 및제1 전극에서 기저전압 레일과 컨택하며 제2 전극에서 상기 가상 기저전압 레일과 컨택하고 상기 제어 신호의 반전 신호에 따라 상기 기저전압 레일과 상기 가상 기저전압 레일을 전기적으로 연결하거나 차단하는 엔모스 트랜지스터를 각각 포함하는 적어도 하나의 제2 슬라이스 블록, 상기 제2 슬라이스 블록의 일측에 배치되어 상기 제2 슬라이스 블록을 외부와 절연시키는 제3 아이솔레이터 블록 및 상기 제2 슬라이스 블록의 다른 일측에 상기 제2 슬라이스 블록을 외부와 절연시키는 제4 아이솔레이터 블록을 가지는 제2 파워 게이팅 셀을 포함하며,상기 가상 고전압 레일은 제1 메탈 레이어를 이용하고, 상기 가상 기저전압 레일은 제1 메탈 레이어를 이용하며, 상기 고전압 레일은 제3 메탈 레이어를 이용하고, 상기 기저전압 레일은 제4 메탈 레이어를 이용하며, 상기 고전압 레일은 제1 파워 게이팅 셀의 상부에 배치되고 및 상기 기저전압 레일은 상기 제2 파워 게이팅 셀의 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
17 |
17 제16항에 있어서, 상기 동작 회로는 제1 문턱 전압을 가진 모스 트랜지스터들을 포함하고, 상기 제1 및 제2 파워 게이팅 셀은 상기 제1 문턱 전압보다 높은 제2 및 제3 문턱 전압을 가진 모스 트랜지스터들을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 |
18 |
18 표준 셀 및 파워 게이팅 셀을 가지는 반도체 장치에 적합한 파워 네트워크에 있어서, 제1 메탈 레이어를 이용하며 표준 셀에 가상 공급 전압을 공급하고, 상기 표준 셀 및 파워 게이팅 셀의 상부에 배치되는 가상 전압 레일;제1 메탈 레이어를 이용하여 상기 표준 셀에 제1 공급 전압을 공급하고, 상기 표준 셀의 상부에 배치되는 제1 전압 레일; 및제3 메탈 레이어를 이용하여 상기 파워 게이팅 셀에 제2 공급 전압을 공급하고, 상기 파워 게이팅 셀의 상부에 배치되는 제2 전압 레일을 포함하며,상기 표준 셀은 제1 문턱 전압을 가진 모스 트랜지스터들로 구현되고, 상기 파워 게이팅 셀은 상기 제1 문턱 전압보다 높은 제2 문턱 전압을 가진 모스 트랜지스터들을 이용하여 제어 신호에 따라 상기 가상 전압 레일과 상기 제2 전압 레일을 전기적으로 연결하거나 차단하도록 구성된 것을 특징으로 하는 파워 네트워크 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US07755396 | US | 미국 | FAMILY |
2 | US20080012424 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2008012424 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
2 | US7755396 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-0780750-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20060511 출원 번호 : 1020060042341 공고 연월일 : 20071130 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20071121 청구범위의 항수 : 18 유별 : H01L 27/092 발명의 명칭 : 표준 셀과 파워 게이팅 셀을 이용한 파워 네트워크 및 이를가지는 반도체 장치 존속기간(예정)만료일 : 20131124 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전 유성구... |
2 |
(권리자) (재)연구개발특구진흥재단 대전광역시 유성구... |
2 |
(의무자) 한국과학기술원 대전 유성구... |
3 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
3 |
(의무자) (재)연구개발특구진흥재단 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 526,500 원 | 2007년 11월 26일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 436,000 원 | 2010년 11월 01일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 436,000 원 | 2011년 11월 02일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 436,000 원 | 2012년 01월 11일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 | 2006.05.11 | 수리 (Accepted) | 1-1-2006-0329443-94 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2007.03.12 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2007.04.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2007-0019373-46 |
4 | 의견제출통지서 | 2007.05.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0278954-19 |
5 | 의견서 | 2007.06.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0439240-69 |
6 | 명세서등보정서 | 2007.06.18 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2007-0439185-45 |
7 | 등록결정서 | 2007.11.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2007-0619466-94 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
기술번호 | KST2014065495 |
---|---|
자료제공기관 | 미래기술마당 |
기술공급기관 | 한국과학기술원 |
기술명 | 표준 셀과 파워 게이팅 셀을 이용한 파워 네트워크 및 이를가지는 반도체 장치 |
기술개요 |
파워 게이팅을 이용한 저전력 반도체 장치는 가상 공급 전압과 제1 공급 전압을 공급받아 동작하는 표준 셀 및 제2 공급 전압으로부터 상기 가상 전압을 생성하여 제어 신호에 따라 상기 표준 셀에 공급하는 파워 게이팅 셀을 포함한다. 이때, 상기 가상 공급 전압은 제1 메탈 레이어를, 상기 제1 공급 전압은 제1 메탈 레이어를, 상기 제2 공급 전압은 제3 메탈 레이어를 이용하여 공급되며, 상기 제3 메탈 레이어는 상기 파워 게이팅 셀의 상부에 배치된다. 이때, 상기 파워 게이팅 셀은 전류 스위칭용 트랜지스터를 각각 포함하는 적어도 하나의 슬라이스 블록과, 상기 슬라이스 블록의 양측에 배치되어 상기 슬라이스 블록을 외부와 절연시키는 아이솔레이터 블록들을 포함할 수 있다. |
개발상태 | 유사환경 테스트 |
기술의 우수성 |
1) Technology Platform
- 일반 표준 셀과, 간편하게 설계할 수 있는 파워 게이팅 셀을 이용한 반도체 장치를 제공하는 것을 목적으로 함 - 표준 셀과 상기 파워 게이팅 셀에 전원을 공급할 파워 네트워크를 제공하는 것을 목적으로 함 - 간편하게 설계할 수 있는 파워 게이팅 셀을 제공하는 것을 목적으로 함 2) Discovery and Achievements - 다양한 크기를 갖는 헤더 타입 또는 푸터 타입의 파워 게이팅 셀을 쉽게 설계할 수 있음. 또, 본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 상기 파워 게이팅셀의 상부에 가상 전압 레일들이 사용하지 않는 메탈 레이어를 이용한 고전압 레일 또는 기저전압 레일을 배치함으로써, 일반 표준 셀을 그대로 이용하여 전력소모가 작은 반도체 장치 또는 파워 네트워크를 쉽게 설계 할 수 있음 - 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것임 |
응용분야 | |
시장규모 및 동향 |
시장규모 현황 및 성장률 전망 - 시스템 반도체는 메모리 반도체 시장의 약 4배 규모이며, 부가가치가 높고 메모리 반도체에 비해 가격이 안정적인 것이 특징임 - 반도체 산업의 분업과 협업이 가속화되면서 설계분야에 특화된 팹리스 산업의 경쟁력이 전자, 자동차, 휴대폰 등과 같은 세프 제품의 경쟁력 및 시스템 반도체 성장의 중요한 변수로 작용할 전망임 |
희망거래유형 | |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1340011610 |
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세부과제번호 | 과C6A1610 |
연구과제명 | 정보기술사업단 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
성과제출연도 | 2006 |
연구기간 | 200603~201202 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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